平台冷却站制造技术

本实用新型专利技术提供了一种平台冷却站，用于对基底降温，包括一用于放置所述基底的内腔，其特征在于，所述平台冷却站还包括与所述内腔连通的进气口和出气口，所述进气口与一气源相通，用于向所述内腔通入保护气体，所述出气口用于所述内腔向外界排出气体；保护气体进入到冷却站中，挤压出冷却站中的残留气体，如溴化氢气体、氯气以及含氟的相关气体和空气，保证冷却站内的正压和干燥。

【技术实现步骤摘要】
平台冷却站
本技术涉及干法刻蚀设备领域，特别涉及一种平台冷却站。
技术介绍
现代社会随着科技的快速发展，高科技电子产品使用于日常生活已是相当普遍，电子产品内部皆装设并布满许多半导体器件，而半导体器件的材料来源就是基底，为了能够满足各式高科技电子产品的大量需求，故基底生产产业皆以如何更加快速且精确制造出基底为目标，不断地进行研发与改良突破。在基底生产过程中，基底从工作腔出来时候的温度大约为80℃至170℃，需要经过冷却到一定温度(一般为50℃)以下才能进行后续工艺。此时，基底生产工艺流程中的冷却设备就起到了关键的作用，平台冷却站作为干法刻蚀工艺设备的重要传送路径之一，其主要作用是：对经过高温工艺后的基底起到降温作用，以防止高温对于传送盒中的其他基底造成影响。现有技术的平台冷却站，仅仅是将基底放置空冷，基底在结束刻蚀的工艺后，由于基底表面会存在加工过程中的残留溴化氢气体、氯气以及含氟的相关气体，当基底在平台冷却站中停留降温过程中，由于残留气体的特殊性质，将会与大气中的水分子结合反应后形成酸性物质，该酸性物质将会对平台冷却站的内部组件产生腐蚀作用，从而损害平台冷却站，影响平台冷却站的使用寿命，另一方面会增加基底遭受缺陷的几率，影响产品良率。因此，有必要提供一种使用寿命高且不影响基底良品率的平台冷却站。
技术实现思路
鉴于上述原因，本技术提供一种平台冷却站，可以解决现有技术中平台冷却站受到腐蚀和基底遭受缺陷的问题。为实现上述目的和相关其他目的，本技术提供一种平台冷却站，用于对基底降温，包括一用于放置所述基底的内腔，其特征在于，所述平台冷却站还包括与所述内腔连通的进气口和出气口，所述进气口与一气源相通，用于向所述内腔通入保护气体，所述出气口用于所述内腔向外界排出气体。优选地，所述平台冷却站用于LAM2300型号机台。优选地，所述平台冷却站包括上底面、下底面和多个侧壁，所述下底面用于承载所述基底，所述进气口设置在其中一个侧壁上，所述出气口设置在与所述其中一个侧壁相对的另一侧壁上。优选地，所述下底面上包含多个凸起，以使所述下底面通过所述凸起承载所述基底。优选地，所述多个凸起阵列排布在所述下底面上。优选地，所述气源为与所述进气口通过管道连接的气瓶。优选地，所述平台冷却站的形状为六边形盒状。优选地，所述保护气体为惰性气体。优选地，所述惰性气体为氮气。优选地，所述惰性气体为氩气。综上所述，在所述平台冷却站的侧边或者其他位置添加一路保护气体，以及与之对应的保护气体出口，从而保持冷却站内部为正压，保护气体将会挤压出残留气体，使冷却站内部保持干燥，减少残留气体，如溴化氢气体、氯气以及含氟的相关气体在平台冷却站中的停留时间，避免基底在加工后的存在于基底表面的残留气体在冷却站中停留时间过长，与大气中水分子反应生成酸性物质造成冷却站腐蚀状况，从而提高了平台冷却站的使用寿命，减少了产品遭受缺陷的风险，改善了产品良率；并且，由于增加了一通保护气体，从而增加了基底表面附近的空气流通，使得基底的冷却速度提升，节约了基底在平台冷却站中的停留时间，提升了工作效率。附图说明图1为本技术实施例提供的平台冷却站的示意图。图2为本技术实施例提供的另一平台冷却站的示意图。其中，附图标记说明如下：10---基底，20---平台冷却站主体，21---进气口，22---出气口，23---凸起，30---气瓶管道，31---阀口。具体实施方式本技术的核心思想是在现有技术提供的平台冷却站中添加一路保护气体，拥有保护气体的进气口和出气口，保护气体的进气口和出气口位于本技术提供的平台冷却站的两侧，使得保护气体进气口和出气口以及本技术平台冷却站内腔形成一个保护气体流通的通道，该保护气体流通的通道贯穿整个平台冷却站的内腔；在将基底放置在本技术提供的平台冷却站中冷却的时候，本技术提供的平台冷却站的进气口与一气源连接，该气源可以向本技术提供的平台冷却站的内腔通入保护气体，保护气体一般为惰性气体，该气源通入的保护气体拥有一定的流速，将会挤压出本技术提供的平台冷却站内腔中的空气，从而保证本技术提供的平台冷却站内腔正压并且干燥；当本技术提供的平台冷却站中放入基底时，保护气体将会挤压出基底表面存在的加工过程中的残留溴化氢气体、氯气以及含氟的相关气体，防止当基底在平台冷却站中停留降温过程中，由于残留气体的特殊性质，与大气中的水分子结合反应后形成酸性物质，该酸性物质将会对平台冷却站的内部组件产生腐蚀作用，从而损害平台冷却站，影响平台冷却站的使用寿命，另一方面会增加基底遭受缺陷的几率，影响产品良率；并且，由于增加了一通保护气体，从而增加了基底表面附近的空气流通，使得基底的冷却速度提升，节约了基底在平台冷却站中的停留时间，提升了工作效率。为实现上述目的和相关其他目的，本技术提供一种平台冷却站，用于对基底降温，包括一用于放置所述基底的内腔，其特征在于，所述平台冷却站还包括与所述内腔连通的进气口和出气口，所述进气口与一气源相通，用于向所述内腔通入保护气体，所述出气口用于所述内腔向外界排出气体。为使本技术的目的、优点和特征更加清楚，以下结合附图1---2对本技术提出的平台冷却站作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。实施例参阅图1，本实施例的平台冷却站包括平台冷却站主体20、进气口21和出气口22；本实施例的平台冷却站主体20为六边形盒状结构，包括用于放置基底10的内腔，本领域的技术人员应当理解，在本实施例中，平台冷却站主体20的形状应该不限于六边形盒状，可以是具有放置基底10的内腔的任一形状；进气口21设置在平台冷却站主体20的一个侧壁上，出气口22设置在平台冷却站主体20的另一相对位置的侧壁上，本领域的技术人员应当理解，在本实施例中，进气口21和出气口22所在平台冷却站主体20的位置应当不固定，只要能够通入保护气体和排出保护气体并且在平台冷却站主体20内部形成保护气体流通的通道即可；进气口21连接一气瓶管道30，气瓶管道30连接一个可以向平台冷却站主体20内腔中通入一定流速保护气体的气瓶，气瓶管道30有一控制是否通入保护气体的阀口31，本领域的技术人员也应当理解，在本实施例中，气源并不局限于气瓶，只要是能够向平台冷却站主体20内腔中通入一定流速保护气体即可。具体实施时，当工作人员将基底10放置到平台冷却站主体20的内腔中冷却时，工作人员可以人为打开阀口31，气瓶中的保护气体将会以一定流速通过气体管道30和进气口21通入平台冷却站主体20的内腔中，通入的保护气体将会通过出气口22挤压出平台冷却站主体20内腔中的空气和基底10表面的残留气体，并提高基底10表面的空气流通速度，使得基底10的冷却速度加快。工作人员可以根据利用本实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平台冷却站，用于对基底降温，包括一用于放置所述基底的内腔，其特征在于，所述平台冷却站还包括与所述内腔连通的进气口和出气口，所述进气口与一气源相通，用于向所述内腔通入保护气体，所述出气口用于所述内腔向外界排出气体。/n

【技术特征摘要】
1.一种平台冷却站，用于对基底降温，包括一用于放置所述基底的内腔，其特征在于，所述平台冷却站还包括与所述内腔连通的进气口和出气口，所述进气口与一气源相通，用于向所述内腔通入保护气体，所述出气口用于所述内腔向外界排出气体。


2.如权利要求1所述的平台冷却站，其特征在于，所述平台冷却站用于LAM2300型号机台。


3.如权利要求1所述的平台冷却站，其特征在于，所述平台冷却站包括上底面、下底面和多个侧壁，所述下底面用于承载所述基底，所述进气口设置在其中一个侧壁上，所述出气口设置在与所述其中一个侧壁相对的另一侧壁上。


4.如权利要求3所述的平台冷却站，其特征在于，所述下底面上包含多个凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31