处理氯硅烷残液的系统技术方案

技术编号:25007934 阅读:32 留言:0更新日期:2020-07-24 21:58
本实用新型专利技术公开了处理氯硅烷残液的系统,包括:粗过滤装置,具有粗过滤滤芯、氯硅烷残液入口、第一滤液出口和硅粉出口;第一精馏装置,具有第一滤液入口、第一轻组分出口和第一重组分出口;急冷装置,具有冷却介质入口、冷却介质出口、第一重组分入口、急冷残液出口、金属氯化物出口和上清液出口;精过滤装置,具有精过滤滤芯、上清液入口、固体杂质出口和第二滤液出口;裂解‑反应装置,具有第二滤液入口、固体催化剂入口、反应气体入口、反应后气出口和反应后液出口;第二精馏装置,具有反应后液入口、第二轻组分出口和第二重组分出口。采用该系统可有效去除金属氯化物,可对氯硅烷高沸物进行有效地回收和利用,使氯硅烷残液的回收率可达99%。

【技术实现步骤摘要】
处理氯硅烷残液的系统
本技术属于多晶硅生产
,具体而言,本技术涉及处理氯硅烷残液的系统。
技术介绍
改良西门子法生产多晶硅过程中,产生大量的副产物四氯化硅。目前,90%以上的多晶硅企业均采用四氯化硅冷氢化技术处理副产物,将其转化为生产多晶硅的原料三氯氢硅。四氯化硅冷氢化技术是将冶金级硅粉、氢气、四氯化硅在一定的温度、压力条件下,在催化剂作用下反应,生成三氯氢硅。由于冶金级硅粉中含有金属杂质,因此氢化产品氯硅烷里引入了细微的硅粉和金属杂质。在急冷塔或淋洗塔以及后续的氯硅烷粗馏过程中,为防止堵塞设备和脱除金属杂质,这些细微硅粉和金属杂质将随四氯化硅液体由塔底排出,排出的这部分固液混合物即为氢化残液。另外,在生产多晶硅的过程中,除了会生成硅、SiCl4、SiH2Cl2、H2和HCl等外,还会生成Si2Cl6、Si2HCl5、Si2H2Cl4、Cl6OSi2和Si3Cl8等一系列的双硅和多硅原子化合物副产物,相对于三氯氢硅和四氯化硅,双硅和多硅原子化合物的沸点较高,称为氯硅烷高沸物。生产多晶硅所得的尾气经干法回收和精馏提纯后,SiHCl3、SiC本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理氯硅烷残液的系统,其特征在于,包括:/n粗过滤装置,所述粗过滤装置具有粗过滤滤芯、氯硅烷残液入口、第一滤液出口和硅粉出口;/n第一精馏装置,所述第一精馏装置具有第一滤液入口、第一轻组分出口和第一重组分出口,所述第一滤液入口与所述第一滤液出口相连;/n急冷装置,所述急冷装置具有冷却介质入口、冷却介质出口、第一重组分入口、急冷残液出口、金属氯化物出口和上清液出口,所述第一重组分入口与所述第一重组分出口相连;/n精过滤装置,所述精过滤装置具有精过滤滤芯、上清液入口、固体杂质出口和第二滤液出口,所述上清液入口与所述上清液出口相连;/n裂解-反应装置,所述裂解-反应装置具有第二滤液入口、固体...

【技术特征摘要】
1.一种处理氯硅烷残液的系统,其特征在于,包括:
粗过滤装置,所述粗过滤装置具有粗过滤滤芯、氯硅烷残液入口、第一滤液出口和硅粉出口;
第一精馏装置,所述第一精馏装置具有第一滤液入口、第一轻组分出口和第一重组分出口,所述第一滤液入口与所述第一滤液出口相连;
急冷装置,所述急冷装置具有冷却介质入口、冷却介质出口、第一重组分入口、急冷残液出口、金属氯化物出口和上清液出口,所述第一重组分入口与所述第一重组分出口相连;
精过滤装置,所述精过滤装置具有精过滤滤芯、上清液入口、固体杂质出口和第二滤液出口,所述上清液入口与所述上清液出口相连;
裂解-反应装置,所述裂解-反应装置具有第二滤液入口、固体催化剂入口、反应气体入口、反应后气出口和反应后液出口,所述第二滤液入口与所述第二滤液出口相连;
第二精馏装置,所述第二精馏装置具有反应后液入口、第二轻组分出口和第二重组分出口,所述反应后液入口与所述反应后液出口相连。


2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述粗过滤装置包括多个所述粗过滤滤芯,所述粗过滤滤芯为滤布。


3.根据权利要求1或2所述的系统,其特征在于,所述精过滤装置具有多个所述精过滤滤芯,所述精过滤滤芯选自金属滤芯、陶瓷滤芯和工程塑料滤芯中的至少之一。


4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,进一步包括:第一再沸装置,所述第一再沸装置具有第一液体入口和第一气液混合物出口,所述第一液体入口与所述第一重组分出口相连,所述第一气液混合物出口与所述第一精馏装置相连。


5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,进一步包括:第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:万烨曾晓国严大洲孙强张伟
申请(专利权)人:中国恩菲工程技术有限公司洛阳中硅高科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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