一种高抗压液晶显示模组制作方法及高抗压液晶显示模组技术

本发明专利技术公开了一种高抗压液晶显示模组制作方法和高抗压液晶显示模组，其中高抗压液晶显示模组包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板包括第一衬底基板、依次层叠设置在第一衬底基板上的薄膜晶体管阵列层和保护层，还包括通过半色调掩膜版形成的主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物和辅隔垫物对应形成在薄膜晶体管阵列层的上方，其中半色调掩膜版包括掩膜基板、设置在掩膜基板一侧的遮光层，所述遮光层包括全透孔和网格孔。实施本发明专利技术，采用将主隔垫物和辅隔垫物形成在阵列基板的薄膜晶体管阵列层上，可以增加主隔垫物和辅隔垫物与阵列基板的接触面积，提升阵列基板的抗压能力。

【技术实现步骤摘要】
一种高抗压液晶显示模组制作方法及高抗压液晶显示模组
本专利技术涉及液晶显示屏制作
，更具体地涉及一种高抗压液晶显示模组制作方法。
技术介绍
TFT-LCD中的液晶显示屏包括彩膜基板和阵列基板，在彩膜基板和阵列基板之间填充有液晶，通常会在彩膜基板上的制作的隔垫物主要起到支撑的作用。目前彩膜基板通常采用双隔垫物设计，同时包括较高的主隔垫物和较低的辅助隔垫物，主隔垫物与辅助隔垫物之间存在高度差，在没有外力的情况下只有主隔垫物起支撑作用，当液晶面板受到外部压力时，辅助隔垫物与主隔垫物共同起支撑作用，所以主隔垫物和辅助隔垫物之间的高度差能够允许液晶显示屏具有一定的变形量，以缓冲外部压力。传统的隔垫物制程是通过一张透过率不同的半色调掩模板来完成，通过调节开口部的透过率来形成主隔垫物和辅助隔垫物的高度差，将其做在彩膜基板上。然而这种工艺对掩膜版的制作要求较高，由于阵列基板特性注定其表面凹凸不平整，当阵列基板和彩膜基板对位贴合后因各层制程公差引起彩膜基板上间隔物顶部同阵列基板凸起部分接触有效面积减少，当液晶显示屏受压后失去原有的抗压效果。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高抗压液晶显示模组制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤S1、提供第一衬底基板，在所述第一衬底基板上制作薄膜晶体管阵列层，在所述第一衬底基板上形成覆盖薄膜晶体管阵列层的保护层和在保护层上制作光刻胶层；/n步骤S2、提供一掩膜基板，在掩膜基板的一侧制作遮光层，将遮光层开设全透孔和网格孔形成半色调掩膜版，所述全透孔和网格孔分别对应薄膜晶体管阵列层设置，采用曝光机和半色调掩膜版对光刻胶层曝光显影，在光刻胶层对应全透孔的位置形成主隔垫物，在光刻胶层对应网格孔的位置形成辅隔垫物，从而形成阵列基板；/n步骤S3、提供第二衬底基板，在第二衬底基板上制作黑矩阵和彩色膜层形成彩膜基板；/n步骤S4...

【技术特征摘要】
1.一种高抗压液晶显示模组制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1、提供第一衬底基板，在所述第一衬底基板上制作薄膜晶体管阵列层，在所述第一衬底基板上形成覆盖薄膜晶体管阵列层的保护层和在保护层上制作光刻胶层；
步骤S2、提供一掩膜基板，在掩膜基板的一侧制作遮光层，将遮光层开设全透孔和网格孔形成半色调掩膜版，所述全透孔和网格孔分别对应薄膜晶体管阵列层设置，采用曝光机和半色调掩膜版对光刻胶层曝光显影，在光刻胶层对应全透孔的位置形成主隔垫物，在光刻胶层对应网格孔的位置形成辅隔垫物，从而形成阵列基板；
步骤S3、提供第二衬底基板，在第二衬底基板上制作黑矩阵和彩色膜层形成彩膜基板；
步骤S4、将阵列基板和彩膜基板对盒密封固定形成高抗压液晶显示模组。


2.如权利要求1所述的一种高抗压液晶显示模组制作方法，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列层包括设于所述第一衬底基板上的栅极、设于所述第一衬底基板上且覆盖栅极的栅极绝缘层、设于所述栅极绝缘层上且对应于栅极上方的有源层、以及设于所述有源层与栅极绝缘层上且分别与所述有源层的两侧相接触的源极与漏极。


3.如权利要求2所述的一种高抗压液晶显示模组制作方法，其特征在于，还包括像素电极的制作，在保护层上形成对应于源极上方的过孔，在所述保护层上形成像素电极，所述像素电极经由所述过孔与源极相接触。


4.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴杰明，侯天府，李成杰，程丽娜，李岩，张泽鹏，
申请(专利权)人：信利仁寿高端显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51