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本公开实施例涉及高分子薄膜极化技术，尤其涉及一种待极化件、承载台和极化室。所述待极化件包括基底和形成在所述基底上的高分子薄膜，所述基底包括基板、接地电极和接地引脚，所述接地引脚位于基板边缘，所述接地电极包括多个，所述接地电极在基板上间隔排列...
该专利属于奥昱新材料技术(嘉兴)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过奥昱新材料技术(嘉兴)有限公司授权不得商用。

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