一种可弯折使用的电磁屏蔽膜制造技术

技术编号:25113602 阅读:20 留言:0更新日期:2020-08-01 00:11
本实用新型专利技术公开了一种可弯折使用的电磁屏蔽膜及其制备方法,属于电磁屏蔽技术领域,所述可弯折使用的电磁屏蔽膜包括离型载体膜、涂布于离型载体膜上的第一绝缘层、涂布于第一绝缘层上的第二绝缘层、贴合于第二绝缘层上的金属箔屏蔽层、设于金属箔屏蔽层上的胶黏剂层和贴合于胶黏剂层上的离型保护膜。最终得到的电磁屏蔽膜具有高屏蔽效能、耐溶剂擦拭性能和耐回流焊接性能。

【技术实现步骤摘要】
一种可弯折使用的电磁屏蔽膜
本技术属于电磁屏蔽
,具体涉及一种可弯折使用的电磁屏蔽膜。
技术介绍
电磁屏蔽膜是一种可以阻挡电磁波穿透、防止电磁辐射、保护电子信息不泄露并且能够抗电磁干扰的新型电磁屏蔽材料,能够有效防止电磁波对人体的伤害,并屏蔽电磁辐射对电子设备的干扰,保证设备正常工作,同时,由于阻挡了电磁信号的传输,还可以确保电子信息不被泄露和窃取。挠性线路板(FlexiblePrintedCircuitBoard,缩写FPC)作为电子器件中的连接线,主要起到导通电流和传输信号的作用。当信号传输线分布在FPC最外层时,为了避免信号传输过程受到电磁干扰而引起信号失真,FPC在压合覆盖膜后再压合一层电磁屏蔽膜,起到屏蔽外面电磁干扰的作用。随着高频高速5G时代的到来以及可穿戴设备的发展,对电磁屏蔽膜材料提出了更高的要求。目前的电子信息设备主要使用的电磁屏蔽膜屏蔽层为金属镀层,主要包括铜镀层、银镀层、镍镀层等。然而,使用金属镀层作为屏蔽层的电磁屏蔽膜的屏蔽效能通常在60dB值左右,难以达到5G通讯电子设备80dB以上屏蔽效能的要求。为了提高电磁屏蔽膜的屏蔽效能,可以增加屏蔽层的数量,获得具有两个或两个以上屏蔽层的电磁屏蔽膜。中国专利技术专利申请CN102711428A(一种高屏蔽效能的极薄屏蔽膜及其制作方法)提供了一种高屏蔽效能的极薄屏蔽膜,包括了两层以上实心屏蔽层。该屏蔽膜能够多次反射和吸收高频干扰信号,同时将多余电荷导入接地层,实现高屏蔽效能。但是使用该技术后,屏蔽膜的屏蔽效能依然只有60dB以上。中国专利技术专利申请CN104853576A(超高屏蔽性能的电磁屏蔽膜及其生产工艺)提供了一种超高屏蔽效能的电磁屏蔽膜,包括一次排布的载体层、绝缘层、第一金属层、第一胶层、第二金属层、第二导电胶层及保护层,其中第一金属层为电镀金属层,第二金属层填充于第一胶层的网状孔隙中。该技术提供的电磁屏蔽膜的电磁屏蔽值可达到75dB以上,但是仍无法超过80dB。另一种提高屏蔽效能的方法是使用超薄金属箔。超薄金属箔具有更高的导电性能,并且厚度也比点镀金属层大,因此可以获得很高的屏蔽效能。然而,对于电磁屏蔽膜而言,将其用于通讯电子设备时可能存在如下问题:1.通讯电子设备中的FPC在制程中需要使用溶剂进行清洗,因此要求电磁屏蔽膜中各种材料具有良好的耐溶剂擦拭性能,而现有技术中的胶层耐溶剂擦拭性能较差;2.在压合(条件例如180℃,10MPa,2min)FPC时,容易在铜线边缘(段差处)被压断,从而漏出金属屏蔽层。3.在将电磁屏蔽膜用于通讯电子设备中时,需要进行回流焊接,因此也要求电磁屏蔽膜具有较高的回流焊接性能,而现有技术中的基体树脂为热塑性树脂,不耐回流焊接。
技术实现思路
本技术欲解决的技术问题是现有技术中的电磁屏蔽膜用于通讯电子设备时不耐溶剂擦拭、不耐回流焊接等技术问题。为了解决上述技术问题,本技术公开了一种可弯折使用的电磁屏蔽膜及其制备方法,其中可弯折使用的电磁屏蔽膜包括离型载体膜、涂布于离型载体膜上的第一绝缘层、涂布于第一绝缘层上的第二绝缘层、贴合于第二绝缘层上的金属箔屏蔽层、设于金属箔屏蔽层上的胶黏剂层和贴合于胶黏剂层上的离型保护膜;进一步地,所述离型载体膜厚度为25-125μm,第一绝缘层厚度为2-5μm,第二绝缘层厚度为3-10μm,金属箔屏蔽层的厚度为2-8μm,胶黏剂层厚度为5-15μm,离型保护膜的厚度为30-80μm。更进一步地,所述离型载体膜厚度为50μm,第一绝缘层厚度为3μm,第二绝缘层厚度为8μm,金属箔屏蔽层的厚度为6μm,胶黏剂层厚度为13μm,离型保护膜的厚度为60μm。其中,所述离型载体膜为PET型哑光离型膜;金属箔屏蔽层为超薄金属箔层,具体为电解铜箔或压延铜箔,厚度为2-8μm;离型保护膜为PET离型膜或微粘膜。所述第一绝缘层为环氧树脂,所述环氧树脂由环氧树脂预聚物、固化剂、颜料、添加剂A经化学反应得到;以质量份计,所述环氧树脂预聚物为30-65份,固化剂为15-35份,颜料为5-15份,添加剂A为5-25份。第一绝缘层为黑色,厚度为2-5μm,其中环氧树脂预聚物包括但不局限于双酚A型环氧树脂预聚物、双酚F型环氧树脂预聚物、酚醛型环氧树脂预聚物、双酚S型环氧树脂预聚物、海因型环氧树脂预聚物、双酚芴型环氧树脂预聚物、联苯型环氧树脂预聚物、脂环族环氧树脂预聚物中的一种或几种的混合物。固化剂包括芳香胺(对二氨基二苯砜、对二氨基二苯基甲烷、间苯二胺)、脂环胺(异佛尔酮二胺、1,2-环己二胺、氢化对二氨基二苯基甲烷)、酚醛(苯酚型、邻甲酚甲醛型、双酚A甲醛型、苯酚芳烷基型、双环戊二烯型)、聚酰胺、聚醚胺中的一种或几种的混合物。所述颜料为炭黑。进一步地,所述添加剂A包括分散剂(改性聚氨酯、改性聚丙烯酸酯、酰胺聚合物)、增韧剂(丁腈橡胶、含羧基丁腈橡胶、聚氨酯、聚丙烯酸酯等)、增稠剂(气相二氧化硅、纤维素类、聚丙烯酸酯、缔合型聚氨酯)、附着力促进剂(有机硅类、丙烯酸类、氟碳化合物类)、偶联剂(γ-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷等)中的一种或几种的混合物。所述第二绝缘层为聚氨酯树脂,所述聚氨酯树脂由含羟基的预聚物、异氰酸酯类固化剂、颜料、添加剂B经化学反应得到;其中颜料为炭黑,以质量份计,所述含羟基的预聚物为45-80份、异氰酸酯类固化剂为2-15份、颜料为5-15份、添加剂B为5-15份。第二绝缘层为黑色,厚度为3-10μm。进一步地,所述含羟基的预聚物包括聚酯树脂和聚醚多元醇的混合物、或线性聚氨酯树脂中的一种或两种,其中聚酯树脂可选用日本东洋纺的VYLON226、VYLON885、VYLONGK-810等;聚醚多元醇可选用陶氏化学的VOANOL4240、VOANOLCP4701、VOANOLCP6001等;线性聚氨酯树脂可选用日本东洋纺的VYLONUR4410等。含羟基的预聚物中羟基含量为10-90mgKOH/g;所述异氰酸酯类固化剂包括对二异氰酸酯二苯基甲烷(MDI)、甲苯二异氰酸酯(TDI)、六亚甲基二异氰酸酯、上述三种异氰酸酯的低聚物、上述三种异氰酸酯的封端改性化合物或其低聚物的封端改性化合物中的一种或几种的组合物。进一步地,所述添加剂B包括分散剂(改性聚氨酯、改性聚丙烯酸酯、酰胺聚合物)、增稠剂(气相二氧化硅、纤维素类、聚丙烯酸酯、缔合型聚氨酯)、附着力促进剂(有机硅类、丙烯酸类、氟碳化合物类)、偶联剂(γ-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷等)中的一种或几种。进一步地,所述胶黏剂层选自不含有导电粉的聚氨酯树脂或丙烯酸树脂、含有导电粉的环氧树脂、含有导电粉的聚氨酯树脂、含有导电粉的丙烯酸树脂中的一种。进一步地,胶黏剂层中所述聚氨酯树脂为含羧基的热塑性聚氨酯树脂,所述丙烯酸树脂为含羧基的热塑性丙烯酸树脂。其中含羧基的热塑性聚氨酯树脂的羧基含量为5-100mgKOH/g。所述含羧基的热塑性聚氨酯树脂中还包括环氧树脂类固化剂,其本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种可弯折使用的电磁屏蔽膜,其特征在于:所述可弯折使用的电磁屏蔽膜包括离型载体膜、涂布于离型载体膜上的第一绝缘层、涂布于第一绝缘层上的第二绝缘层、贴合于第二绝缘层上的金属箔屏蔽层、设于金属箔屏蔽层上的胶黏剂层和贴合于胶黏剂层上的离型保护膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种可弯折使用的电磁屏蔽膜,其特征在于:所述可弯折使用的电磁屏蔽膜包括离型载体膜、涂布于离型载体膜上的第一绝缘层、涂布于第一绝缘层上的第二绝缘层、贴合于第二绝缘层上的金属箔屏蔽层、设于金属箔屏蔽层上的胶黏剂层和贴合于胶黏剂层上的离型保护膜。

【专利技术属性】
技术研发人员:闫勇
申请(专利权)人:苏州城邦达益材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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