显示面板、电子设备及显示面板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种显示面板、电子设备及显示面板。所述显示面板所述显示面板为叠层结构，包括基板、位于所述基板上方的薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上方的像素定义层和位于所述像素定义层上方的发光结构；所述发光结构包括间隔设置的多个透光区和发光区，其中，多个所述透光区用于对应光传感器；其中，所述发光结构包括位于所述透光区的第一光提取层。本发明专利技术能够提高显示面板的透光率。

【技术实现步骤摘要】
显示面板、电子设备及显示面板的制作方法
本专利技术涉及电子显示领域，尤其涉及一种显示面板、电子设备及显示面板的制作方法。
技术介绍
屏下摄像头技术是为了突破现有显示屏的屏占比极限而提出的一种新技术，其原理是将摄像头集成在显示设备的显示区中，使该区域能够同时实现显示和摄像的功能，从而实现真正意义上的全面屏。由于屏下摄像头隐藏在显示面板内部，进入摄像头的光线不可避免的会被显示面板的封装层、电极层等材料阻挡和吸收，增大了成像难度。因此需要对透光区域进行处理，提高该区域光线的透过率，以提高成像水平。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示面板、电子设备及显示面板的制作方法，以解决提高显示面板的透光区域的透光率。为解决上述问题，本专利技术提供了一种显示面板，所述显示面板为叠层结构，包括基板、位于所述基板上方的薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上方的像素定义层和位于所述像素定义层上方的发光结构；所述发光结构包括间隔设置的多个透光区和发光区，其中，多个所述透光区用于对应光传感器；其中，所述发光结构包括位于所述透光区的第一光提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板为叠层结构，包括基板、位于所述基板上方的薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上方的像素定义层和位于所述像素定义层上方的发光结构；/n所述发光结构包括间隔设置的多个透光区和发光区，其中，多个所述透光区用于对应光传感器；其中，/n所述发光结构包括位于所述透光区的第一光提取层。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板为叠层结构，包括基板、位于所述基板上方的薄膜晶体管层、位于所述薄膜晶体管层上方的像素定义层和位于所述像素定义层上方的发光结构；
所述发光结构包括间隔设置的多个透光区和发光区，其中，多个所述透光区用于对应光传感器；其中，
所述发光结构包括位于所述透光区的第一光提取层。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光结构包括阴极，所述阴极上设有位于所述透光区的穿孔；其中，所述第一光提取层对应于所述穿孔。


3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光结构包括阴极，所述阴极的至少一部分位于所述透光区，其中，所述第一光提取层位于所述阴极的靠近所述基板的一侧。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述发光结构还包括位于所述透光区的第二光提取层，其中，所述第二光提取层位于所述阴极的远离所述基板的一侧。


5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管层包括对应于多个所述透光区的多个透光单元，所述第一光提取层在水平面上的投影面积大于或等于所述薄膜晶体管层中的透光单元在水平面上的投影面积。


6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，形成所述第一光提取层的材料为无机物或有机小分子。


7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，形成所述第二光提取层的材料为无机物或有机小分子。


8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透光区的像素定义层和第一光提取层之间具有辅助发光层，所述辅助发光层由与所述透光区相邻的发光区中的辅助发光层的延伸构成。


9.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：高洪，金武谦，赵勇，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42