一种高透光型抗静电硅胶保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高透光型抗静电硅胶保护膜，其配比包括以下重量份数的各组分硅胶95～105份、密着剂3～6份、催化剂0.5～1.5份、乙酸乙酯90～110份；本发明专利技术所得的高透光型抗静电硅胶保护膜净度高，黏着力经时变化小，剥离后被贴物表面无残胶，无污染。

【技术实现步骤摘要】
一种高透光型抗静电硅胶保护膜及其制备方法
本专利技术涉及一种高透光型抗静电硅胶保护膜及其制备方法。
技术介绍
为了保护电子产品的液晶屏幕，在其搬运和使用时多会在其表面贴覆一层硅胶保护膜，该保护膜一般由基材层和黏胶层组成，贴覆后在屏幕上能够有效避免屏幕受到损伤或污染。现有的硅胶保护膜的黏胶层一般是由亚克力胶水制成的，从屏幕上揭下后极易吸附油脂、灰尘等，且容易在屏幕上留有残胶。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术中硅胶保护膜剥离后容易有残胶的缺陷，提供一种高透光型抗静电硅胶保护膜及其制备方法。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了如下的技术方案：一种高透光型抗静电硅胶保护膜，其配比包括以下重量份数的各组分：硅胶95～105份密着剂3～6份催化剂0.5～1.5份乙酸乙酯90～110份优选的，其配比包括以下重量份数的各组分：210B硅胶80份660硅胶20份9T密着剂5份T-4000催化剂1份S0003乙酸乙酯100份本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高透光型抗静电硅胶保护膜，其特征在于，其配比包括以下重量份数的各组分：/n硅胶95～105份/n密着剂3～6份/n催化剂0.5～1.5份/n乙酸乙酯90～110份。/n

【技术特征摘要】
1.一种高透光型抗静电硅胶保护膜，其特征在于，其配比包括以下重量份数的各组分：
硅胶95～105份
密着剂3～6份
催化剂0.5～1.5份
乙酸乙酯90～110份。


2.如权利要求1的高透光型抗静电硅胶保护膜，其特征在于，其配比包括以下重量份数的各组分：
210B硅胶80份
660硅胶20份
9T密着剂5份
T-4000催化剂1份
S0003乙酸乙酯100份。


3.如权利要求1或2所述的高透光型抗静电硅胶保护膜的制备方法，其特征在于，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：施绍富，冯彬，许晋嘉，李益玮，杨雍华，赖金明，蒋丙江，
申请(专利权)人：佛山市佳世达薄膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44