一种粉体表面处理系统技术方案

本实用新型专利技术涉及材料表面处理装置领域，特别是一种粉体表面处理系统，其包括反应腔、供气装置、抽气装置、电极、处理剂雾化机构、分散机构，其中，所述供气装置、抽气装置、处理剂雾化机构分别与反应腔连通；所述电极设置在反应腔外侧；所述分散机构设置在反应腔内。通过供气装置和抽气装置可以为反应腔提供气氛以及调节气压；通过电极和电源可以使反应腔内的气氛等离子体化；接着通过分散机构将粉体分散在反应腔内，最后通过处理剂雾化机构将表面处理剂雾化，使粉体、表面处理剂充分接触，完成粉体的表面改性。通过本粉体表面处理系统进行粉体的表面处理，可以有效的提高粉体表面处理的效率以及质量。

【技术实现步骤摘要】
一种粉体表面处理系统
本技术涉及材料表面处理装置领域，特别是一种粉体表面处理系统。
技术介绍
随着材料及相关产业的科技进步，粉体作为普通的工业原料，其加工处理技术日新月异，应用范围也在不断地拓展。通过表面改性或表面包覆，能够赋予复合颗粒及粉体形态学的改善、物理化学物性的改善；力学物性的改善；颗粒物性控制；复合协同效应；以及粉体的复合物质化等特殊的功能。等离子体(一般指低温等离子体)表面处理一般在压力在几十帕(一定的真空度)，一定的气氛(Ar\H2\O2\N2\NH3\CCl4等)流动情况，由电极板施加一定的电压，制造腔体内的等离子体环境，等离子体化的气氛离子具有较高能力，能够轰击材料的表面，从而产生一系列的物理化学反应，改变材料的表面性能。由于粉体具有易团聚，不宜分散的特性，导致很多粉体的表面没有被很好的处理，从而限制粉体产品的应用，或者不能达到高质量(均匀、可控的表面处理)的产品。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种粉体表面处理系统，解决现有的粉体表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粉体表面处理系统，其特征在于，包括，/n反应腔，用于粉体进行表面改性的场所；/n供气装置，用于为反应腔提供气氛；/n抽气装置，与供气装置配合以调节反应腔内的气压；/n电极，用于将反应腔内的气氛转化为等离子体；/n处理剂雾化机构，用于为反应腔提供雾化状态的表面处理剂；/n分散机构，用于将反应腔的粉体分散；/n其中，所述供气装置、抽气装置、处理剂雾化机构分别与反应腔连通；所述电极设置在反应腔外侧；所述分散机构设置在反应腔内。/n

【技术特征摘要】
1.一种粉体表面处理系统，其特征在于，包括，
反应腔，用于粉体进行表面改性的场所；
供气装置，用于为反应腔提供气氛；
抽气装置，与供气装置配合以调节反应腔内的气压；
电极，用于将反应腔内的气氛转化为等离子体；
处理剂雾化机构，用于为反应腔提供雾化状态的表面处理剂；
分散机构，用于将反应腔的粉体分散；
其中，所述供气装置、抽气装置、处理剂雾化机构分别与反应腔连通；所述电极设置在反应腔外侧；所述分散机构设置在反应腔内。


2.根据权利要求1所述的粉体表面处理系统，其特征在于，所述处理剂雾化机构包括用于存放表面处理剂的处理剂容器罐以及超声波雾化器，所述处理剂容器罐、超声波雾化器和反应腔依次连接，所述超声波雾化器将表面处理剂在反应腔内雾化成雾状。


3.根据权利要求2所述的粉体表面处理系统，其特征在于，所述粉体表面处理系统还包括设置在反应腔和供气装置之间且对气氛进行加热的气流加热器。

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【专利技术属性】
技术研发人员：夏丽红，
申请(专利权)人：奈米科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44