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本发明提供一种掩膜板，用于对光敏材料层进行曝光，所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域，所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域，其中，所述遮光区...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司授权不得商用。