一种用于显示面板领域的高浓度CF显影液组合物制造技术

本发明专利技术属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种显示面板领域的化学品制剂，用于液晶显示的CF制程中负性光刻胶的显影。其包括5‑30%的非离子表面活性剂A，5‑15%的非离子表面活性剂B，5‑15%无机强碱，45‑85%高纯水。该高浓度CF显影液组合物的浓度是目前市场上通用产品浓度的2‑4倍。非离子表面活性剂A和B混合形成微乳液，共同维持体系的稳定。该显影液的使用条件是用水稀释100‑400倍后使用，具有低泡、显影图形清晰、无残留、无基底腐蚀、对显影后光刻胶残渣分散稳定，不堵塞滤芯等特点。

A high concentration CF developer composition for display panel field

【技术实现步骤摘要】
一种用于显示面板领域的高浓度CF显影液组合物
本专利技术属于表面活性剂
，具体涉及一种显示面板领域的化学品制剂，用于液晶显示的CF制程中负性光刻胶的显影。技术背景液晶显示器(TFT-LCD)的制造有多个制程，包括阵列(Array)、彩色滤光片(CF)、成盒(Cell)和模组(Module)。每个制程又细分出多道不同的工序，其中CF又分为黑色矩阵(BM)、彩色层(R、G、B)、间隙柱体(PS)和保护层(OC)等。不同的工序经过玻璃基板的清洗、涂胶、软烘、曝光、显影、硬烘后，得到CF工段制品。其中显影工序需要用到专门的CF显影液，去除部分光刻胶，得到相应的图形。CF制程的光刻胶主要为负性光刻胶，经曝光后，曝光区域的光刻胶发生反应，不溶于显影液中，而未曝光区域可以溶于光刻胶中，因此在显影工序后便得到所需的图形。彩色光刻胶的主要成分为丙烯酸类树脂、交联剂、光引发剂、颜料、分散剂和溶剂等。在显影过程中，光刻胶与显影液发生反应，显影后的图形应清晰，无光刻胶残留，无侧蚀，无基底腐蚀等。目前市面上在用的CF显影液主要为碱性显影液，其主本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于显示面板领域的高浓度CF显影液组合物，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：5-30%的非离子表面活性剂A，5-15%的非离子表面活性剂B，5-15%无机强碱，45-85%高纯水，总质量分数之和为100%。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于显示面板领域的高浓度CF显影液组合物，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：5-30%的非离子表面活性剂A，5-15%的非离子表面活性剂B，5-15%无机强碱，45-85%高纯水，总质量分数之和为100%。


2.根据权利要求1所述的一种用于显示面板领域的高浓度CF显影液组合物，其特征在于，所述的非离子表面活性剂A为AEO-7、AEO-9、JFC-1、JFC-m、JFC-e、peg-400、peg-800、nep-105、nep-108、吐温20、吐温21、吐温40、吐温60、吐温80、吐温85、司盘20、司盘40、司盘60、司盘80、聚醚L44、聚醚L61、聚醚L64、聚醚L81、聚醚F68、FMES、FMEE、曲拉通x-100其中的至少一种。


3.根据权利要求1所述的一种用于显示面板领域的高...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘小勇，颜如彩，田博，
申请(专利权)人：福建省佑达环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35