一种抛釉砖模具及其制成的砖坯制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛釉砖模具及其制成的砖坯，包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的内底面设有排气区和收缩区，所述排气区突出设置于所述下模的内底面，且位于所述内底面的边缘，所述收缩区突出设置于所述内底面的中部，所述收缩区设有多条排气凸条，且所述排气区包围所述收缩区。本技术方案提出的一种抛釉砖模具，通过改变压机下模的形状以改善抛釉砖波浪纹的产生，提高瓷砖铺贴的美观度。进而提出的一种使用上述抛釉砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。

【技术实现步骤摘要】
一种抛釉砖模具及其制成的砖坯
本技术涉及建筑陶瓷
，尤其涉及一种抛釉砖模具及其制成的砖坯。
技术介绍
抛釉砖集合了抛光砖、仿古砖和瓷片三种产品的优势，以其多样化的装饰手段实现了天然丰富的纹理效果，深受广大用户的青睐。目前，抛釉砖的吸水率越来越低，意味着烧结程度越好，玻化程度越高，也就说明坯体在烧成区域越软，砖形比较难以控制。一般的抛釉砖在烧结过后，砖坯朝出窑方向的前后边相距5～20cm的位置处容易产生较严重的S型变形，也就是陶瓷行业俗称的波浪纹或棍棒印。当陶瓷砖的波浪纹过大，会严重影响瓷砖的铺贴及其美观度，所以如何改善波浪纹成为了业界比较关注的技术难题。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种抛釉砖模具，通过改变压机下模的形状以改善抛釉砖波浪纹的产生，提高瓷砖铺贴的美观度，以克服现有技术中的不足之处。本技术的另一个目的在于提出一种使用上述抛釉砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种抛釉砖模具，包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的内底面设有排气区和收缩区，所述排气区突出设置于所述下模的内底面，且位于所述内底面的边缘，所述收缩区突出设置于所述内底面的中部，所述收缩区设有多条排气凸条，且所述排气区包围所述收缩区。优选的，所述排气区从内到外依次设有集气段、支撑段和放气段，且所述排气区竖直方向的截面呈“凹”型；所述支撑段间隔设有排气凸起，所述排气凸起用于连接所述集气段和所述放气段。优选的，所述集气段的宽度为8～10mm。优选的，所述排气凸起的宽度为5～6mm。优选的，所述收缩区包括边缘收缩区和中部收缩区，所述边缘收缩区位于所述收缩区的边缘，所述中部收缩区位于所述收缩区的中部，所述边缘收缩区包围所述中部收缩区；且位于所述边缘收缩区的排气凸条竖直方向的长度小于位于所述中部收缩区的排气凸条竖直方向的长度。优选的，位于所述边缘收缩区的排气凸条的竖直方向的长度为0.4～0.5mm，位于所述中部收缩区的排气凸条的竖直方向的长度为0.6～0.7mm。优选的，位于所述边缘收缩区的排气凸条的竖直方向的长度为0.5mm，位于所述中部收缩区的排气凸条的竖直方向的长度为0.6mm。优选的，所述收缩区设有多个排气柱，且所述排气柱的直径为3～4mm。优选的，所述排气柱的直径为4mm。使用上述的抛釉砖模具制成的砖坯，所述砖坯的下表面设有排气部和收缩部，所述排气部突出设置于所述砖坯的下表面，且位于所述下表面的边缘，所述收缩部突出设置于所述下表面的中部，所述收缩部设有多条排气槽，且所述排气部包围所述收缩部。本技术的有益效果：本技术方案提出的一种抛釉砖模具，通过改变压机下模的形状以改善抛釉砖波浪纹的产生，提高瓷砖铺贴的美观度。进而提出的一种使用上述抛釉砖模具制成的砖坯，其烧成后的砖坯铺贴面的平整度高，有利于提高瓷砖铺贴的美观度。附图说明附图对本技术做进一步说明，但附图中的内容不构成对本技术的任何限制。图1是本技术一种抛釉砖模具的局部剖视图。图2是本技术一种抛釉砖模具中下模的俯视图。图3是图2中A处的放大图。其中：上模1、下模2、排气区21、集气段211、支撑段212、放气段213、排气凸起214、收缩区22、排气凸条221、边缘收缩区222、中部收缩区223、排气柱224。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。一种抛釉砖模具，包括上模1和下模2，所述上模1和所述下模2扣合形成模腔，所述下模2的内底面设有排气区21和收缩区22，所述排气区21突出设置于所述下模2的内底面，且位于所述内底面的边缘，所述收缩区22突出设置于所述内底面的中部，所述收缩区22设有多条排气凸条221，且所述排气区21包围所述收缩区22。为了避免辊棒印或波浪纹的出现，现有的抛釉砖在压制的时候一般会在底面形成方格形状的底纹，但现有具有方格形状底纹的抛釉砖并不能很好地改善抛釉砖的辊棒印。本技术方案采用条纹结构代替现有的方格纹理结构，如图1-3所示，有利于压制过程中砖坯能排气顺畅，避免坯体层出现分层，还能在烧制过程中有效减少辊棒印的出现，进一步提高抛釉砖的平整度。具体地，由于抛釉砖下模的上表面底纹与抛釉砖底部底纹互为阴阳，因此，使得抛釉砖的下表面分别设置有与排气区21相对应的排气部、与收缩区22相对应的收缩部和与排气凸条221相对应的排气槽。需要说明的是，图3中阴影部分为下模2中的凸起结构，无阴影部分为下模2中的凹陷结构。本技术方案生产的抛釉砖底部设置有凹陷的排气部，砖坯烧制过程中产生的气体可依次经过排气部排出，有利于砖坯在烧制过程中排气顺畅，避免分层；同时，在烧制过程中容易使得抛釉砖底部边缘的致密度均匀且与抛釉砖底部中心的致密度的接近，收缩均匀一致，有利于抛釉砖底部边缘塌角的减小。收缩区设有多条凹陷的排气槽，有利于在烧制过程中的排气，从而能有效减小抛釉砖底部中心的收缩，提高砖坯整体的平整度。更进一步说明，所述排气区21从内到外依次设有集气段211、支撑段212和放气段213，且所述排气区21竖直方向的截面呈“凹”型；所述支撑段212间隔设有排气凸起214，所述排气凸起214用于连接所述集气段211和所述放气段213。具体地，由于抛釉砖下模的上表面底纹与抛釉砖底部底纹互为阴阳，因此，使得抛釉砖的下表面分别设置有与集气段211相对应的集气部、与支撑段212相对应的支撑部、与放气段213相对应的放气部和与排气凸起214相对应的排气缺口。本技术方案生产的抛釉砖底部设置有具有排气缺口的排气部，砖坯烧制过程中产生的气体可依次经过集气部、支撑部和放气部排出，有利于砖坯在烧制过程中排气顺畅，避免分层；同时，在烧制过程中容易使得抛釉砖底部边缘的致密度均匀且与抛釉砖底部中心的致密度的接近，收缩均匀一致，有利于抛釉砖底部边缘塌角的减小。进一步地，由于排气部设有支撑部，在增加排气的同时确保了抛釉砖底部边缘的有效支撑，在抛釉砖走砖时，也会有利于下塌区域的减小。更进一步说明，所述集气段211的宽度为8～10mm。本技术方案将集气段211的宽度限定为8～10mm，有利于砖坯烧制过程中的气体向集气段211聚集，为气体的排出预留足够空间。优选的，所述集气段211的宽度为9mm。更进一步说明，所述排气凸起214的宽度为5～6mm。本技术方案将排气凸起214的宽度限定为5～6mm，有利于停留在集气段211的气体及时排出砖坯，保证砖坯在烧制过程中排气顺畅，避免分层现象的发生。优选的，所述排气凸起214的宽度为6mm。更进一步说明，所述收缩区22包括边缘收缩区222和中部收缩区223，所述边缘收缩区222位于所述收缩区22的边缘，所述中部收缩区223位于所述收缩区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛釉砖模具，其特征在于：包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的内底面设有排气区和收缩区，所述排气区突出设置于所述下模的内底面，且位于所述内底面的边缘，所述收缩区突出设置于所述内底面的中部，所述收缩区设有多条排气凸条，且所述排气区包围所述收缩区。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛釉砖模具，其特征在于：包括上模和下模，所述上模和所述下模扣合形成模腔，所述下模的内底面设有排气区和收缩区，所述排气区突出设置于所述下模的内底面，且位于所述内底面的边缘，所述收缩区突出设置于所述内底面的中部，所述收缩区设有多条排气凸条，且所述排气区包围所述收缩区。


2.根据权利要求1所述的一种抛釉砖模具，其特征在于：所述排气区从内到外依次设有集气段、支撑段和放气段，且所述排气区竖直方向的截面呈“凹”型；所述支撑段间隔设有排气凸起，所述排气凸起用于连接所述集气段和所述放气段。


3.根据权利要求2所述的一种抛釉砖模具，其特征在于：所述集气段的宽度为8～10mm。


4.根据权利要求3所述的一种抛釉砖模具，其特征在于：所述排气凸起的宽度为5～6mm。


5.根据权利要求1所述的一种抛釉砖模具，其特征在于：所述收缩区包括边缘收缩区和中部收缩区，所述边缘收缩区位于所述收缩区的边缘，所述中部收缩区位于所述收缩区的中部，所述边缘收缩区包围所述中部收缩区；且位于所述边缘收缩区的排气凸条竖直方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：李清莲，麦炳浩，陈健，周燕，杨涛，
申请(专利权)人：佛山市东鹏陶瓷发展有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44