一种单晶硅片垂直清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单晶硅片垂直清洗装置，属于硅片超声波清洗设备技术领域，本实用新型专利技术包括清洗带、传送带、药水池和电机，清洗带底部有数个分布均匀的凹槽，凹槽底部设有多个超声波振子，清洗带的外围设置转动块和转动杆，通过转动块和转动杆旋转清洗带，使凹槽中的单晶硅片和药水落入传送带中，药水通过传送带上的网眼落入药水池中，而传送带将单晶硅片传送至出料口。本实用新型专利技术提供的单晶硅片垂直清洗装置结构简单，操作方便，维修成本低，解决了现有的清洗装置结构复杂，维修成本高，时间长，影响工作效率的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片垂直清洗装置
本技术涉及硅片超声波清洗设备
，特别是一种单晶硅片垂直清洗装置。
技术介绍
单晶硅片是一种具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，广泛用于制造半导体器件、太阳能电池等，单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。而单晶硅片则是通过切片机有序的从硅棒上加工出来，切割后单晶硅片的表面会附着有粘接剂、有机物和硅粉，如果不将这样物质去除，影响单晶硅片的使用性能，现有的清洗装置结构复杂，维修成本高，时间长，影响工作效率。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种单晶硅片垂直清洗装置，该单晶硅片垂直清洗装置结构简单，操作方便，维修成本低。为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单晶硅片垂直清洗装置，其特征在于：包括清洗带（1）、传送带（2）、药水池（3）和电机（14）；/n清洗带（1）包括凹槽（13）、转动块（11）和转动杆（12），/n清洗带（1）的垂直方向的一端与送料口相通，清洗带（1）的外面设置电机（14），/n清洗带（1）的垂直方向的两侧通过分别连接设有转动块（11），清洗带（1）的水平方向的两侧分别内套设有转动杆（12），转动杆（12）的两端伸出清洗带（1）内套伸入同侧的转动块（11）中，转动杆（12）沿转动块（11）的中心轴向转动，转动块（11）与电机（14）相连通，清洗带（1）底部有数个分布均匀的凹槽（13）；/n传送带（2）设置在清洗带（1）...

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片垂直清洗装置，其特征在于：包括清洗带（1）、传送带（2）、药水池（3）和电机（14）；
清洗带（1）包括凹槽（13）、转动块（11）和转动杆（12），
清洗带（1）的垂直方向的一端与送料口相通，清洗带（1）的外面设置电机（14），
清洗带（1）的垂直方向的两侧通过分别连接设有转动块（11），清洗带（1）的水平方向的两侧分别内套设有转动杆（12），转动杆（12）的两端伸出清洗带（1）内套伸入同侧的转动块（11）中，转动杆（12）沿转动块（11）的中心轴向转动，转动块（11）与电机（14）相连通，清洗带（1）底部有数个分布均匀的凹槽（13）；
传送带（2）设置在清洗带（1）的下方，传送带（2）宽度和长度均大于清洗带（1）的宽度和长度，传送带（2）的表面设有多个网眼，在传送带（2）的水平方向的两侧分别设有传送皮带，传送带（2）一端连接出料口；
药水池（3）设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱汪龙，朱玲，
申请(专利权)人：无锡乐东微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32