一种气体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体装备制造技术领域，尤其涉及一种气体处理装置，包括腔室，加热装置，气体管道，测温装置，冷却系统和点火装置，气体处理装置设置有内层和外层，气体处理装置的内层组成的封闭空间构成腔室，气体管道从气体处理装置外层的外部通入到腔室内，加热装置设置在气体管道上，冷却系统设置在气体处理装置内层与外层之间，气体处理装置上还设置有助燃气体通道，助燃气体管路与腔室连通，点火装置设置在腔室里面，将腔室的两侧侧壁设置成对称的膜片结构，该膜片结构能够发生形变即凸起或凹陷，本发明专利技术节能高效，且能够实现对被处理气体的分解物高效回收。

【技术实现步骤摘要】
一种气体处理装置
本专利技术涉及半导体装备制造
，尤其涉及一种气体处理装置。
技术介绍
在半导体和太阳能电池加工工艺中会产生大量尾气，这些尾气大部分有毒，如直接排放会对环境造成严重污染，所以需要对这些气体进行处理。现在尾气处理大多有燃烧、热解、化学反应等方法。有些尾气只能用热解的方式来处理，将有毒的气体热解成无毒的物质。为了减少尾气的运输和存储成本，大部分尾气处理装置直接连接在工艺设备尾端，这就需要尾气的处理装置体积小、处理效率高、无毒物质收集方便等。气体处理装置主要采用热解的方法，气体处理时就需要大量的热量，从而消耗大量能量。在气体处理过程中会产生固体的分解物，要及时将这些分解物收集后排出气体处理装置。为了收集分解物，气体处理装置的侧壁需要降温冷却，从而将高温的分解物吸附在侧壁上，同时还要保证分解物吸附在侧壁后还能轻松剥离进行收集。分解物在排出气体处理装置时整个装置不能停止工作，要保证气体处理装置的连续性，不能中断。因此，亟需提供一种节能高效，且能够实现对被处理气体的分解物高效回收，并能够保证在收集分解物的过程中整个气体处理装置正常运转的气体处理装置。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题为了解决现有技术的上述问题，本专利技术提供一种节能高效，且能够实现对被处理气体的分解物高效回收的气体处理装置。(二)技术方案为了达到上述目的，本专利技术采用的主要技术方案包括：本专利技术提供一种气体处理装置，包括腔室，加热装置，气体管道和点火装置，气体管道包括入口段和反应段，入口段位于气体处理装置的外侧，反应段位于腔室内并与腔室连通，加热装置设置在气体管道的反应段上，被处理气体在反应段内受热分解；气体处理装置上还设置有助燃气体通道，助燃气体管路与腔室连通；点火装置点火端设置在腔室里面，并用于引燃真空腔内被处理气体受热分解后的产物。进一步地，气体处理装置还包括由内层和外层构成的壳体，内层组成的封闭空间构成腔室，还设置有冷却系统，所述冷却系统设置在内层与外层之间。进一步地，内层侧壁包括两个对称设置的膜片结构，该膜片结构能够在膜片驱动装置的带动下发生形变，且腔室的侧壁与气体处理装置的外层通过波纹管连接。进一步地，膜片驱动装置包括两个对称设置的磁流体，两个磁流体分别与两个膜片结构固定连接。进一步地，在腔室内还设置有清扫装置，清扫装置中心对称设置在腔室内，用于对腔室侧壁进行清扫，清扫装置上设置有金属刷，金属刷转动起来能够对膜片结构的表面起到清扫的作用，清扫装置与磁流体内部的旋转轴转动连接，通过转动旋转轴能够带动清扫装置上的金属刷转动，磁流体内有空腔结构，能够将吹扫用的气体通过空腔结构通入到清扫装置中，并且能够在金属刷转动的同时将吹扫用的气体持续通入到清扫装置中。进一步地，气体处理装置还包括气体流量控制装置和助燃气体管路，气体流量控制装置设置在助燃气体管路上，助燃气体管路与腔室连通。进一步地，气体处理装置还包括气体探测装置，气体探测装置的检测端位于真空腔内用于探测腔室内的气体含量。进一步地，腔室的下面设置有回收装置，回收装置的入口与腔室贯通。进一步地，回收装置包括两个回收罐，每个回收罐上方设置有两个阀门。进一步地，还包括测温装置，测温装置探测端设置在腔室内，用于检测气体管道内的温度，保证气体管道内的温度处于设定范围，当点火装置点火后，测温装置检测到温度超限后，冷却系统会作用于腔室的侧壁对腔室的侧壁进行降温。(三)有益效果本专利技术的有益效果是：1、本专利技术利用气体分解后的产物进行燃烧，燃烧时产生的热量可以帮助气体分解，减少能量消耗。2、本专利技术中可以通入适量气体可以和被处理的气体反应，并且可以和分解产物反应，可以提高气体的处理效率。3、本专利技术中的腔室侧壁为膜片结构，可以凸起和凹陷，从而使吸附在侧壁上的物质脱落，便于回收。4、本专利技术中的腔室侧壁内装有冷却装置，便于吸附分解后的产物。5、本专利技术中装有清扫装置，可以清扫腔室侧壁上吸附的物质，同时还可以用气体进行吹扫。6、本专利技术中的回收装置设有两个回收罐，其中一个为备用，这样可以在更换回收罐时不停机。附图说明图1为本专利技术气体处理装置的整体外观图；图2为本专利技术气体处理装置的内部剖视图；图3为本专利技术气体处理装置的腔室凹陷状态示意图；图4为本专利技术气体处理装置的腔室凸起状态示意图；图5为本专利技术气体处理装置的处理气体所在区域示意图；图6为本专利技术气体处理装置的冷却装置所在区域示意图。【附图标记说明】1：腔室；2：加热装置；3：气体管道；4：清扫装置；5：测温装置；6：气体流量控制装置；7：磁流体；8：气体探测装置；9：冷却系统；10：点火装置；11：回收装置；11a：回收罐；11b：阀门。具体实施方式为了更好的解释本专利技术，以便于理解，下面结合附图，通过具体实施方式，对本专利技术作详细描述。本专利技术提供一种气体处理装置，包括腔室1，加热装置2，气体管道3和点火装置10。气体管道3包括入口段和反应段，入口段位于气体处理装置的外侧，反应段位于腔室1内并与腔室1连通，加热装置2设置在气体管道3的反应段上，被处理气体在反应段内受热分解；气体处理装置上还设置有助燃气体通道，助燃气体管路与腔室1连通，以向腔室1内通入助燃气体，所述助燃气体与被处理气体受热分解后的产物能够燃烧反应；点火装置10点火头设置在腔室里面，并用于引燃被处理气体受热分解后的产物，为了进一步有效利用好被处理气体，需要对被处理气体受热分解后的产物进一步处理，因此通过设置点火装置10进一步引燃真空腔内被处理气体受热分解后的产物，与此同时，燃烧在腔室1里面进行，因此燃烧产生的热量中有一部分能够直接作用于气体管道3的反应段，起到降低加热装置2能耗的作用。优选地，腔室1内部环境为真空，以保证腔室1内部不与整个装置外部相通。进一步地，气体处理装置还包括由内层和外层构成的壳体，内层组成的封闭空间构成腔室1，通过内层和外层的设置，更好地对构成的腔室1起到密封作用，同时，气体处理装置还设置有冷却系统9，冷却系统9设置在内层与外层之间，具体地，在冷却系统的作用区域内持续通入低温流体，如图6所示，只要保证低温流体的温度低于腔室1内气体燃烧的温度，形成温度差，就能对腔室1的侧壁起到降温作用进而起到防止腔室1内温度过高的作用，如图6所示阴影部分为冷却装置所处区域。进一步地，气体处理装置内层侧壁包括两个对称设置的膜片结构，该膜片结构能够在膜片驱动装置的带动下发生形变，并且由于腔室1的侧壁需要伸缩，腔室1的侧壁与气体处理装置的外层通过波纹管连接，可以保证腔室1侧壁凸起与凹陷时腔室1的密闭性，在降温的过程中，由于腔室1侧壁温度低，会促使被处理气体受热分解后的产物以及在腔室1内进行燃烧生成的产物吸附在设置的膜片结构上形成吸附物，因此需要对吸附物进行清洁处理，通过对膜片结构产生形变便于将吸附物从膜片结构上清本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体处理装置，其特征在于，/n包括腔室(1)，加热装置(2)，气体管道(3)和点火装置(10)；/n气体管道(3)包括入口段和反应段，入口段位于气体处理装置的外侧，反应段位于腔室(1)内并与腔室(1)连通，加热装置(2)设置在气体管道(3)的反应段上，被处理气体在反应段内受热分解；/n气体处理装置上还设置有助燃气体管路，助燃气体管路与腔室(1)连通；/n点火装置(10)点火端设置在腔室(1)里面，并用于引燃被处理气体受热分解后的产物。/n

【技术特征摘要】
1.一种气体处理装置，其特征在于，
包括腔室(1)，加热装置(2)，气体管道(3)和点火装置(10)；
气体管道(3)包括入口段和反应段，入口段位于气体处理装置的外侧，反应段位于腔室(1)内并与腔室(1)连通，加热装置(2)设置在气体管道(3)的反应段上，被处理气体在反应段内受热分解；
气体处理装置上还设置有助燃气体管路，助燃气体管路与腔室(1)连通；
点火装置(10)点火端设置在腔室(1)里面，并用于引燃被处理气体受热分解后的产物。


2.根据权利要求1所述的气体处理装置，其特征在于，气体处理装置还包括由内层和外层构成的壳体，内层组成的封闭空间构成腔室(1)；
还设置有冷却系统(9)，所述冷却系统(9)设置在内层与外层之间。


3.根据权利要求2所述的气体处理装置，其特征在于，
所述内层侧壁包括两个对称设置的膜片结构，该膜片结构能够在膜片驱动装置的带动下发生形变；
且腔室(1)的侧壁与气体处理装置的外层通过波纹管连接。


4.根据权利要求3所述的气体处理装置，其特征在于，
膜片驱动装置包括两个对称设置的磁流体(7)，两个所述磁流体(7)分别与两个膜片结构固定连接。


5.根据权利要求4所述的气体处理装置，其特征在于，
在腔室(1)内还设置有清扫装置(4)，所述清扫装置(4)中心对称设置在腔室(1)内，用于对腔室(1)侧壁进行清扫，清扫装置(4)上设置有金属刷，金属刷转动起来能够对膜片结构的表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢继奎，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11