【技术实现步骤摘要】
一种基于氮化钛和氧化钛的新型光催化薄膜及其制备方法
本专利技术涉及一种基于氮化钛和氧化钛的新型光催化薄膜及其制备方法，属于光催化
，可用于空气净化、污水处理等环保领域。
技术介绍
半导体光催化技术利用光子激发半导体材料价带中的电子到导带，产生光生载流子。利用分离的光生载流子，可以引发特定氧化还原反应，实现大气或污水中污染物的降解脱除。纳米结构TiO2价格低廉、性能稳定、环境友好，是当前实际应用中最理想的半导体光催化剂。众多提升TiO2光催化效率技术中，担载Au、Ag等纳米颗粒可以产生表面等离子激元效应，增强光的吸收，从而有效提高效率。但是，Au、Ag等昂贵材料限制其规模化应用。已有一些关于TiN/TiO2复合光催化剂的研究。Chen等将NH4F、TiO2和TiN为原料，利用球磨技术得到TiN/F-TiO2粉末样品，其光催化活性高于纯TiO2和F掺杂TiO2(F-TiO2)，其中TiN最佳含量为0.2wt％(S.F.Chen,etal.,JournalofHazardousMaterials,2011,186:1...
【技术保护点】
1.一种基于氮化钛和氧化钛的新型光催化薄膜，其特征是：以TiN
【技术特征摘要】
1.一种基于氮化钛和氧化钛的新型光催化薄膜，其特征是：以TiN0.3和TiO0.89混合相组成的TiN0.3/TiO0.89纳米线阵列为主干，在其表面生长包覆锐钛矿相的TiO2纳米片分支，形成三维纳米阵列薄膜。
2.制备权利要求1所述的基于氮化钛和氧化钛的新型光催化薄膜的方法，其特征在于，步骤如下：
1)将清洗干净的钛片置于质量浓度为6-30％的过氧化氢水溶液中，同时添加质量分数为0.05-5％的硝酸、三聚氰胺，于25-80℃反应6-72小时；反应后取出试样清洗、完全干燥，在400-550℃空气中热处理0.5-3小时，得到钛片衬底上生长TiO2纳米线阵列的一维纳米阵列薄膜；
2)将钛片上负载有TiO2纳米线的一维纳米阵列薄膜在氨气气氛中于750-900℃热处理0.5-3小时，得到TiN0.3/TiO0.89一维纳米线阵列薄膜；
3)洗净的瓷坩埚中加入去离子水、甘氨酸、质量分数为63％硝酸和硫酸氧钛，将坩埚转移热处理炉中进行溶液燃烧反应，得到蓬松黑色粉末，在15℃的温度中，以质量比为1:100将黑色粉末和质量浓度为...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾伊杰，吴进明，高文炜，孟琥，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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