用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，主要涉及硬质薄膜沉积技术领域。包括待镀膜头罩模拟件、调整底盘；所述调整底盘包括头罩支架和头罩圆环，所述待镀膜头罩模拟件的周底面与头罩支架的台阶顶面之间设有圆环状O形圈，所述待镀膜头罩模拟件的周侧面、头罩支架的台阶侧面、圆环状O形圈的外侧面与头罩圆环的内侧面相适配接触，所述头罩圆环的外侧弧面与待镀膜头罩模拟件的圆弧面之间形成连续的过渡。本实用新型专利技术的有益效果在于：能够实现待镀膜头罩模拟件与调整底盘之间的密封，避免反应物扩散到待镀膜头罩模拟件的内表面成膜，试验后发现，“衍射边”消失。

【技术实现步骤摘要】
用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置
本技术涉及硬质薄膜沉积
，具体是用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置。
技术介绍
在进行沉膜试验过程中，将待沉膜的工件放置在真空电场环境中，在该工件待沉膜的表面上沉膜，头罩模拟件的背面边缘处有“衍射边”的出现。(衍射边：反应物通过头罩与调整底盘接触的缝隙处，进入头罩与调整底盘之间，在头罩内表面的边缘形成不均匀的薄膜，反射光呈彩色，类似于单缝衍射，称之为衍射边)“衍射边”的出现是DLC膜沉积到模拟件的内表面的边缘，且膜层厚度不均引起的，这对头罩的成像会造成不良的影响。
技术实现思路
本技术的目的在于提供用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，它能够实现待镀膜头罩模拟件与调整底盘之间的密封，避免反应物扩散到待镀膜头罩模拟件的内表面成膜，试验后发现，“衍射边”消失。本技术为实现上述目的，通过以下技术方案实现：用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，包括待镀膜头罩模拟件、调整底盘；所述调整底盘包括头罩支架和头罩圆环，所述待镀膜头罩模拟件的周底面与头罩支架的台阶顶面之间设有圆环状O形圈，所述待镀膜头罩模拟件的周侧面、头罩支架的台阶侧面、圆环状O形圈的外侧面与头罩圆环的内侧面相适配接触，所述头罩圆环的外侧弧面与待镀膜头罩模拟件的圆弧面之间形成连续的过渡。所述圆环状O形圈由一个硅胶内芯或Viton胶制的内芯、相对较薄的TeflonFEP的外覆或TeflonPFA的外覆组合而成。对比现有技术，本技术的有益效果在于：1、在待镀膜头罩模拟件与调整底盘接触处加入外覆TeflonPFA或TeflonFEP的圆环状O形圈，并对调整底盘的结构做相应的修改，通过头罩的自重实现头罩、O型圈以及调整底盘之间的密封，避免反应物扩散到头罩的内表面成膜，试验后发现，“衍射边”消失。2、圆环状O形圈将橡胶的弹性和密封性与Teflon的耐化学性有机的结合起来，它是由一个硅胶或Viton胶制的内芯和相对较薄的TeflonFEP或TeflonPFA外覆组合而成，这种橡胶Teflon密封圈具有优异的密封性能。橡胶O形圈易磨损、耐化学腐蚀性和抗气体渗透性能差，纯TelfonO形圈硬度较高能够抗压缩但是弹性较差。外覆TeflonFEP/TeflonPFAO形圈具有良好的抗溶涨性和化学稳定性(除非在高温下受到碱金属、氟和一些卤化物的侵蚀)在靠近橡胶O形圈附近有很好的弹性，TelfonFEP/TeflonPFA的摩擦系数非常小(仅为0.1～0.2)，而且具有优良的抗气体渗透性，这些性能使得密封圈能够真正应用于恶劣的环境中。附图说明附图1是本技术爆炸图。附图2是本技术爆炸图。附图3是本技术组合状态图。附图4是本技术中剖视图。附图中所示标号：1、待镀膜头罩模拟件；2、调整底盘；3、头罩支架；4、头罩圆环；5、周底面；6、台阶顶面；7、圆环状O形圈；8、周侧面；9、台阶侧面；10、外侧面；11、内侧面；12、外侧弧面；13、圆弧面。具体实施方式下面结合具体实施例，进一步阐述本技术。应理解，这些实施例仅用于说明本技术而不用于限制本技术的范围。此外应理解，在阅读了本技术讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本技术作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所限定的范围。本技术所述是用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，主体结构包括待镀膜头罩模拟件1、调整底盘2；所述调整底盘2包括头罩支架3和头罩圆环4，所述待镀膜头罩模拟件1的周底面5与头罩支架3的台阶顶面6之间设有圆环状O形圈7，所述圆环状O形圈7由一个硅胶内芯或Viton胶制的内芯、相对较薄的TeflonFEP的外覆或TeflonPFA的外覆组合而成。圆环状O形圈7将橡胶的弹性和密封性与Teflon的耐化学性有机的结合起来，它是由一个硅胶或Viton胶制的内芯和相对较薄的TeflonFEP或TeflonPFA外覆组合而成，这种橡胶Teflon密封圈具有优异的密封性能。橡胶O形圈易磨损、耐化学腐蚀性和抗气体渗透性能差，纯TelfonO形圈硬度较高能够抗压缩但是弹性较差。外覆TeflonFEP/TeflonPFAO形圈具有良好的抗溶涨性和化学稳定性(除非在高温下受到碱金属、氟和一些卤化物的侵蚀)在靠近橡胶O形圈附近有很好的弹性，TelfonFEP/TeflonPFA的摩擦系数非常小(仅为0.1～0.2)，而且具有优良的抗气体渗透性，这些性能使得密封圈能够真正应用于恶劣的环境中。所述待镀膜头罩模拟件1的周侧面8、头罩支架3的台阶侧面9、圆环状O形圈7的外侧面10与头罩圆环4的内侧面11相适配接触，所述头罩圆环4的外侧弧面12与待镀膜头罩模拟件1的圆弧面13之间形成连续的过渡。在待镀膜头罩模拟件1与调整底盘2接触处加入外覆TeflonPFA或TeflonFEP的圆环状O形圈7，并对调整底盘2的结构做相应的修改，通过头罩的自重实现头罩、O型圈以及调整底盘2之间的密封，避免反应物扩散到头罩的内表面成膜，试验后发现，“衍射边”消失。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，包括待镀膜头罩模拟件(1)、调整底盘(2)；其特征在于：所述调整底盘(2)包括头罩支架(3)和头罩圆环(4)，所述待镀膜头罩模拟件(1)的周底面(5)与头罩支架(3)的台阶顶面(6)之间设有圆环状O形圈(7)，所述待镀膜头罩模拟件(1)的周侧面(8)、头罩支架(3)的台阶侧面(9)、圆环状O形圈(7)的外侧面(10)与头罩圆环(4)的内侧面(11)相适配接触，所述头罩圆环(4)的外侧弧面(12)与待镀膜头罩模拟件(1)的圆弧面(13)之间形成连续的过渡。/n

【技术特征摘要】
1.用于硬质薄膜沉积的头罩模拟件及其调整装置，包括待镀膜头罩模拟件(1)、调整底盘(2)；其特征在于：所述调整底盘(2)包括头罩支架(3)和头罩圆环(4)，所述待镀膜头罩模拟件(1)的周底面(5)与头罩支架(3)的台阶顶面(6)之间设有圆环状O形圈(7)，所述待镀膜头罩模拟件(1)的周侧面(8)、头罩支架(3)的台阶侧面(9)、圆环状O形圈(7)的外侧面(10)与...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨永亮，李娜，张泓筠，陈亮，莫秋燕，付秀华，尤恩沃德尔，
申请(专利权)人：杨永亮，
类型：新型
国别省市：贵州;52