成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种工件的冷却效率优异的成膜装置。所述成膜装置具有：搬入搬出部(100)；旋转体(3)；多个处理部(PR)；以及推动器(500)，朝工件(W)从旋转体(3)脱离，并被从开口(ОP)导入处理部(PR)内的方向对基座(S)施力；多个处理部(PR)包含对工件(W)进行加热的加热部(200)、对工件(W)进行成膜的成膜部(300)、及对工件(W)进行冷却的冷却部(400)，在旋转体(3)设置有保持部(33)，所述保持部(33)保持旋转体(3)正在搬送的基座(S)，并通过由推动器(500)施力而放开基座(S)，在推动器(500)设置有密封部(520)，所述密封部(520)将工件(W)导入处理部(PR)，并且将开口(ОP)密封。

Film forming device

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本专利技术涉及一种成膜装置。
技术介绍
作为在基板等工件的表面进行成膜的装置，广泛地使用利用溅射的成膜装置。溅射是如下的技术：利用通过使已导入腔室内的气体等离子体化而产生的离子冲撞作为成膜材料的靶的平面，由此成膜材料飞散而附着在工件。有时在工件的表面进行成膜之前，事先进行排除工件中所含有的水分或大气的脱气处理。这在例如将容易含有大气或水分的陶瓷基板用作工件的情况，另外，在将如铜、钛、钨等的金属膜那样容易氧化的材料用作工件的情况下，对于抗氧化有效。脱气处理通过使工件的温度升温至300度左右为止来进行。但是，脱气处理后，例如若在利用多个成膜材料使包含多个层的多层膜成膜的期间内，温度条件变化，则引起多层膜的内部应力的变动。因此，各层的成膜必须尽可能以相同的温度条件来进行，且脱气处理后，使温度条件不变。工件经由承接板而载置在基座(susceptor)上来搬送，所述基座载置在进行间歇旋转的旋转台上。即，在进行间歇旋转的旋转台的停止位置，配置有进行脱气处理的加热室、进行利用各成膜材料的成膜的成膜室。而且，工件通过旋转台的间歇旋转而来到加热室进行脱气处理后，在成膜室中依次进行成膜处理。这些加热室、成膜室等处理室设置在真空腔室内，处理室间在真空中被搬送。因此，在脱气处理时已升温至300℃左右为止的工件与基座未被冷却，保持300℃左右。于是，若在成膜处理结束后，直接朝大气空间中搬出，则已在高温的工件上成膜的膜会氧化。因此，必须在朝大气中搬送之前进行工件的冷却。例如，使已升温至300℃左右为止的工件降温至作为为了朝大气空间中搬出而需要的温度的60℃左右为止。作为对工件进行冷却的冷却机构，有如下的机构：将工件收容在冷却室内并进行密封，使冷却介质在冷却室内流通，由此进行冷却(参照专利文献1)。在此种机构中，将基座载置在旋转台上来搬送，在与处理室对应的停止位置，利用具有推动器(pusher)的上推机构将基座向上推，而通过基座来将处理室密封。在包括冷却机构的冷却室中，也在上盖设置冷却介质进行循环的冷却板，使通过推动器而已与基座一同被向上推的工件与冷却板相向，将冷却介质导入已由基座密封的冷却室内，由此进行基板的冷却。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第4653418号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题此处，在使已升温至300℃左右为止的基板降温至为了朝大气中搬出而需要的60℃左右为止时，需要进行约240℃这一大幅度的降温的冷却。但是，例如，当为了以每一节拍240秒左右进行一连串的处理而进行连续搬送时，若冷却时间比其长，则冷却处理变成限速的处理，处理量受到影响。但是，由于冷却在真空中进行，因此仅利用所述冷却板的冷却并不足够，为了提高冷却效率，必须对冷却室内供给冷却气体。若导入冷却气体，则冷却室内的压力变高。另一方面，设置有旋转台的腔室保持真空。于是，将冷却室与腔室的空间隔开的基座需要可承受腔室与冷却室的压力差的程度的强度。例如，基座由利用铜等金属的厚板形成。因此，基座的热容量变大。此种基座追随工件而被持续加热，因此当在冷却室中对工件进行冷却时，也必须对热容量大的基座进行冷却，冷却效率不佳。本专利技术是为了解决如上所述的现有技术的问题点而提出者，其目的在于提供一种工件的冷却效率优异的成膜装置。解决问题的技术手段为了达成所述目的，实施方式的成膜装置包括：腔室，可通过排气来使内部变成真空；旋转体，配置在所述腔室的内部，通过旋转来搬送搭载有所述工件的基座；多个处理部，沿着将所述旋转体的旋转轴作为中心的圆周来配置，具有与所述腔室内连通的开口，对已被从所述开口导入的所述工件进行处理；以及推动器，朝所述工件从所述旋转体脱离，并被从所述开口导入所述处理部内的方向对所述基座施力；所述多个处理部包含对所述工件进行加热的加热部、对所述工件进行成膜的成膜部、及对所述工件进行冷却的冷却部，在所述旋转体设置有保持部，所述保持部保持所述旋转体正在搬送的所述基座，并通过由所述推动器施力而解放所述基座，且在所述推动器设置有密封部，所述密封部将所述工件导入所述处理部，并且将所述开口密封。专利技术的效果根据本专利技术，可提供一种工件的冷却效率优异的成膜装置。附图说明图1是表示实施方式的经简化的透视平面图。图2(A)～图2(B)是表示利用图1的密封部的开口的密封时(图2(A))、打开时(图2(B))的A-A线剖面图。图3(A)～图3(C)是表示实施方式中所使用的基座的平面图(图3(A))、侧面图(图3(B))、底面图(图3(C))。图4是表示实施方式的旋转体的平面图。图5(A)～图5(D)是表示保持部的基座保持状态的平面图(图5(A))、正面图(图5(B))，表示基座解放状态的平面图(图5(C))、正面图(图5(D))。图6是表示实施方式的密封部的立体图。图7是表示实施方式的冷却部的开口的打开时的部分剖面图。图8是表示实施方式的冷却部的密封部的动作途中的部分剖面图。图9是表示实施方式的冷却部的开口的密封时的部分剖面图。图10(A)～图10(B)是表示利用图1的密封部的开口的密封时(图10(A))、打开时(图10(B))的B-B线剖面图。图11(A)～图11(B)是表示利用图1的密封部的开口的密封时(图11(A))、打开时(图11(B))的C-C线剖面图。图12是表示实施方式的控制装置的框图。符号的说明1：成膜装置2：腔室3：旋转体21：收容体22：盖体23：腔室排气部31、510：传动轴32：空隙部33：保持部70：控制装置71：机构控制部72：加热控制部73：成膜控制部74：冷却控制部75：存储部76：设定部77：输入输出控制部78：输入装置79：输出装置100：搬入搬出部110：搬送部111、333：臂112：保持体121：加载互锁室121a、121b、210a、310a、410a、OP：开口200：加热部210：加热室220：加热器300、300A～300C：成膜部310：成膜室320：靶331：基台332：转换部332a：辊332b：轴333a：握持部333b：抵接面333c：保持面334：施力构件334a、334b：板材400：冷却部410：冷却室420：第一冷却机构421：冷却器422：冷却气体导入部423、431：冷却液循环管道424：冷却室排气部430：第二冷却机构432：冷却液供给部500、500A～500F：推动器5本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，其特征在于，包括：/n腔室，能够通过排气来使内部变成真空；/n旋转体，配置在所述腔室的内部，通过旋转来搬送搭载有工件的基座；/n多个处理部，沿着将所述旋转体的旋转轴作为中心的圆周来配置，具有与所述腔室内连通的开口，对已被从所述开口导入的所述工件进行处理；以及/n推动器，朝所述工件从所述旋转体脱离，并被从所述开口导入所述处理部内的方向对所述基座施力；/n所述多个处理部包含对所述工件进行加热的加热部、对所述工件进行成膜的成膜部、及对所述工件进行冷却的冷却部，/n在所述旋转体设置有保持部，所述保持部保持所述旋转体正在搬送的所述基座，并通过由所述推动器施力而解放所述基座，且/n在所述推动器设置有密封部，所述密封部将所述工件导入所述处理部中，并且将所述开口密封。/n

【技术特征摘要】
20181218 JP 2018-236650;20191113 JP 2019-2058241.一种成膜装置，其特征在于，包括：
腔室，能够通过排气来使内部变成真空；
旋转体，配置在所述腔室的内部，通过旋转来搬送搭载有工件的基座；
多个处理部，沿着将所述旋转体的旋转轴作为中心的圆周来配置，具有与所述腔室内连通的开口，对已被从所述开口导入的所述工件进行处理；以及
推动器，朝所述工件从所述旋转体脱离，并被从所述开口导入所述处理部内的方向对所述基座施力；
所述多个处理部包含对所述工件进行加热的加热部、对所述工件进行成膜的成膜部、及对所述工件进行冷却的冷却部，
在所述旋转体设置有保持部，所述保持部保持所述旋转体正在搬送的所述基座，并通过由所述推动器施力而解放所述基座，且
在所述推动器设置有密封部，所述密封部将所述工件导入所述处理部中，并且将所述开口密封。


2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述密封部具有对所述工件进行冷却的冷却机构。

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【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽洋次，竹内八弥，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP