一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术涉及镀膜技术领域，具体涉及一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法。本发明专利技术提供的抗腐蚀性玻璃，包括玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。本发明专利技术通过上述金属元素的组合使用，能够在耐腐蚀膜层较薄的情况下，在不影响玻璃表面功能膜层作用的前提下，维持玻璃基体光学特性并增强玻璃基体抗腐蚀性的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法
本专利技术涉及镀膜
，具体涉及一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法。
技术介绍
薄膜材料是目前十分具有应用前景的新型材料，与人们的生产活动息息相关，随着现代科学技术和薄膜技术的发展以及人民生活水平的提高，对薄膜材料的各项性能指标也提出了新的要求，生产者希望使其具备适应各种应用条件的良好性能。传统的装饰玻璃镀膜工艺中，镀制的薄膜材料虽然可以满足特定的功能需求，如彩色装饰、光学性质等，但这些功能膜层本身往往不耐酸碱腐蚀，导致薄膜易受破坏，影响产品寿命。而在现今的玻璃表面制备功能薄膜的工艺中，金属或合金层是一个非常重要的组成部分，在玻璃镀膜产品中起到关键的作用。例如在干涉光学薄膜中，金属层作为必不可少的反射层包裹在光学膜系的最外层，起到干涉成色的作用。即使是本身具有颜色的玻璃基底材料，外表面镀制不同厚度的金属或合金层也能起到镜面装饰效果或者保护内部功能膜层的作用。然而，目前市面上多数产品最外层金属或合金均并不具有耐腐蚀的特性，因而导致产品稳定性差，影响使用效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抗腐蚀性玻璃及其制备方法。本专利技术提供的抗腐蚀性玻璃能够在提高抗腐蚀性的同时，不影响原有玻璃表面功能膜层的作用，不影响其整体的颜色和装饰效果，适宜推广使用。为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：本专利技术提供了一种抗腐蚀性玻璃，包括玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。优选地，当所述耐腐蚀膜层为钛铝铬镍合金时，所述钛、铝、铬和镍元素的摩尔比为(60～75):(12～20):(8～15):(0.1～0.8)。优选地，当所述耐腐蚀膜层为钛铝合金时，所述钛和铝元素的摩尔比为(4～7):(3～6)。优选地，当所述耐腐蚀膜层为钛铬合金时，所述钛和铬元素的摩尔比为(6～8):(2～4)。优选地，所述玻璃基体为透明玻璃或彩色玻璃。本专利技术还提供了上述技术方案所述抗腐蚀性玻璃的制备方法，包括以下步骤：采用磁控溅射在玻璃基体表面镀耐腐蚀膜层，得到抗腐蚀性玻璃；溅射靶材为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。优选地，所述溅射靶材的溅射功率为10～600W。优选地，所述磁控溅射的气压为0.1～1Pa。优选地，所述磁控溅射在氩气气氛中进行，所述氩气的流量为40～300sccm。本专利技术提供了一种抗腐蚀性玻璃，其特征在于，玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。在本专利技术中，钛具有优异的抗强酸腐蚀性，铝具有强钝化性，铬具有钝化作用，且其钝化膜耐腐蚀性良好，镍具有优秀的耐碱腐蚀性，且在海水及盐类溶液中都极为稳定。通过上述金属元素的组合使用，能够在耐腐蚀膜层较薄的情况下，达到维持玻璃基体光学透过性并增强玻璃基体抗腐蚀性的效果。附图说明图1为对比例1玻璃基体经过72小时国标盐雾实验后的效果图；图2为本专利技术实施例1制备的抗腐蚀性玻璃经过72小时国标盐雾实验后的效果图。具体实施方式本专利技术提供了一种抗腐蚀性玻璃，包括玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。本专利技术提供的抗腐蚀性玻璃包括玻璃基体。在本专利技术中，所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层。本专利技术对所述功能膜层的具体组分和制备方法没有特殊的限定，采用本领域技术人员所熟知的组分和制备方法即可，具体的如光学薄膜或装饰薄膜。在本专利技术中，所述玻璃基体优选为透明玻璃。本专利技术提供的抗腐蚀性玻璃包括设置于所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层。在本专利技术中，所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm，优选为15～100nm，进一步优选为20～200nm，更优选为50nm。本专利技术限定耐腐蚀膜层的厚度为上述范围，能够在不影响玻璃表面功能膜层各个组分作用的前提下提高功能膜层的耐腐蚀性，不影响原有玻璃基体整体的颜色及装饰效果。在本专利技术中，所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。具体地，所述耐腐蚀膜层为钛铝铬镍合金、钛铝合金、钛铬合金、钛镍合金、铝铬合金、铝镍合金或铬镍合金。在本专利技术中，当所述耐腐蚀膜层为钛铝铬镍合金时，所述钛、铝、铬和镍元素的摩尔比优选为(6.0～7.5):(1.2～2.0):(0.8～1.5):(0.1～0.8)，更优选为7:1.5:1:0.5；当所述耐腐蚀膜层为钛铝合金时，述钛和铝元素的摩尔比为优选为(4～7):(3～6)，更优选为1:1；当所述耐腐蚀膜层为钛铬合金时，所述钛和铬元素的摩尔比优选为(6～8):(2～4)，更优选为7:3；当所述耐腐蚀膜层为钛镍合金时，所述钛和镍元素的摩尔比优选为(9.5～9.9):(0.1～0.5)，更优选为9.8:0.2；当所述耐腐蚀膜层为铝铬合金时，所述铝和铬元素的摩尔比优选为(3～7):(3～7)，更优选为6.5:3.5；当所述耐腐蚀膜层为铝镍合金时，所述铝和镍元素的摩尔比优选为(9.5～9.9):(0.1～0.5)，更优选为9.7:0.3；当所述耐腐蚀膜层为铬镍合金时，所述铬和镍元素的摩尔比优选为(9.5～9.9):(0.1～0.5)，更优选为9.8:0.2。本专利技术提供了上述技术方案所述抗腐蚀性玻璃的制备方法，包括以下步骤：采用磁控溅射在玻璃基体表面镀耐腐蚀膜层，得到抗腐蚀性玻璃；溅射靶材为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。在本专利技术中，所述玻璃基体优选先经清洁处理，再溅射耐腐蚀膜层。本专利技术对所述清洁处理的具体方法没有特殊的限定，采用本领域技术人员所熟知的清洁方法，去除玻璃基体表面的杂质即可。本专利技术对所述磁控溅射用设备没有特殊的限制，采用本领域技术人员熟知的磁控溅射仪即可。在本专利技术的实施例中，所述磁控溅射的设备型号优选为TSU-650；所述磁控溅射使用的电源优选为射频电源。在本专利技术中，溅射靶材为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金，具体组成与耐腐蚀膜层的组成一致，这里不再赘述。在本专利技术中，所述溅射靶材的磁控溅射功率优选为10～600W，更优选为50～300W，进一步优选为90W；所述磁控溅射的气压优选为0.1～1Pa，更优选为0.4～0.7Pa，进一步优选为0.5Pa；所述磁控溅射优选在氩气气氛中进行，所述氩气的流量优选为40～300sccm，更优选为100～200sccm；本专利技术对所述磁控溅射的镀膜时间没有特殊的限定，以得到符合上述技术方案所述耐腐蚀膜层的厚度为宜。下面将结合本专利技术中的实施例，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗腐蚀性玻璃，其特征在于，包括玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。/n

【技术特征摘要】
1.一种抗腐蚀性玻璃，其特征在于，包括玻璃基体和设置在所述玻璃基体表面的耐腐蚀膜层；所述玻璃基体包括玻璃和设置于所述玻璃表面的功能膜层；所述耐腐蚀膜层的厚度为10～2000nm；所述耐腐蚀膜层为包括钛、铝、铬和镍中的至少两种元素的合金。


2.根据权利要求1所述的抗腐蚀性玻璃，其特征在于，当所述耐腐蚀膜层为钛铝铬镍合金时，所述钛、铝、铬和镍元素的摩尔比为(60～75):(12～20):(8～15):(0.1～0.8)。


3.根据权利要求1所述的抗腐蚀性玻璃，其特征在于，当所述耐腐蚀膜层为钛铝合金时，所述钛和铝元素的摩尔比为(4～7):(3～6)。


4.根据权利要求1所述的抗腐蚀性玻璃，其特征在于，当所述耐腐蚀膜层为钛铬合金时，所述钛和铬元...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙珲，扎玛托福，王昆仑，辛艳青，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：山东;37