一种图像传感器结构及制作方法技术

本发明专利技术公开了一种图像传感器结构，包括：位于衬底上的像素区域和位于所述像素区域周围的电路区域，所述像素区域的表面上设有第一色彩滤光层，所述电路区域的表面上设有第二色彩滤光层或黑胶层；其中，所述第一色彩滤光层为单层滤光层，所述第二色彩滤光层为多层滤光层，所述第二色彩滤光层或黑胶层用于阻挡由所述电路区域发出的光，从而能够有效改善图像传感器存在的发光问题。本发明专利技术还公开了一种图像传感器结构制作方法。

【技术实现步骤摘要】
一种图像传感器结构及制作方法
本专利技术涉及集成电路制造
，特别是涉及一种能够防止光线干扰的图像传感器结构及制作方法。
技术介绍
CMOS图像传感器芯片(CIS)上包括位于像素区域的像素单元和位于非像素区域的电路。当光线照射到图像传感器芯片上时，非像素区域的电路也会像像素区域的像素单元一样受到光线的照射。尤其是在与像素单元同层设置的电荷泵电路(ChargePump)、模拟/数字转换电路(ADC)等电路边缘，在受到光线的照射时，会产生发光现象，并会使离这些电路最近的几十个像素单元也感应到光。从而使得这些像素单元在暗光情况下，也会有光响应，导致图像在边缘位置出现发亮、色偏等现象。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种图像传感器结构及制作方法，以有效改善图像传感器存在的发光问题。为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：一种图像传感器结构，包括：位于衬底上的像素区域和位于所述像素区域周围的电路区域，所述像素区域的表面上设有第一色彩滤光层，所述电路区域的表面上设有第二色彩滤光层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图像传感器结构，其特征在于，包括：位于衬底上的像素区域和位于所述像素区域周围的电路区域，所述像素区域的表面上设有第一色彩滤光层，所述电路区域的表面上设有第二色彩滤光层；其中，所述第一色彩滤光层为单层滤光层，所述第二色彩滤光层为多层滤光层，所述第二色彩滤光层用于阻挡由所述电路区域发出的光。/n

【技术特征摘要】
1.一种图像传感器结构，其特征在于，包括：位于衬底上的像素区域和位于所述像素区域周围的电路区域，所述像素区域的表面上设有第一色彩滤光层，所述电路区域的表面上设有第二色彩滤光层；其中，所述第一色彩滤光层为单层滤光层，所述第二色彩滤光层为多层滤光层，所述第二色彩滤光层用于阻挡由所述电路区域发出的光。


2.根据权利要求1所述的图像传感器结构，其特征在于，所述单层滤光层包含按颜色规则布置的红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层。


3.根据权利要求1所述的图像传感器结构，其特征在于，所述多层滤光层由不同颜色的滤光层叠加而成。


4.根据权利要求1所述的图像传感器结构，其特征在于，所述多层滤光层包含蓝色滤光层和与所述蓝色滤光层相叠设的红色滤光层。


5.一种图像传感器结构制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一形成有像素区域和位于所述像素区域周围的电路区域的衬底；
在所述像素区域上形成包含绿色滤光层、蓝色滤光层和红色滤光层的单层第一色彩滤光层；其中，在形成蓝色滤光层和红色滤光层时，还使其覆盖在所述电路区域上，形成由蓝色滤光层和红色滤光层叠加而成的多层第二色彩滤光层，用于阻挡由所述电路区域发出的光。


6.根据权利要求5所述的图像传感器结构制作方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶红波，温建新，
申请(专利权)人：上海微阱电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31