用于微透镜阵列结构制备的硅片模板以及微透镜阵列结构的制备方法和保护膜技术

本发明专利技术提供了一种用于微透镜阵列结构制备的硅片模板的制备方法，其包括修饰硅片使硅片表面具有不润湿性，在不润湿的硅片表面制备呈阵列排布的圆形图案，形成图案化的表面，在所述图案化的表面涂布SU8光刻胶，形成SU8光刻胶液滴阵列，以及通过紫外光曝光，并在95℃条件下加热，得到具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板。本发明专利技术同时也提供有利用上述硅片模板的微透镜阵列结构的制备方法，以及一种含微透镜阵列的保护膜。本发明专利技术硅片模板的制备方法简单，且制备的硅片模板可反复利用，能够降低制备成本。

【技术实现步骤摘要】
用于微透镜阵列结构制备的硅片模板以及微透镜阵列结构的制备方法和保护膜
本专利技术涉及微流控
，特别涉及一种用于微透镜阵列结构制备的硅片模板的制备方法，同时本专利技术也涉及有微透镜阵列结构的制备方法，以及一种含微透镜阵列的保护膜。
技术介绍
微透镜阵列(MLAs)是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列，可分为折射型微透镜阵列与衍射型微透镜阵列两类，它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统，其作为功能元件，在波前传感、光聚能、光整形等多种系统可得到广泛应用。目前，用于微透镜阵列的加工方法主要有金刚石切削法、模压成型法、喷墨印刷法、液滴法、光刻离子交换法以及光刻胶热熔法、低能电子束投射光刻法、台阶刻蚀法、激光直写法、电子束直写法、薄膜沉积法和灰阶掩膜法等。而除了以上方法，此外亦还有一些特种加工方法，例如应离子刻蚀法、熔融表面张力法、全息法等。上述的加工方法都能够加工特定结构尺寸的微结构表面，不过现有的加工方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于微透镜阵列结构制备的硅片模板的制备方法，其特征在于：该方法包括如下的步骤：/na.修饰硅片使硅片表面具有不润湿性；/nb.在不润湿的硅片表面制备呈阵列排布的圆形图案，形成图案化的表面；/nc.在所述图案化的表面涂布SU8光刻胶，形成SU8光刻胶液滴阵列；/nd.通过紫外光曝光，并在95℃条件下加热，即得到具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于微透镜阵列结构制备的硅片模板的制备方法，其特征在于：该方法包括如下的步骤：
a.修饰硅片使硅片表面具有不润湿性；
b.在不润湿的硅片表面制备呈阵列排布的圆形图案，形成图案化的表面；
c.在所述图案化的表面涂布SU8光刻胶，形成SU8光刻胶液滴阵列；
d.通过紫外光曝光，并在95℃条件下加热，即得到具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板。


2.根据权利要求1所述的微透镜阵列制备方法，其特征在于：步骤a中为使用1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷修饰硅片，步骤b为通过光刻技术在不润湿的硅片表面制备圆形图案，步骤d中紫外光曝光时间为2s，并在95℃条件下加热90s。


3.根据权利要求1所述的微透镜阵列制备方法，其特征在于：所制备的阵列排布的图案中，各位置处图案的尺寸相同，或者沿其一排列方向各图案具有尺寸梯度，或者至少有一位置处的图案的尺寸和其它位置处不同。


4.一种微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：该方法包括先采用权利要求1至3中任一项所述的制备方法制备具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板，还包括：
e.将PDMS的预聚物和固化剂按10：1质量比混合并搅拌均匀，去除气泡后倾倒在具有SU8凸透镜阵列的所述硅片模板上，室温下放置使PDMS充分展开铺平；
f.于60℃条件下加热固化，揭开倾倒的PDMS得到柔性PDMS微透镜阵列，且所述微透镜阵列为凹透镜阵列。


5.根据权利要求4所述的微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：步骤e中室温下放置12h，步骤f中为60℃条件下加热固化1h。


6.根据权利要求4或5所述的微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：该方法还包括如下的步骤：
g.对制备的柔性PDMS凹透镜阵列进行疏水处...

【专利技术属性】
技术研发人员：巫金波，丁叶凯，温维佳，薛厂，张萌颖，林银银，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海;31