一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置制造方法及图纸

技术编号:24657969 阅读:35 留言:0更新日期:2020-06-27 02:48
本发明专利技术公开了一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,涉及光学镀膜材料生产加工设备技术;包括内部设置有空腔的破碎研磨主体,所述破碎研磨主体内部转动设置有转轴,所述转轴贯穿破碎研磨主体内部的过滤网设置,所述第一皮带轮上设置有破碎组件,所述第一皮带轮上还固定安装有刮料板,所述刮料板贴置过滤网上;所述转轴上还固定安装有研磨球,所述研磨球设置在过滤网下方,且研磨球下方抵触在具有过滤孔的研磨网上;所述破碎研磨主体两侧固定安装有支腿,所述支腿底部设置有减震座。本发明专利技术运行顺畅,使用寿命长。

A crushing and grinding device for tantalum oxide coating material with high refractive index

【技术实现步骤摘要】
一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置
本专利技术涉及光学镀膜材料生产加工设备技术,具体是一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置。
技术介绍
镀膜主要是为了减少反射,为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜,镜头的镀膜是根据光学的干涉原理,在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质,使镜头对这一波长的色光的反射降至最低,显然一层膜只对一种色光起作用,而多层镀膜则可对多种色光起作用。现有技术的氧化钽破碎研磨装置通常将破碎和研磨一体设置,但是在破碎完成后的物料划入至研磨腔时经常会存在堵料的现象进而造成设备运行不畅的现象,现提供一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置来解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,包括内部设置有空腔的破碎研磨主体,所述破碎研磨主体内本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,包括内部设置有空腔的破碎研磨主体(1),所述破碎研磨主体(1)内部转动设置有转轴(2),所述转轴(2)贯穿破碎研磨主体(1)内部的过滤网(10)设置,其特征在于,所述转轴(2)上设置有破碎组件,所述转轴(2)上还固定安装有刮料板(9),所述刮料板(9)贴置过滤网(10)上;所述转轴(2)上还固定安装有研磨球(11),所述研磨球(11)设置在过滤网(10)下方,且研磨球(11)下方抵触在具有过滤孔的研磨网(12)上;所述破碎研磨主体(1)两侧固定安装有支腿(13),所述支腿(13)底部设置有减震座(14)。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,包括内部设置有空腔的破碎研磨主体(1),所述破碎研磨主体(1)内部转动设置有转轴(2),所述转轴(2)贯穿破碎研磨主体(1)内部的过滤网(10)设置,其特征在于,所述转轴(2)上设置有破碎组件,所述转轴(2)上还固定安装有刮料板(9),所述刮料板(9)贴置过滤网(10)上;所述转轴(2)上还固定安装有研磨球(11),所述研磨球(11)设置在过滤网(10)下方,且研磨球(11)下方抵触在具有过滤孔的研磨网(12)上;所述破碎研磨主体(1)两侧固定安装有支腿(13),所述支腿(13)底部设置有减震座(14)。


2.根据权利要求1所述的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,其特征在于,所述破碎组件包括固定安装在转轴(2)上的多个破碎杆(7),所述破碎杆(7)远离转轴(2)一端固定安装有破碎锤(8)。


3.根据权利要求1所述的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,其特征在于,所述研磨球(11)外侧阵列设置有提高研磨效果的凸起。


4.根据权利要求1-3任一所述的晶质高折射率光学镀膜材料氧化钽破碎研磨装置,其特征在于,所述破碎研磨主体(1)上还设置有驱动转轴(2)转动驱动组件。
...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡轩臣
申请(专利权)人:新沂市东方硕华光学材料有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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