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本实用新型公开了一种单晶硅片垂直清洗装置，属于硅片超声波清洗设备技术领域，本实用新型包括清洗带、传送带、药水池和电机，清洗带底部有数个分布均匀的凹槽，凹槽底部设有多个超声波振子，清洗带的外围设置转动块和转动杆，通过转动块和转动杆旋转清洗带，...
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