一种用于光刻胶剥离的水性剥离液制造技术

本发明专利技术公开了一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，所述的水性剥离液由重量份5‑18％的有机胺化合物、重量份55‑75％的有机溶剂、重量份0.2‑10％的添加剂、重量份0.1‑3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；本申请的水性剥离液通过增加有机胺化合物比例的同时加入一定量的金属抗蚀剂，减少剥离时间的同时防止腐蚀，能够同时实现液晶面板及AMOLED行业生产中ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离、剥离后无光刻胶残留、对环境污染小、使用安全，剥离效果良好。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻胶剥离的水性剥离液
本专利技术涉及光刻胶领域，尤其涉及一种用于光刻胶剥离的水性剥离液。
技术介绍
光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程。在液晶面板和AMOLED生产中广泛使用。现有的剥离液主要有两种，分别是水性剥离液和有机剥离液，由于有机剥离液只能用于具有Mo/Al/Mo结构的制程中，无法用于ITO/Ag/ITO；且乙醇胺的含量高达60％以上，有很强的腐蚀性，因此，常用的剥离液是水性剥离液，现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水，但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属配线、光刻胶残留、环境污染大、影响操作人员的安全性、剥离效果差等问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种能同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，其特征在于：所述的水性剥离液由重量份5-18％的有机胺化合物、重量份55-75％的有机溶剂、重量份0.2-10％的添加剂、重量份0.1-3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；/n所述的有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少一种；/n所述的有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，二乙醇类溶剂选自二乙二醇单丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚；酰胺类溶剂选自N-甲基甲酰胺、N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺；/n所述的金属抗蚀剂是2-氨基环乙醇或2-氨基环丙醇。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，其特征在于：所述的水性剥离液由重量份5-18％的有机胺化合物、重量份55-75％的有机溶剂、重量份0.2-10％的添加剂、重量份0.1-3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；
所述的有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少一种；
所述的有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，二乙醇类溶剂选自二乙二醇单丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚；酰胺类溶剂选自N-甲基甲酰胺、N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺；
所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄英毅，王雪刚，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：厦门思美科新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35