光刻润湿液及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种光刻润湿液，其含有水、有机碱和活性剂；所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。本发明专利技术光刻润湿液适合于45纳米，尤其是14纳米及以下技术节点的光刻工艺，可进一步降低光阻倒塌率和改善图案粗糙度，形成更为精细和完整的光阻图案，达到工艺要求的技术指标，提升良品率和可靠性。

【技术实现步骤摘要】
光刻润湿液及其应用
本专利技术涉及光刻润湿液及其应用。
技术介绍
光刻工艺在半导体芯片制造中起着至关重要的作用，主要包括光刻胶旋涂，曝光，显影和清洗等步骤。14nm之前的光刻工艺，显影后直接用超纯水做旋干处理后即可进入下道工序。但随着技术节点和集成度的快速提高，图案的极限细微化不仅对光刻胶的性能提出更高的要求，同时对显影后光阻图案的要求也变得更为苛刻。尤其是14纳米及以下工艺节点，随着线宽的极度缩小和深宽比的增大，很容易因光阻的倒塌而造成缺陷，此外，曝光后的线边粗糙度LER(lineedgeroughness)和线端粗糙度LWR（linewidthroughness）也需要更为精准的控制，以避免良品率恶化。
技术实现思路
为了进一步降低光阻倒塌率和改善图案粗糙度，以形成更为精细和完整的光阻图案，达到工艺要求的技术指标，提升良品率和可靠性，本专利技术提供一种光刻润湿液，其含有水、有机碱和活性剂；所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。优选的，所述胍类有机碱选自单胍及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光刻润湿液，其特征在于，其含有水、有机碱和活性剂；/n所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；/n所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。/n

【技术特征摘要】
1.光刻润湿液，其特征在于，其含有水、有机碱和活性剂；
所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；
所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。


2.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述胍类有机碱选自单胍及其衍生物，化学结构式如下：



其中，R1、R2、R3各自独立地为H、烃基或杂环取代基；
或者，所述胍类有机碱选自双胍及其衍生物，化学结构式如下：



其中，Ra、Rb、Rc、Rd各自独立地为H、烃基、芳香基团或杂环取代基。


3.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述哌嗪类有机碱选自哌嗪及其衍生物，化学结构式如下：



其中，Rs1、Rs2各自独立地为H、甲基、乙基、氨基、羟甲基或羟乙基。


4.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述EO/PO嵌段共聚物的通式如下：
RO-[-(EO)m(PO)n-]-H
其中，R为碳原子数5-20的烃链，m为EO的重复单元数，n为PO的重复单元数...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋伟红，余伟，
申请(专利权)人：常州时创新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32