一种二极管芯片酸洗设备制造技术

本发明专利技术提供一种二极管芯片酸洗设备，其结构包括防护翻盖、二极管撑挂酸洗装置、机箱、支撑脚、排液头、输液头，防护翻盖与机箱通过铰链连接，机箱内部设有二极管撑挂酸洗装置，支撑脚共设有四个且固定安装在支撑脚底部四角，排液头位于输液头下方且其二者均嵌入固定在机箱右侧面，本发明专利技术能够通过由于二极管芯片在放入酸洗槽中时，通过酸洗液对于浮条的浮力能够将浮条朝向上方推出，进而密集的浮条能够将放置于滤网上的芯片充分隔开，令芯片能够充分的受到酸洗液的直接浸润接触，并且在取出时，浮条能够通过内部的浮片的牵引，进行回缩，方便芯片倒出。

【技术实现步骤摘要】
一种二极管芯片酸洗设备
本专利技术属于二极管领域，更具体地说，特别涉及一种二极管芯片酸洗设备。
技术介绍
二极管芯片酸洗在进行酸洗时，由于批量式的二极管芯片酸洗一同放入酸洗池中，通过对二极管芯片的外表面进行酸洗反应，进而能够对其表面通过充分的接触进行酸洗处理。基于上述描述本专利技术人发现，现有的一种二极管芯片酸洗设备主要存在以下不足，比如：由于二极管芯片在层层叠加的状态下，并且在酸洗水的浸湿状态影响，容易令芯片紧密的贴合在一起，从而只能够令内部的贴合与酸洗液少量接触，在酸洗完成后，贴合芯片由于未充分与酸洗液接触，进而导致其处理不完全，通过其制成的成品的传导效果会偏差。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种二极管芯片酸洗设备，以解决现有由于二极管芯片在层层叠加的状态下，并且在酸洗水的浸湿状态影响，容易令芯片紧密的贴合在一起，从而只能够令内部的贴合与酸洗液少量接触，在酸洗完成后，贴合芯片由于未充分与酸洗液接触，进而导致其处理不完全，通过其制成的成品的传导效果会偏差的问题。针对现有技术的不足，本专利技术一种二极管芯片酸洗设备的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：一种二极管芯片酸洗设备，其结构包括防护翻盖、二极管撑挂酸洗装置、机箱、支撑脚、排液头、输液头，所述防护翻盖与机箱通过铰链连接，所述机箱内部设有二极管撑挂酸洗装置，所述支撑脚共设有四个且固定安装在支撑脚底部四角，所述排液头位于输液头下方且其二者均嵌入固定在机箱右侧面。所述二极管撑挂酸洗装置包括酸洗内槽、支撑横杆、兜挂机构，所述酸洗内槽设于机箱内部，所述支撑横杆共设有两个且左右两端均嵌入在酸洗内槽左右两侧，所述兜挂机构挂置于支撑横杆上方。作为优选，所述兜挂机构包括侧槽条、夹条、浮挂机构、架板、防滑贴片，所述防滑贴片贴合固定在侧槽条内测，所述浮挂机构通过夹条与侧槽条固定连接在一起，所述侧槽条与架板为一体化结构，能够通过侧槽条内侧面的防滑贴片进行贴合固定，从而能够便于内部处理的同时，也能够方便将其取出。作为优选，所述浮挂机构包括角接片、反向扣、滤网、锁条、浮条，所述角接片上设有反向扣，所述滤网上固定装设有浮条，所述锁条与滤网固定连接在一起，滤网能够将放置浸入内部的芯片进行拦阻，从而能够在整个滤网浸没在酸洗液中，并且在其完成处理后能够平稳的取出。作为优选，所述浮条包括外延套、弹条、锥套、底片，所述外延套与底片固定连接在一起，所述弹条固定安装在锥套内部，所述外延套设于锥套底部，锥套在浸入酸洗液中，能够产生浮力并牵动外延套展开向上方伸出。作为优选，所述锥套包括内槽条、浮片、顶片，所述内槽条设于浮片内部，所述浮片嵌入在顶片内部，浮片共设有四个且每个浮片的内部均存在三个内槽条，能够通过其泡沫材质与中间封存的气体，在处于酸洗液中，能够产生强大的浮力。作为优选，所述外延套包括环槽、软套、叠环，所述环槽与软套为一体化结构，所述软套与叠环固定连接在一起，在软套与叠环中间均存有槽孔，且其均采用弹性材料制成，其延展性能较强。作为优选，所述叠环外侧面突出，内侧面有设有层层褶皱，能够通过折叠与展开极大程度上的扩大其延展长度。作为优选，所述弹条底部粗大，顶部细小，其设有四个，并且能够通过全方位的延展，对锥套起到约束效果。与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：本专利技术能够通过由于二极管芯片在放入酸洗槽中时，通过酸洗液对于浮条的浮力能够将浮条朝向上方推出，进而密集的浮条能够将放置于滤网上的芯片充分隔开，令芯片能够充分的受到酸洗液的直接浸润接触，并且在取出时，浮条能够通过内部的浮片的牵引，进行回缩，方便芯片倒出。附图说明图1为本专利技术一种二极管芯片酸洗设备的结构示意图。图2为本专利技术二极管撑挂酸洗装置的背部详细结构示意图。图3为兜挂机构内部详细结构示意图。图4为浮挂机构内部详细结构示意图。图5为浮条内部详细结构示意图。图6为外延套侧面局部详细结构示意图。图7为锥套内部详细结构示意图。图中：防护翻盖-1、二极管撑挂酸洗装置-2、机箱-3、支撑脚-4、排液头-5、输液头-6、酸洗内槽-21、支撑横杆-22、兜挂机构-23、侧槽条-a1、夹条-a2、浮挂机构-a3、架板-a4、防滑贴片-a5、角接片-a31、反向扣-a32、滤网-a33、锁条-a34、浮条-a35、外延套-a351、弹条-a352、锥套-a353、底片-a354、内槽条-531、浮片-532、顶片-533、环槽-aa1、软套-aa2、叠环-aa3。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不能用来限制本专利技术的范围。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。实施例1如附图1至附图7所示：本专利技术提供一种二极管芯片酸洗设备，其结构包括防护翻盖1、二极管撑挂酸洗装置2、机箱3、支撑脚4、排液头5、输液头6，所述防护翻盖1与机箱3通过铰链连接，所述机箱3内部设有二极管撑挂酸洗装置2，所述支撑脚4共设有四个且固定安装在支撑脚4底部四角，所述排液头5位于输液头6下方且其二者均嵌入固定在机箱3右侧面。所述二极管撑挂酸洗装置2包括酸洗内槽21、支撑横杆22、兜挂机构23，所述酸洗内槽21设于机箱3内部，所述支撑横杆22共设有两个且左右两端均嵌入在酸洗内槽21左右两侧，所述兜挂机构23挂置于支撑横杆22上方。其中，所述兜挂机构23包括侧槽条a1、夹条a2、浮挂机构a3、架板a4、防滑贴片a5，所述防滑贴片a5贴合固定在侧槽条a1内测，所述浮挂机构a3通过夹条a2与侧槽条a1固定连接在一起，所述侧槽条a1与架板a4为一体化结构，能够通过侧槽条a1内侧面的防滑贴片a5进行贴合固定，从而能够便于内部处理的同时，也能够方便将其取出。其中，所述浮挂机构a3包括角接片a31、反向扣a32、滤网a33、锁条a34、浮条a35，所述角接片a31上设有反向扣a32，所述滤网a33上固定装设有浮条a35，所述锁条a34与滤网a33固定连接在一起，滤网a33能够将放置浸入内部的芯片进行拦本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二极管芯片酸洗设备，其结构包括防护翻盖(1)、二极管撑挂酸洗装置(2)、机箱(3)、支撑脚(4)、排液头(5)、输液头(6)，其特征在于：/n所述防护翻盖(1)与机箱(3)通过铰链连接，所述机箱(3)内部设有二极管撑挂酸洗装置(2)，所述支撑脚(4)共设有四个且固定安装在支撑脚(4)底部四角，所述排液头(5)位于输液头(6)下方且其二者均嵌入固定在机箱(3)右侧面；/n所述二极管撑挂酸洗装置(2)包括酸洗内槽(21)、支撑横杆(22)、兜挂机构(23)，所述酸洗内槽(21)设于机箱(3)内部，所述支撑横杆(22)共设有两个且左右两端均嵌入在酸洗内槽(21)左右两侧，所述兜挂机构(23)挂置于支撑横杆(22)上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种二极管芯片酸洗设备，其结构包括防护翻盖(1)、二极管撑挂酸洗装置(2)、机箱(3)、支撑脚(4)、排液头(5)、输液头(6)，其特征在于：
所述防护翻盖(1)与机箱(3)通过铰链连接，所述机箱(3)内部设有二极管撑挂酸洗装置(2)，所述支撑脚(4)共设有四个且固定安装在支撑脚(4)底部四角，所述排液头(5)位于输液头(6)下方且其二者均嵌入固定在机箱(3)右侧面；
所述二极管撑挂酸洗装置(2)包括酸洗内槽(21)、支撑横杆(22)、兜挂机构(23)，所述酸洗内槽(21)设于机箱(3)内部，所述支撑横杆(22)共设有两个且左右两端均嵌入在酸洗内槽(21)左右两侧，所述兜挂机构(23)挂置于支撑横杆(22)上方。


2.如根据权利要求1所述的一种二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述兜挂机构(23)包括侧槽条(a1)、夹条(a2)、浮挂机构(a3)、架板(a4)、防滑贴片(a5)，所述防滑贴片(a5)贴合固定在侧槽条(a1)内测，所述浮挂机构(a3)通过夹条(a2)与侧槽条(a1)固定连接在一起，所述侧槽条(a1)与架板(a4)为一体化结构。


3.如根据权利要求2所述的一种二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述浮挂机构(a3)包括角接片(a31)、反向扣(a32)、滤网(a33)、锁条(a34)、浮条(a35)，所述角接片(a31)上设有反向扣...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏相堂，
申请(专利权)人：夏相堂，
类型：发明
国别省市：浙江;33