纳米T*O*涂膜厚度的测量方法技术

本发明专利技术涉及的是两种纳米ＴｉＯ↓［２］涂膜厚度的测量方法。第一种是担载量法，它是将试样清洗、烘干后称重得Ｗｏ（ｇ），待试样涂膜后再清洗、烘干、称重得Ｗ↓［１］（ｇ），测量涂膜试样表面积得ｓ（ｃｍ↑［２］），用公式ｈ＝Ｗ↓［１－］Ｗｏ／↓［ｓ.ｐ.ｄ］计算膜厚，式中ｄ为已知，ｐ可视膜密度在０．５０～０．７０中酌情选取。第二种是卸载量法，它是将涂膜试样清洗、烘干后称重得Ｗ↓［１］（ｇ），待试样溶膜后再烘干、称重得Ｗｏ（ｇ），同时测其表面积得ｓ（ｃｍ↑［２］），用公式ｈ＝Ｗ↓［１－］Ｗｏ／↓［ｓ.ｐ.ｄ］计算膜厚，式中ｓ与ｄ值之选取已如上述。本发明专利技术第一种方法用于生产过程控制，第二种方法则用于涂膜产品检测。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纳米TiO2涂膜厚度的测量方法。
技术介绍
纳米TiO2涂膜厚度一般小于1μ，常见者为50～500纳米，故无法用通常的测厚方法如金相法、电阻法、超声法以及阶梯法测量，而是要用能放大20000～50000倍的扫描电子显微镜来测量，成本高不说，还颇为费时，不便作为薄膜生产中的常规控制手段。
技术实现思路
本专利技术的目的，是要提供全新的方法，它可方便地作为纳米TiO2涂膜生产过程的常规控制手段。本专利技术采用的第一种测量方法是担载量法，具体步骤如下A.试样清洗置于100℃下烘干10分钟，然后在1/10000天平上称重得Wo(g)；B.对试样涂膜，80～100℃下干燥20分钟，400～600℃下煅烧2小时；C.将涂膜试样清洗、烘干后称重得W1(g)，测量试样表面积得s(cm2)，按公式h＝W1-Wo/s·p·d计算涂膜厚度(cm)，式中d为TiO2真实密度4.0g/cm3，p为纳米TiO2的堆集致密系数，致密膜取值0.70，小孔(小于纳米TiO2平均粒径)膜取值0.60，粗孔(大于纳米TiO2平均粒径)取值0.50。此法用于未涂膜试样涂膜后的测量即生产过程控制。本专利技术采用的另一种测量方法是卸载量法。具体步骤如下A.将涂膜试样清洗、烘干后称重得W1(g)；B.溶膜，溶膜液为每100ml浓硫酸中含20g过硫酸铵，注意让溶膜液浸没烧杯中的试样，置通风橱内加热至冒烟约5分钟，冷却至室温后小心加入蒸馏水稀释，摇匀后注入100ml容量瓶并稀释至刻度，备以过氧化氢比色法测定TiO2含量时用；C.将试样烘干、称重得Wo(g)并测量其表面积s(cm2)，按公式h＝W1-Wo/s·p·d计算膜厚，其中p的取值范围有如第一种测量方法，即致密膜取值0.70，小孔膜-0.60，粗孔膜-0.50。此法用于已涂膜试样的膜厚测量即产品检验。具体实施例方式一、用担载量法控制生产过程。指定线上一试样，于清洗、烘干后用万分之一天平称重得Wo(g)，然后在线上涂膜(例如用提拉法)、干燥、煅烧后再清洗、烘干，第二次称重得W1(g)。用上述公式计算膜厚，若符合要求，则表明生产过程包括相关参数均可。二、用卸载量法检验产品。从下线产品中选取一件，清洗烘干后进行称重得W1(g)，将产品在每100ml含过硫酸铵20g的溶膜液中溶膜(在通风橱中加热至冒烟再水洗)后烘干，称重得Wo(g)，测量试件表面积得s(cm2)，用公式h＝W1-Wo/s·p·d求得膜厚h(cm)，若符合要求则表明生产正常。式中d＝4.0g/cm3，p取值方法已如前所述。权利要求1.纳米TiO2涂膜厚度的测量方法，其特征在于采用的是担载量法，具体步骤如下A、试样清洗并于100℃下烘干10分钟，在1/10000天平上称重；B、对试样涂膜，80～100℃下干燥20分钟，400～600℃下煅烧2小时；C、清洗、烘干后称重并测量试样表面积，按下列公式计算涂膜厚度hh＝W1-Wo/s·p·d式中W1为试样涂膜后重量，Wo为试样涂膜前重量，s为试样涂膜面积，d为TiO2真密度4.0g/cm3，p为纳米TiO2的堆积致密系数，重量单位g，面积单位cm2，p取值0.50～0.70，其中致密膜取值0.70，小孔膜取值0.60，粗孔膜取值0.50。2.根据权利要求1所述的纳米TiO2涂膜厚度的测量方法，其特征在于，它用于未涂膜试样涂膜后的测量即生产过程控制。3.纳米TiO2涂膜厚度的测量方法，其特征在于采用的是卸载量法，具体步骤如下A、将涂膜试样清洗、烘干后称重得W1；B、在每100ml浓硫酸中含20g过硫酸铵的溶膜液中对涂膜试样作溶膜处理。注意让溶膜液浸没烧杯中的试样，置通风橱内加热至冒烟约5分钟，冷却至室温后小心加入蒸馏水稀释，摇匀后注入100ml容量瓶中并稀释至刻度，备以过氧化氢比色法测定TiO2量时用；C、将试样烘干、称重并测量表面积，按下列公式计算膜层厚度hh＝W1-Wo/s·p·d式中Wo为溶膜后试样重量，s为试样涂膜面积，d为TiO2的真密度4.0g/cm3，p为纳米TiO2堆集致密系数，重量单位g，面积单位cm2，p取值0.50～0.70，其中致密膜取值0.70，小孔膜取值0.60，粗孔膜取值0.50。4.根据权利要求3所述的纳米TiO2涂膜厚度的测量方法，其特征在于，它用于已涂膜试样的膜厚测量即产品检验。全文摘要本专利技术涉及的是两种纳米TiO文档编号G01B21/08GK1673674SQ20051003149公开日2005年9月28日 申请日期2005年4月28日 优先权日2005年4月28日专利技术者潘俊明 申请人:湖南泰鑫瓷业有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
纳米Ｔ↓［ｉ］Ｏ↓［２］涂膜厚度的测量方法，其特征在于采用的是担载量法，具体步骤如下：Ａ、试样清洗并于１００℃下烘干１０分钟，在１／↓［１００００］天平上称重；Ｂ、对试样涂膜，８０～１００℃下干燥２０分钟，４００～６００℃下 煅烧２小时；Ｃ、清洗、烘干后称重并测量试样表面积，按下列公式计算涂膜厚度ｈｈ＝Ｗ↓［１－］Ｗｏ／↓［ｓ.ｐ.ｄ］式中Ｗ↓［１］为试样涂膜后重量，Ｗｏ为试样涂膜前重量，ｓ为试样涂膜面积，ｄ为Ｔ↓［ｉ］Ｏ↓［２］真密度４ ．０ｇ／ｃｍ↑［３］，ｐ为纳米Ｔ↓［ｉ］Ｏ↓［２］的堆积致密系数，重量单位ｇ，面积单位ｃｍ↑［２］，ｐ取值０．５０～０．７０，其中致密膜取值０．７０，小孔膜取值０．６０，粗孔膜取值０．５０。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：潘俊明，
申请(专利权)人：湖南泰鑫瓷业有限公司，
类型：发明
国别省市：43[中国|湖南]