当前位置: 首页 > 专利查询>侯志纬专利>正文

高能除垢器制造技术

技术编号:2499424 阅读:218 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种高能除垢器,它包括进水口接管组件(1)、进水口压力表(2)、接口法兰(3)、预处理器(4)、磁管(5)、磁管支架(6)、接口法兰(7)、预处理器盖板(8)、联接管道(9)、联接法兰(10)、水流平衡器上盖(11)、水流平衡器(12)、水流平衡板(13)、主处理器(14)、内芯(15)、磁通径(16)、主处理器下盖(17)、接口法兰(18)、出水口接管组件(19)、出水口压力表(20)、密封垫(21)、导磁体(22)、永磁体(23)、防锈管(24);其特征在于:预处理器(4)与水流平衡器(12)及主处理器(14)三个主要部件通过联接管道(9)和接口法兰(7)、(10)与水流平衡器上盖(11)相互联成一体。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及锅炉水处理
,是一种特殊的用于制备清除锅炉硬垢和防结硬垢的水处理装置。它主要应用于各种锅炉、茶炉、热交换器等热力系统清除硬垢和防结硬垢。传统的除垢方法就是化学清洗,借助于各种不同的化学物质来溶解不同的沉积物(水垢)。按一般化学清洗的施工工艺过程,从水洗→碱洗(脱脂或转化)→水洗→酸洗(除垢)→水洗→漂洗→钝化→再水洗才能达到交工验收的指标,至少需10道以上的工序,十分繁琐,清洗费用也较高,而且所有的化学清洗对被清洗的设备,势必造成一定程度的腐蚀,即使是使用了良好的缓蚀剂,也只能降低腐蚀,而不能免除腐蚀。所有的化学清洗,在排放清洗废液时既会对环境有一定程度的污染,也会影响清洗人员的身体健康。本技术的技术方案为基于水是由二个氢原子和一个氧原子通过两条原子化合键连接在一起的单纯化合物,但自然界中的水并非以单分子形态存在,而是以水分子集团的形态存在,这个集团的结构不是恒定的,是可变动的,在一定条件下的离合集散是水分子存在和运动的特性。水的变动特性是由水分子的结构特性决定的。首先,水分子是由二个氢原子和一个氧原子通过两条原子化合键组成的,两条原子化合键的夹角为105°,由本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:侯志纬
申请(专利权)人:侯志纬许士芬研究所有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利