【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种温度控制设备和方法，该设备带有循环致冷剂并用于将带有工作介质的工作站或工件迅速冷却到设定的温度。在半导体片上的诸如光刻胶处理的应用，要求对化学品和硅片进行非常精确的温度控制。为实现这种精确的温度控制，采用了使用循环致冷剂的温度控制。大多数这种类型的温度控制都采用了再循环致冷剂，比如水，以在室温或其附近进行温度控制。大多数这种温度控制要求大的流率，以实现迅速的瞬态响应，这是由于致冷剂被设定在受控材料所要达到的温度，而且在设定点附近的热传导非常慢。大多数这种温度控制还要求多个循环器，以实现对处于不同温度的多个工作站的温度控制。本专利技术的一个目的，是提供具有迅速的瞬态响应和最小流率的温度控制。本专利技术的第二个目的，是提供这样一种温度控制，它只采用一个循环器来实现对多个工作站的温度控制。本专利技术的一个特征，是一种设备，该设备用于在工作站产生足以使该工作站和其中的固态或液态工作介质迅速达到预定温度的冷却作用，即用于实现迅速的瞬态响应，也即将工作站从其初始温度冷却到一个温度的时间非常接近所希望的时间。这种迅速冷却，是通过把处于比预定温度更低的温度...
【技术保护点】
用于把工作站和工作站处的工作介质的温度调节到预定温度的温度控制器，包括：工作站温度检测装置，用于确定工作站的温度；一个流体致冷剂源和用于把该流体致冷剂保持在低于所述预定温度的装置；致冷剂循环装置，它包括一个流动管线，该流动管线把 来自所述源的致冷剂提供给该工作站并使该致冷剂通过该工作站，以调节该工作站和其中的工作介质的温度；在该流动管线中的致冷剂加热器，它用于把向工作站提供的致冷剂加热到与所述预定温度几乎相等的一个温度，以将该工作站和工作介质保持在所述预定温度； 以及用于控制该加热器并调节其加热的控制装置，所述控制装置当在工作站温度和所述预定温度...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：BJ施龙，WG里德，
申请(专利权)人：FSI国际有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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