【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溅射的锂钴氧化物靶
本专利技术涉及锂钴氧化物溅射靶的领域。更具体地，本专利技术涉及即使在直流模式下也可进行溅射的锂钴氧化物溅射靶。
技术介绍
可再充电薄膜电池(RTFB)可以是超薄(200μm)的可再充电固态电池，具有快速再充电和长的寿命。例如，它们可以应用在屏幕上装有电池的超薄手机中。其他应用例如是“物联网”设备或芯片电池中的RTFB。在图1中示意性地示出RTFB的基本实例。它包括在阴极侧的第一电极11、阴极12、固体电解质13、阳极14、在阳极侧的第二电极15的堆叠。钴酸锂(LiCoO2)可用作这些RTFB的阴极材料。因此，阴极材料决定了电池电压。钴酸锂具有允许高容量的优点。阳极14可以是用于提供锂离子的锂金属阳极。它也可以是Li化合物，可以是锂离子阳极，例如包含Li的Li-氧化物或氮化物，它可以是碳或石墨结构或甚至硅(像海绵一样吸收或释放Li)，等等。电解质应为电隔离器，但必须具有良好的离子传导性。在RTFB中，阳极和阴极之间的电解质是固体材料，其具有不会开始泄漏的优点。电解质可以例如是LiPO...
【技术保护点】
1.一种溅射靶(100)，其包含顶涂层(103)，所述顶涂层(103)包含锂钴氧化物Li
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171218 BE 2017/59571.一种溅射靶(100)，其包含顶涂层(103)，所述顶涂层(103)包含锂钴氧化物LiyCozOx组合物，其中x小于或等于y+z，并且其中当使用具有CuKα1辐射的X射线衍射仪测量X射线衍射图案时，所述锂钴氧化物具有的X射线衍射图案在44°±0.2°2-θ处具有峰P2。
2.根据权利要求1所述的溅射靶(100)，其中所述锂钴氧化物具有X射线衍射图案，该X射线衍射图案还包括在38°±0.2°2-θ处的峰P1和在64°±0.2°2-θ处的峰P3。
3.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶(100)，其中所述峰P2是所述锂钴氧化物材料的XRD图案中的最高强度的峰。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的溅射靶(100)，其中所述峰P2的峰强度为所述锂钴氧化物材料的XRD图案中具有最高强度的峰的至少10％，或者甚至至少20％,或甚至锂钴氧化物材料的XRD图案中最高强度的峰的至少50％。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的溅射靶(100)，其中所述顶涂层(103)的锂钴氧化物LiyCozOx组合物包含Fd-3m立方尖晶石相。
6.根据前述权利要求中任一项所述的溅射靶(100)，其中所述锂钴氧化物的组合物是亚氧化的，其具有所述顶涂层(103)的42.5at％至49.8at％的氧化物量。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的溅射靶(...
【专利技术属性】
技术研发人员：W·德博舍，J·奥伯斯特伯格豪斯，
申请(专利权)人：梭莱先进镀膜工业有限公司，
类型：发明
国别省市：比利时;BE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。