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本发明公开了一种高透光型抗静电硅胶保护膜，其配比包括以下重量份数的各组分硅胶95～105份、密着剂3～6份、催化剂0.5～1.5份、乙酸乙酯90～110份；本发明所得的高透光型抗静电硅胶保护膜净度高，黏着力经时变化小，剥离后被贴物表面无残胶...
该专利属于佛山市佳世达薄膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佛山市佳世达薄膜科技有限公司授权不得商用。

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