本实用新型专利技术公开了一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成，包括底板，所述底板的上端面的一侧设置有安装座，所述安装座上具有安装通孔，所述安装通孔的一侧固定连接有外套管，所述外套管的中心通道与安装通孔连通，所述安装通孔的另一侧设置有滚珠丝杆，所述滚珠丝杆穿过安装通孔和外套管的中心通道，同时所述滚珠丝杆上套设有螺母，所述外套管的自由端位置设置有加强管，所述加强管套设在滚珠丝杆上，且与所述螺母固定连接，所述加强管能随螺母在滚珠丝杆方向做直线运行，所述加强管的未连接端密封设置推进块，所述推进块能推动待清洗的晶片移动。保证了滚珠丝杆的密封，提高了滚珠丝杆的使用寿命，从而间接提高晶片的收益。
【技术实现步骤摘要】
一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成
本技术涉及晶片的清洗设备领域，尤其涉及一种复合型的用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成。
技术介绍
晶片，也就是硅片，在半导体行业中普遍使用，而半导体行业又是蓬勃发展的，其中会涉及到晶片的清洗，而晶片的清洗不是简单的水洗，是需要在酸溶液或其他溶液中进行的，同时在清洗过程中晶片是需要移动的，而现有的移动时利用单纯的滚珠丝杆实现的，金属材质的滚珠丝杆在酸溶液中容易被腐蚀，即使滚珠丝杆没有浸入酸溶液中，酸溶液溅落在滚珠丝杆上也会发生腐蚀，不利于后续的使用。因此本技术专利技术人，针对滚珠丝杆易被腐蚀的问题，旨在专利技术一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成。
技术实现思路
为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成。为了达到以上目的，本技术采用的技术方案是：一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成，包括底板，所述底板的上端面的一侧设置有安装座，所述安装座上具有安装通孔，所述安装通孔的一侧固定连接有外套管，所述外套管的中心通道与安装通孔连通，所述安装通孔的另一侧设置有滚珠丝杆，所述滚珠丝杆穿过安装通孔和外套管的中心通道，同时所述滚珠丝杆上套设有螺母，所述外套管的自由端位置设置有加强管，所述加强管套设在滚珠丝杆上，且与所述螺母固定连接，所述加强管能随螺母在滚珠丝杆方向做直线运行，所述加强管的未连接端密封设置推进块，所述推进块能推动待清洗的晶片移动。优选地，所述滚珠丝杆的端部露出外套管的中心通道，且所述加强管套设在外套管内，并能在所述外套管的中心通道内沿轴向方向滑动，同时在所述外套管的自由端部分设置环形凹槽，所述环形凹槽内设置密封圈，所述密封圈设置有多个。保证移动过程中的稳定性，提高整体的密封效果，防止酸溶液进入滚珠丝杆内部。优选地，所述外套管与底板平行设置，且所述外套管的中心通道与安装通孔处于同一轴线。保证移动过程中的稳定，方向的一致性。优选地，所述推进块与底板之间设置有滑轨，远离螺母的所述滑轨的一端设置有限位块。保证了推进块在滑动时的稳定性，同时限位块也能保证推进块的移动距离，防止螺母脱离滚珠丝杆。优选地，所述推进块上设置有滑块，所述滑块与滑轨配合滑动设置。保证了推进块直线滑动的稳定性。优选地，远离所述外套管的所述安装座的一侧设置有丝杆套，所述丝杆套紧密卡设在所述滚珠丝杆和安装座的安装通孔之间。可以理解为丝杆套是保证了滚珠丝杆与安装座的安装通孔连接的密封性，防止清洗溶液进入滚珠丝杆内，对滚珠丝杆造成损伤。优选地，所述螺母上连接有止退盖，所述止退盖设置在靠近安装座的一侧。保证了螺母在倒退时不会损伤安装座。本技术一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成的有益效果是，保证了滚珠丝杆的密封，提高了滚珠丝杆的使用寿命，从而间接提高晶片的收益。附图说明图1为用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成的俯视结构示意图。图2为图1的纵剖面结构示意图。图3为图2的局部放大图。图4为安装座的剖视图。图5为推进块的结构示意图。图6为滑轨的结构示意图。图中：1-底板；2-安装座；3-外套管；4-滚珠丝杆；5-螺母；6-加强管；7-推进块；8-滑轨；9-限位块；10-丝杆套；21-安装通孔；31-环形凹槽；51-止退盖；71-滑块。具体实施方式下面结合附图对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。参见附图1-6所示，本实施例中的一种用于晶片清洗的滚珠丝杆4全密封推进器总成，包括底板1，底板1的上端面的一侧设置有安装座2，安装座2上具有安装通孔21，安装通孔21的一侧固定连接有外套管3，外套管3的中心通道与安装通孔21连通，安装通孔21的另一侧设置有滚珠丝杆4，滚珠丝杆4穿过安装通孔21和外套管3的中心通道，同时滚珠丝杆4上套设有螺母5，外套管3的自由端位置设置有加强管6，加强管6套设在滚珠丝杆4上，且与螺母5固定连接，加强管6能随螺母5在滚珠丝杆4方向做直线运行，加强管6的未连接端密封设置推进块7，推进块7能推动待清洗的晶片移动。具体结构参见附图3所示，滚珠丝杆4的端部露出外套管3的中心通道，且加强管6套设在外套管3内，并能在外套管3的中心通道内沿轴向方向滑动，同时在外套管3的自由端部分设置环形凹槽31，环形凹槽31内设置密封圈，密封圈设置有多个。保证移动过程中的稳定性，提高整体的密封效果，防止酸溶液进入滚珠丝杆4内部。外套管3与底板1平行设置，且外套管3的中心通道与安装通孔21处于同一轴线。保证移动过程中的稳定，方向的一致性。推进块7与底板1之间设置有滑轨8，远离螺母5的滑轨8的一端设置有限位块9。保证了推进块7在滑动时的稳定性，同时限位块9也能保证推进块7的移动距离，防止螺母5脱离滚珠丝杆4。推进块7上设置有滑块71，滑块71与滑轨8配合滑动设置。保证了推进块7直线滑动的稳定性。具体结构参见附图1和2所示，远离外套管3的安装座2的一侧设置有丝杆套10，丝杆套10紧密卡设在滚珠丝杆4和安装座2的安装通孔21之间。可以理解为丝杆套10是保证了滚珠丝杆4与安装座2的安装通孔21连接的密封性，防止清洗溶液进入滚珠丝杆4内，对滚珠丝杆4造成损伤。螺母5上连接有止退盖51，止退盖51设置在靠近安装座2的一侧。保证了螺母5在倒退时不会损伤安装座2。用于晶片清洗的滚珠丝杆4全密封推进器总成的有益效果是，通过丝杆套10和密封圈的设计保证了滚珠丝杆4的密封，提高了滚珠丝杆4的使用寿命，从而间接提高晶片的收益，而且加强管6的配合设置，将滚珠丝杆4运动的行程进一步的增大，可以认为是滚珠丝杆4运动的延伸。以上实施方式只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本技术的内容并加以实施，并不能以此限制本技术的保护范围，凡根据本技术精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成，其特征在于：包括底板(1)，所述底板(1)的上端面的一侧设置有安装座(2)，所述安装座(2)上具有安装通孔(21)，所述安装通孔(21)的一侧固定连接有外套管(3)，所述外套管(3)的中心通道与安装通孔(21)连通，所述安装通孔(21)的另一侧设置有滚珠丝杆(4)，所述滚珠丝杆(4)穿过安装通孔(21)和外套管(3)的中心通道，同时所述滚珠丝杆(4)上套设有螺母(5)，所述外套管(3)的自由端位置设置有加强管(6)，所述加强管(6)套设在滚珠丝杆(4)上，且与所述螺母(5)固定连接，所述加强管(6)能随螺母(5)在滚珠丝杆(4)方向做直线运行，所述加强管(6)的未连接端密封设置推进块(7)，所述推进块(7)能推动待清洗的晶片移动。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成，其特征在于：包括底板(1)，所述底板(1)的上端面的一侧设置有安装座(2)，所述安装座(2)上具有安装通孔(21)，所述安装通孔(21)的一侧固定连接有外套管(3)，所述外套管(3)的中心通道与安装通孔(21)连通，所述安装通孔(21)的另一侧设置有滚珠丝杆(4)，所述滚珠丝杆(4)穿过安装通孔(21)和外套管(3)的中心通道，同时所述滚珠丝杆(4)上套设有螺母(5)，所述外套管(3)的自由端位置设置有加强管(6)，所述加强管(6)套设在滚珠丝杆(4)上，且与所述螺母(5)固定连接，所述加强管(6)能随螺母(5)在滚珠丝杆(4)方向做直线运行，所述加强管(6)的未连接端密封设置推进块(7)，所述推进块(7)能推动待清洗的晶片移动。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶片清洗的滚珠丝杆全密封推进器总成，其特征在于：所述滚珠丝杆(4)的端部露出外套管(3)的中心通道，且所述加强管(6)套设在外套管(3)内，并能在所述外套管(3)的中心通道内沿轴向方向滑动，同时在所述外套管(3)的自由端部分设置环形凹槽(31)，所述环形凹槽(31)内设置密封圈，所述密封圈设置有多个...
【专利技术属性】
技术研发人员：闵霞，顾正龙，
申请(专利权)人：张家港海扬超声清洗设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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