压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及制作方法技术

本发明专利技术是一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及其制造方法，喷嘴包括喷嘴主体，所述喷嘴主体顶部设置有喷嘴细缝，所述喷嘴主体底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽；所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料。制作方法包括步骤：加工喷嘴胚体，将氮化硼或氮化硼和碳化硅复合材料的块状坯料制做成具有喷嘴主体和类梯形槽的喷嘴胚体；喷嘴宽缝加工，在喷嘴胚体底侧内部沿长度方向中心位置进行喷嘴宽缝的机械加工；喷嘴细缝加工，在喷嘴胚体顶部外侧沿长度方向中心位置进行多条喷嘴细缝的机械加工，得到要求尺寸和形状的喷嘴。该申请使其喷嘴耐磨损，生产简单方便、加工设备不易损坏，实现非晶纳米晶薄带多条直喷工艺。

【技术实现步骤摘要】
压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及制作方法
本专利技术涉及压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带设备
，更具体的，是一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴。
技术介绍
非晶纳米晶是一种金属合金，但是由于其特殊的工艺将其变成了非晶态，所以非晶又被叫做玻璃金属。而纳米晶是在非晶的基础上其尺寸大小为纳米级别，非晶纳米晶是非晶和纳米晶的混合体。非晶及纳米晶材料作为一种新型材料在我们国家被使用的时间还不是很长，随着其性能优越、环保低碳、高效节能等优势的不断体现，近几年来越来越受到国家和市场的重视。目前其使用的领域已经不断深入到家电、电力、军工、通讯、医疗等诸多行业。随着生活水平的不断提高，电器产品不断向小型化、环保化、节能化方向发展，前几年按照常规的重力法生产的非晶带材已不能满足目前电器产品的高性能的要求，因在制带过程中带材的密度、厚度、宽度等因素受到生产条件的影响而引起很大的波动。生产中液体经由喷嘴中挤出，高质量的喷嘴对其有重要的影响，但是喷嘴细缝的磨损较高，并且其生产过程中，由于其加工厚度较大且较窄，加工设备容易损坏。
技术实现思路
本申请意在提出一种适用于压力制带设备生产多条非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及其制造方法，使其喷嘴耐磨损，且生产简单方便、加工设备不易损坏。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，包括喷嘴主体，所述喷嘴主体顶部设置有喷嘴细缝，所述喷嘴主体底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽；所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料。进一步的，同一喷嘴主体上有至少一个喷嘴细缝。进一步的，不同喷嘴细缝的长度尺寸可以相同或不同。压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴的制作方法，包括步骤：加工喷嘴胚体，将氮化硼或氮化硼和碳化硅复合材料的块状坯料制做成具有喷嘴主体和类梯形槽的喷嘴胚体；喷嘴宽缝加工，在喷嘴胚体底侧内部沿长度方向中心位置进行喷嘴宽缝的机械加工；喷嘴细缝加工，在喷嘴胚体顶部外侧沿长度方向中心位置进行喷嘴细缝的机械加工，得到要求尺寸和形状的喷嘴。进一步的，加工喷嘴胚体采用精密数控铣床加工制造出喷嘴主体和类梯形槽胚体。进一步的，加工喷嘴宽缝、喷嘴细缝采用精密数控铣床。进一步的，所述喷嘴主体长度60～70mm，宽度12-14mm，高度14-15mm；类梯形槽上沿宽6.0-6.5mm，下沿宽5.0-5.5mm，深11.0～11.5mm。进一步的，喷嘴宽缝加工中所述喷嘴宽缝长度为45～45-55mm，宽度0.8-1.2mm，深度0.5～1mm。进一步的，喷嘴细缝加工中，喷嘴细缝长度为5～12mm，宽度0.25-0.4mm，深度2～2.5mm。本申请的有益效果：本申请所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料，喷嘴耐磨损。本申请在喷嘴的制作方法中，先在喷嘴主体顶面的内侧中央位置，沿长度方向，加工一个喷嘴宽缝，然后再在喷嘴主体顶面的外侧中央位置，沿长度方向，加工喷嘴细缝。生产简单方便、数控铣床铣刀不易损坏。附图说明图1为本申请的一个实施例的俯视结构示意图；图2为本申请的一个实施例的仰视结构示意图；图3为本申请的一个实施例的主视结构示意图；图4为本申请的一个实施例的左视结构示意图；图5为本申请的一个实施例的喷嘴宽缝加工后仰视结构示意图。图中：喷嘴主体1类梯形槽下沿2类梯形槽上沿3类梯形槽4喷嘴细缝5喷嘴宽缝6。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅附图，本申请公开了一种适用于压力制带设备生产多条非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及其制造方法，使其喷嘴耐磨损，且生产简单方便、加工设备不易损坏。一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，包括喷嘴主体1，所述喷嘴主体1顶部设置有喷嘴细缝5，所述喷嘴主体1底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽4；该类梯形槽4具有类梯形槽上沿3和类梯形槽下沿2。为了提高喷嘴主体1的强度和耐高温耐磨耐腐性能，所述喷嘴主体1采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料。同一喷嘴主体1上有至少一个喷嘴细缝5，也可以设置多个喷嘴细缝5，不同喷嘴细缝的长度尺寸可以相同或不同。压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴的制作方法，包括步骤：加工喷嘴胚体，将氮化硼或氮化硼和碳化硅复合材料的块状坯料制做成具有喷嘴主体1和类梯形槽4的喷嘴胚体；加工喷嘴胚体采用精密数控铣床加工制造出喷嘴主体1和类梯形槽4胚体。喷嘴宽缝加工，在喷嘴胚体底侧内部沿长度方向中心位置进行喷嘴宽缝的机械加工，加工喷嘴宽缝采用精密数控铣床。喷嘴细缝加工，在喷嘴胚体顶部外侧沿长度方向中心位置进行喷嘴细缝的机械加工，得到要求尺寸和形状的喷嘴，加工喷嘴细缝采用精密数控铣床。喷嘴主体长度60～70mm，宽度12-14mm，高度14-15mm；类梯形槽上沿宽6.0-6.5mm，下沿宽5.0-5.5mm，深11.0～11.5mm。喷嘴宽缝加工中所述喷嘴宽缝长度为45～45-55mm，宽度0.8-1.2mm，深度0.5～1mm。喷嘴细缝加工中，喷嘴细缝长度为5～12mm，宽度0.25-0.4mm，深度2～2.5mm。在现有的喷嘴的制作方法中，是在喷嘴胚体上直接加工喷嘴细缝的。由于喷嘴细缝的长度相对较长而宽度相对较窄，而且喷嘴细缝的厚度相对较深。利用精密数控铣床进行喷嘴细缝的加工时，铣床的进刀量过深而过窄，铣刀非常容易出现断刀现象。为了防止铣刀断刀现象，就需要控制每次的进刀量较小，但是就会造成加工时间过长。另外，由于喷嘴细缝的厚度相对较深，在进行很多次的铣刀加工后，喷嘴主体靠近喷嘴细缝处的抗压强度不可避免的降低。多次铣嘴缝不会影响嘴缝周边的强度；宽缝加工深度过大，喷嘴底部抗压强度会降低些，但保证至少2.0mm的底厚能够满足喷带要求。本申请在喷嘴的制作方法中，先在喷嘴主体顶面的内侧中央位置，沿长度方向，加工一个喷嘴宽缝，然后再在喷嘴主体顶面的外侧中央位置，沿长度方向，加工喷嘴细缝。如此可以减小喷嘴细缝的厚度。利用精密数控铣床进行喷嘴细缝的加工时，铣床的进刀量减小，经过我公司大量的生产时间，铣刀出现断刀现象的几率大幅度降低。由于在喷嘴细缝的厚度相对减小的情况下，每次进刀量增大，铣刀加工时间减小，节约加工时间。对于本领域的普通技术人员而言，上述已经展示和描述了本专利技术的实施例，就实现上述所述的功能技术特点，在程序编程和技术运算实现层面都不存在难度，对于可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，包括喷嘴主体，其特征在于，所述喷嘴主体顶部设置有喷嘴细缝，所述喷嘴主体底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽；所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，包括喷嘴主体，其特征在于，所述喷嘴主体顶部设置有喷嘴细缝，所述喷嘴主体底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽；所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和碳化硅复合材料。


2.根据权利要求1所述的一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，其特征在于，同一喷嘴主体上有至少两个喷嘴细缝。


3.根据权利要求2所述的一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴，其特征在于，不同喷嘴细缝的长度尺寸可以相同或不同。


4.一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴的制作方法，其特征在于，包括步骤：
加工喷嘴胚体，将氮化硼或氮化硼和碳化硅复合材料的块状坯料制做成具有喷嘴主体和类梯形槽的喷嘴胚体；
喷嘴宽缝加工，在喷嘴胚体底侧内部沿长度方向中心位置进行喷嘴宽缝的机械加工；
喷嘴细缝加工，在喷嘴胚体顶部外侧沿长度方向中心位置进行多条喷嘴细缝的机械加工，得到要求尺寸和形状的喷嘴。


5.根据权利要求4所述的一种压力制带生产...

【专利技术属性】
技术研发人员：李广文，张联防，杨昊，杨双涛，
申请(专利权)人：河北锴盈新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13