【技术实现步骤摘要】
一种超声波单晶硅片清洗槽
本技术是一种超声波单晶硅片清洗槽,属于单晶硅片
技术介绍
单晶硅片:硅的单晶体,是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999%,甚至达到99.9999999%以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。现有的单晶硅片不方便超声波清洗,单晶硅片在进行超声波清洗时,大多采用人工送料的方式,将单晶硅片浸入至清洗槽中持续一段时间,清洗不够便捷,清洗效率低下,现在急需一种超声波单晶硅片清洗槽来解决上述出现的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术目的是提供一种超声波单晶硅片清洗槽,以解决上述
技术介绍
中提出的问题,本技术结构合理,方便单晶硅片送料清洗,清洗效率高。为了实现上述目的,本技术是通过如下的技术方案来实现:一种超声波单晶硅片清洗槽,包括顶板、便捷清洗机构、支撑板、放置台、底板以及清洗斗,所述支撑板对称安装在底板上端面左右两侧,所述顶板安装在支撑板上端面, ...
【技术保护点】
1.一种超声波单晶硅片清洗槽,包括顶板、便捷清洗机构、支撑板、放置台、底板以及清洗斗,其特征在于:所述支撑板对称安装在底板上端面左右两侧,所述顶板安装在支撑板上端面,所述放置台固定在底板上端面左侧,所述清洗斗安装在放置台右侧,所述便捷清洗机构设置在顶板下侧;/n所述便捷清洗机构包括丝杆、螺母块、电机、电动伸缩杆、超声波振子、升降板、连接管、真空吸盘以及真空泵,所述支撑板左端面上侧装配有电机,所述电机右端面安装有丝杆,所述丝杆环形侧面安装有螺母块,所述螺母块下端面装配有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆下端面固定有升降板,所述升降板上端面中间位置装配有真空泵,所述真空泵左端面安装有连 ...
【技术特征摘要】
1.一种超声波单晶硅片清洗槽,包括顶板、便捷清洗机构、支撑板、放置台、底板以及清洗斗,其特征在于:所述支撑板对称安装在底板上端面左右两侧,所述顶板安装在支撑板上端面,所述放置台固定在底板上端面左侧,所述清洗斗安装在放置台右侧,所述便捷清洗机构设置在顶板下侧;
所述便捷清洗机构包括丝杆、螺母块、电机、电动伸缩杆、超声波振子、升降板、连接管、真空吸盘以及真空泵,所述支撑板左端面上侧装配有电机,所述电机右端面安装有丝杆,所述丝杆环形侧面安装有螺母块,所述螺母块下端面装配有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆下端面固定有升降板,所述升降板上端面中间位置装配有真空泵,所述真空泵左端面安装有连接管,所述升降板下端面安装有真空吸盘,所述真空泵通过连接管与真空吸盘相连接,所述超声波振子安装在清洗斗内壁。
2.根据权利要求1所述的一种超声波单晶硅片清洗槽...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱汪龙,朱玲,
申请(专利权)人:无锡乐东微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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