一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法。显示面板包括阵列基板以及发光元件。阵列基板包括从下至上依次层叠设置的衬底层、驱动电路层以及覆盖层；覆盖层为灰色吸光材料，用于吸收对环境光及驱动电路层的反射光。显示面板的制作方法包括步骤：制作阵列基板以及设置发光元件。本发明专利技术通过在阵列基板上制作一层覆盖层，覆盖层不仅可以吸收环境光及发光元件发出的光，无需增加偏光片就可以大大改善显示面板出现串色、混色、对比度差等问题，使得显示面板的黑态更黑，从而提高了对比度。同时覆盖层的制作工艺简单，减少了制作成本，极大地提高了产品的竞争力。

A manufacturing method of array base plate, display panel and display panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法。
技术介绍
近年来，显示行业得到了快速的发展，尤其是我国的显示行业，发生了天翻地覆的变化。通过技术、人才、先进设备的引进、以及核心技术的创新，我国已成为世界显示器制造大国，显示器水平达到世界领先水平。不仅结束了我国少屏的窘境，还引领显示界的潮流。显示行业的竞争变得越来越激烈，更新周期不断缩短，以液晶显示器(LCD)与有机发光二极管(OLED)的竞争尤为激烈。随着OLED工艺、材料的成熟以及良率的提升，LCD渐渐失去了在小尺寸的市场优势，特别是在手机市场，OLED已渐渐取代LCD的地位。近年来也兴起了很多新型的显示技术，例如QLED显示、E-ink、柔性LCD、PE显示、mini-LED、micro-LED等等。这些新技术因还存在成本、寿命、可靠性等一些问题，还不具备量产性。micro-LED因具有色域广、对比度高、响应速度快、分辨率高、寿命长等优点，被很多企业大力推广，同时被视为下一代最具有潜力的新型显示技术。发光元件micro-LED目前仍然存在很多缺陷，例如亮度不均匀、可靠性、转移良率低、TFT均匀性差、串色、混色、对比度差等问题。micro-LED出现串色、混色、对比度差等问题，这是因为micro-led芯片是多面发光体，而我们需要的只是micro-led芯片顶部发出的光，当相邻micro-led芯片都点亮的时候，侧面发出的光会互相干扰，从而出现串色、混色、对比度差等问题；对比度差也与micro-led面板金属对环境光发生反射有关。因此可以从控制micro-led芯片出光方向以及降低面板金属反射率两个方面着手，解决micro-led出现串色、混色、对比度差等问题。目前常见改善micro-led串色、混色、对比度差等问题的方法有：第一种方式为采用发光效率较高的micro-led芯片可提高对比度，该方法的缺点是功耗大、均匀性差；第二种方式为在micro-led芯片之间加黑色矩阵(BM)进行遮光，减少串色、混色、对比度差等问题，该方法的缺点是黑色矩阵制程难度大、黑色矩阵容易残留在铜电极上；第三种方式为对micro-led芯片进行侧面封装处理，遮挡侧面的光，从而减少串色、混色、对比度差等问题，该方法的缺点是micro-led芯片亮度降低、功耗大大提高；第四种方式为加贴偏光片提高对比度，缺点是增加成本。因此，确有必要来开发一种新型的阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法，来克服现有技术中的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法，通过在阵列基板上制作一层覆盖层，所述覆盖层不仅可以吸收环境光及发光元件发出的光，无需增加偏光片就可以大大改善显示面板出现串色、混色、对比度差等问题，使得显示面板的黑态更黑，从而提高了对比度。同时所述覆盖层的制作工艺简单，减少了制作成本。为了实现上述目的，本专利技术其中一实施例中提供一种阵列基板，包括从下至上依次层叠设置的衬底层、驱动电路层以及覆盖层；所述覆盖层为灰色吸光材料，用于吸收对环境光及所述驱动电路层的反射光。进一步地，所述驱动电路层包括从下至上依次层叠设置的遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、层间绝缘层、源漏极金属层、平坦层以及导电层；具体地讲，所述缓冲层设于所述遮光层上；所述有源层设于所述缓冲层上；所述栅极绝缘层设于所述有源层上；所述栅极金属层设于所述栅极绝缘层上；所述层间绝缘层设于所述缓冲层上且完全覆盖所述有源层、所述栅极绝缘层以及所述栅极金属层；所述源漏极金属层设于所述层间绝缘层上；所述平坦层设于所述层间绝缘层上且完全覆盖所述源漏极金属层；所述导电层设于所述平坦层上。进一步地，所述源漏极金属层包括源电极、漏电极和浮动接线层，所述源电极和所述漏电极分别与所述有源层的掺杂区电连接；所述导电层包括阳极段和阴极段，所述阳极段与所述漏电极电连接，所述阴极段与所述浮动接线层电连接。进一步地，所述覆盖层设有凹槽，所述阳极段和所述阴极段裸露于所述凹槽内。本专利技术还提供一种显示面板，包括上述阵列基板以及发光元件；所述发光元件设于所述覆盖层上的凹槽内；所述发光元件包括阳极和阴极，所述阳极与所述阳极段电连接，所述阴极与所述阴极段电连接。进一步地，所述凹槽的深度小于等于所述发光元件的高度。进一步地，所述发光元件包括LED灯珠或micro-LED芯片。进一步地，所述显示面板还包括封装层，设于所述覆盖层上且完全覆盖所述发光元件。本专利技术还提供一种显示面板的制作方法，包括以下步骤：制作阵列基板步骤，所述阵列基板包括从下至上依次层叠设置的衬底层、驱动电路层以及覆盖层；所述驱动电路层包括导电层，所述导电层包括阳极段和阴极段；所述覆盖层为灰色吸光材料，用于吸收对环境光及所述驱动电路层的反射光；所述覆盖层上设有一凹槽，所述凹槽裸露所述阳极段和所述阴极段；以及设置发光元件步骤，在所述覆盖层上的凹槽内嵌入一发光元件，所述发光元件包括阳极和阴极，所述阳极通过锡膏焊接与所述阳极段电连接，所述阴极通过锡膏焊接与所述阴极段电连接。进一步地，所述制作阵列基板步骤包括以下步骤：制作衬底层；在所述衬底层上制作驱动电路层；以及在所述驱动电路层上制作覆盖层，并通过曝光、显影、固化工艺在对应所述阳极段和所述阴极段位置处蚀刻形成一凹槽，所述凹槽的深度小于等于所述发光元件的高度。本专利技术的有益效果在于，提供一种阵列基板、显示面板及显示面板的制作方法，通过在阵列基板、上制作一层覆盖层，所述覆盖层不仅可以吸收环境光及发光元件发出的光，无需增加偏光片就可以大大改善显示面板出现串色、混色、对比度差等问题，使得显示面板的黑态更黑，从而提高了对比度。同时所述覆盖层的制作工艺简单，减少了制作成本，极大地提高了产品的竞争力。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例中一种阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例中一种显示面板的结构示意图；图3为本专利技术实施例中一种显示面板的制作方法的流程图；图4为图3中所述制作源漏极金属层步骤的流程图；图5为图4中所述制作驱动电路层步骤的流程图。图中部件标识如下：1、衬底层，2、驱动电路层，3、覆盖层，4、发光元件，5、封装层，10、阵列基板，21、遮光层，22、缓冲层，23、有源层，24、栅极绝缘层，25、栅极金属层，26、层间绝缘层，27、源漏极金属层，28、平坦层，29、导电层，31、凹槽，41、阳极，42、阴极，43、发光层，100、显示面板，271、源电极，272、漏电极，273、浮动接线层，...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：/n衬底层；/n驱动电路层，设于所述衬底层上；以及/n覆盖层，设于所述驱动电路层上，所述覆盖层为灰色吸光材料，用于吸收对环境光及所述驱动电路层的反射光。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
衬底层；
驱动电路层，设于所述衬底层上；以及
覆盖层，设于所述驱动电路层上，所述覆盖层为灰色吸光材料，用于吸收对环境光及所述驱动电路层的反射光。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述驱动电路层包括：
遮光层；
缓冲层，设于所述遮光层上；
有源层，设于所述缓冲层上；
栅极绝缘层，设于所述有源层上；
栅极金属层，设于所述栅极绝缘层上；
层间绝缘层，设于所述缓冲层上且完全覆盖所述有源层、所述栅极绝缘层以及所述栅极金属层；
源漏极金属层，设于所述层间绝缘层上；
平坦层，设于所述层间绝缘层上且完全覆盖所述源漏极金属层；以及
导电层，设于所述平坦层上。


3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏极金属层包括源电极、漏电极和浮动接线层，所述源电极和所述漏电极分别与所述有源层的掺杂区电连接；所述导电层包括阳极段和阴极段，所述阳极段与所述漏电极电连接，所述阴极段与所述浮动接线层电连接。


4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述覆盖层设有凹槽，所述凹槽裸露所述阳极段和所述阴极段。


5.一种显示面板，其特征在于，包括：
权利要求书1-4中任一项所述的阵列基板；以及
发光元件，设于所述覆盖层上的凹槽内；所述发光元件包括阳极和阴极，所述阳...

【专利技术属性】
技术研发人员：李柱辉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44