一种待极化件、承载台和极化室制造技术

技术编号:24803443 阅读:27 留言:0更新日期:2020-07-07 21:44
本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术,尤其涉及一种待极化件、承载台和极化室。所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜,所述基底包括基板、接地电极和接地引脚,所述接地引脚位于基板边缘,所述接地电极包括多个,所述接地电极在基板上间隔排列,所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面,所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。本公开实施例所提供的待极化件、承载台和极化室,实现了快速极化多个极化件的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种待极化件、承载台和极化室
本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术,尤其涉及一种极化室。
技术介绍
极化是薄膜材料处理中的一个重要环节,主要目的是使薄膜材料中杂乱取向的分子偶极矩沿着特定方向(如极化电场方向)一致取向,从而使该薄膜材料具有压电性能。在对待极化件进行极化时,一次只能极化一个高分子薄膜,极化速度慢。因此,如何提供一种极化速度快的极化方案,就成了现有技术的需求。
技术实现思路
本公开实施例提供一种极化室,以实现快速极化待极化件。第一方面,本公开实施例提供了一种待极化件,所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜,所述基底包括基板、接地电极和接地引脚,所述接地引脚位于基板边缘,所述接地电极包括多个,所述接地电极在基板上间隔排列,所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面,所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。第二方面,本公开实施例提供了一种承载台,所述承载台用于承载本公开第一实施例所述的待极化件,所述承载台呈平板状,所述承载台上开设有承载槽,所述承载槽的底部还开设至少两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种待极化件,其特征在于:所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜,所述基底包括基板、接地电极和接地引脚,所述接地引脚位于基板边缘,所述接地电极包括多个,所述接地电极在基板上间隔排列,所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面,所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。/n

【技术特征摘要】
20181227 US 62/785,6651.一种待极化件,其特征在于:所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜,所述基底包括基板、接地电极和接地引脚,所述接地引脚位于基板边缘,所述接地电极包括多个,所述接地电极在基板上间隔排列,所述接地引脚和接地电极设置于所述基板的同一表面,所述高分子薄膜覆盖所述接地电极并暴露所述接地引脚。


2.一种承载台,其特征在于:所述承载台用于承载权利要求1所述的待极化件,所述承载台呈平板状,所述承载台上开设有承载槽,所述承载槽的底部还开设至少两个贯穿所述承载台厚度方向的顶升孔,所述承载台上和承载槽相对的表面上还开设接地孔,所述承载台还包括承载电极,至少部分所述承载电极设置在所述接地孔的底部以及承载槽的侧面。


3.一种极化室,其特征在于:所述极化室用于极化权利要求2所述的承载台上放置的待极化件,所述极化室包括第二顶升装置和顶盖,所述顶盖包括导电片,所述第二顶升装置包括接地导线,所述第二顶升装置位于所述顶盖下方,所述承载台和承载台上的待极化件位于预设的第二位置后,所述第二顶升装置升高使所述承载台升高并和所述顶盖接触,所述顶盖把所述承载台上高分子薄膜露出,所述顶盖的导电片同时和所述待极化件的接地引脚、所述承载台的承载电极电性接触,所述第二顶升装置的接地导线和所述承载电极接触。


4.根据权利要求3所述的极化室,其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员:陆红卫王大亮丁坤宝埃夫仁张晓燕王开安
申请(专利权)人:奥昱新材料技术嘉兴有限公司
类型:发明
国别省市:浙江;33

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