一种单一电子束蒸发源的镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种单一电子束蒸发源的镀膜机，包括公转夹具（1）、真空室腔体（6）、真空室门（9），在真空室腔体（6）内设置有单一电子束蒸发源（4），在真空室腔体（6）内公转夹具（1）的下方和电子束蒸发源（4）所在蒸发平面（5）的上方设置有可升降的修正板系统，且修正板系统包括可独立工作的内侧修正板（2）和外侧修正板（3），能够在降低成本的同时，有效提高镀膜的均匀性，并使得光学膜厚均匀性得到有效控制。

【技术实现步骤摘要】
一种单一电子束蒸发源的镀膜机
本专利技术涉及光学薄膜制备技术等领域，具体的说，是一种单一电子束蒸发源的镀膜机。
技术介绍
光学薄膜的膜厚均匀性是衡量镀膜机性能的一项重要指标，它影响着光学元件的光谱特性，决定了能达到要求的实际有效镀膜面积。薄膜厚度分布均匀性是指在公转夹具上放置的待镀膜镜片表面所沉积的薄膜厚度的分布情况。对于高精度、高性能的光学系统，或大口径的光学元件和批量生产的光学元件，膜厚的均匀分布尤其重要。电子束蒸发镀膜机一般由真空室腔体、修正板、公转夹具、真空室门等所组成，且真空室腔体侧的内侧门闭合面与真空室门侧的外侧门闭合面相配合可使真空室腔体和真空室门形成一个有机的整体，对于几乎所有的电子束蒸发镀膜机，的需要在镀膜机内添加修正板对膜厚分布进行严格的校正。这是真空镀膜中改善膜厚分布均匀性的一种重要方法。在以往的理论研究和实际生产中，当涉及到改善均匀性分布时，最常见的做法是将修正板置于蒸发源的正上方[唐晋发，顾培夫，刘旭，等.现代光学薄膜技术.杭州：浙江大学出版社，2006:271-278]。大部分情况下，光学介质薄膜由交本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单一电子束蒸发源的镀膜机，包括公转夹具（1）、真空室腔体（6）、真空室门（9），其特征在于：在真空室腔体（6）内设置有单一电子束蒸发源（4），在真空室腔体（6）内公转夹具（1）的下方和电子束蒸发源（4）所在蒸发平面（5）的上方设置有可升降的修正板系统，且修正板系统包括可独立工作的内侧修正板（2）和外侧修正板（3）。/n

【技术特征摘要】
1.一种单一电子束蒸发源的镀膜机，包括公转夹具（1）、真空室腔体（6）、真空室门（9），其特征在于：在真空室腔体（6）内设置有单一电子束蒸发源（4），在真空室腔体（6）内公转夹具（1）的下方和电子束蒸发源（4）所在蒸发平面（5）的上方设置有可升降的修正板系统，且修正板系统包括可独立工作的内侧修正板（2）和外侧修正板（3）。


2.根据权利要求1所述的一种单一电子束蒸发源的镀膜机，其特征在于：所述内侧修正板（2）和外侧修正板（3）在蒸发平面的投影位于真空室腔体（6）的半径方向上，且在膜厚相对待镀膜样品到真空室腔体（6）中心距离最不敏感的角度。


3.根据权利要求1所述的一种单一电子束蒸发源的镀膜机，其特征在于：在所述真空室腔体（6）内，所述内侧修正板（2）远离真空室门（9）设置，所述外侧修正板（3）靠近真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍刚华，卢成，王伟，张勇军，李江平，
申请(专利权)人：成都国泰真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51