日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置制造方法及图纸

日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中心正对下火道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑内燃烧产物进行搅拌，强化传热。燃烧室是直径为３５０ｍｍ～５６０ｍｍ的半圆拱，长度２００ｍｍ～３５０ｍｍ；燃烧室的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。燃气通过烧咀喷入烧咀砖进入燃烧室燃烧后，燃烧产物再进入窑内通道。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度 均匀结构装置，为日用瓷窑炉

技术介绍
日用瓷气烧还原焰隧道窑为满足陶瓷制品在烧结过程中的物理化学变 化的需要， 一般将窑炉划分为三个区氧化排烟区，还原高火保温区和急冷 缓冷区。在氧化排烟区设置有一定数量的烧咀，用于满足陶瓷制品氧化时所 必需的氧化气氛和对应的温度。但是，现有的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构通常就是 烧咀砖的结构。这种结构的燃烧室的弊端在于1、 易导致低温区的火焰"钢性"过强；2、 烧咀附近及喷火口之间的温差较大；3、 烧咀容易熄火。因而陶瓷制品在其中的的受热不是均匀的，而是波浪式的。这样给制品 的烧成带来很多的缺陷开裂、阴黄、过火、冲泡、彩色不正等等；同时， 也导致窑炉烧成的能耗增高，给安全生产带来了较大的隐患。改革低温氧化区燃烧室结构，研发一种新型的结构，便于还原焰陶瓷制 品的烧成，克服低温氧化控制不当带来的缺陷，具有重要的现实意义。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种科学合理、简单易行的曰用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构，满足陶瓷制品氧化时所必需 的氧化气氛和必要的温本文档来自技高网...

【技术保护点】
日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，其特征在于：在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处设有扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道的燃烧室。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：聂岳军，
申请(专利权)人：湖南华联瓷业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：43[中国|湖南]