一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板，底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴，且定位穴上端设置有定位柱，定位穴上端设置有底座避空槽，且底座避空槽贯穿底座，底座上端面边沿上装设有底座磁铁，底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上，上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。本实用新型专利技术具有计新颖、结构简单，无需重复拆卸定位，定位精准，效率高，可减少设备投入，节约设备与人力成本的优点。

A common laser cutting tool for combined laser positive and negative laser cutting process

【技术实现步骤摘要】
一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具
本技术涉及治具
，尤其涉及一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具。
技术介绍
随着智能手机的研发技术日益进步，手机内部各部件的制造成本下降，目前，根据最新的中国手机市场运行情况分析报告称，国内手机市场出货量为3737万部，其中国产手机出货量3423万部，上市机型120款，新机型的生命周期平均为3-6个月；手机通讯领域出货量、制造周期短的特点，给产业链配套的企业带来巨大的生产压力；如今如何用最低的成本产生最高的产能是每个产业链中公司第一需要考虑的问题；摄像头作为手机中不可或缺的组成部分，具有结构简单、易于量产化等特点，另外，需要激光镭雕导电位、镭雕字符产品多方位镭雕应用越来越频繁；但是目前的传统镭雕定位治具存在定位单一、只适合于但工艺镭雕，治具排位有限、激光扫射范围较小，容易镭雕偏位等问题。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的不足而提供一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，该共用镭雕治具设计新颖、结构简单，无需重复拆卸定位，定位精准，效率高，可减少设备投入，节约设备与人力成本。为达到上述目的，本技术通过以下技术方案来实现。一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板，底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴，且定位穴上端设置有定位柱，定位穴上端设置有底座避空槽，且底座避空槽贯穿底座，底座上端面边沿上装设有底座磁铁，底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上，上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。其中，所述底座四角上端设置有底座定位孔。其中，所述上盖板四角上端设置有与所述底座定位孔对应匹配的盖板定位孔。其中，所述底座及所述上盖板一对边的边沿上设置有手拿避空位。其中，所述底座上端设置有九个呈矩形状陈列的定位穴。本技术的有益效果为：本技术所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板，底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴，且定位穴上端设置有定位柱，定位穴上端设置有底座避空槽，且底座避空槽贯穿底座，底座上端面边沿上装设有底座磁铁，底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上，上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。本技术通过上盖板与底座相配合压紧摄像头产品，保证每次镭雕的精准性和稳定性；通过定位穴等距排列，一次性可镭雕9个产品，并且同步减少了机台调试的累计公差；通过底座避空槽及盖板避空槽的设计，使得无需重复拆卸定位即可镭雕加工产品的正反面；故本技术具有计新颖、结构简单，无需重复拆卸定位，定位精准，效率高，可减少设备投入，节约设备与人力成本的优点。附图说明下面利用附图来对本技术进行进一步的说明，但是附图中的实施例不构成对本技术的任何限制。图1为本技术分解的结构示意图。在图1中包括有：1——底座11——定位穴12——定位柱13——底座避空槽14——底座磁铁15——底座定位孔16——手拿避空位2——上盖板21——盖板磁铁23——盖板定位孔。具体实施方式下面结合具体的实施方式来对本技术进行说明。如图1所示，一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，包括有呈矩形状的底座1及对应匹配的上盖板2，底座1上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴11，且定位穴11上端设置有定位柱12，定位穴11上端设置有底座避空槽13，且底座避空槽13贯穿底座1，底座1上端面边沿上装设有底座磁铁14，底部磁铁14对应匹配的盖板磁铁21装设于上盖板2的下端面上，上盖板2上端设置有呈矩形状的且与定位穴11位置对应匹配的盖板避空位22。进一步的，所述底座1四角上端设置有底座定位孔15。进一步的，所述上盖板2四角上端设置有与所述底座定位孔15对应匹配的盖板定位孔23。进一步的，所述底座1及所述上盖板2一对边的边沿上设置有手拿避空位16。作为本实施例优选的，所述底座1上端设置有九个呈矩形状陈列的定位穴11。以上内容仅为本技术的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：包括有呈矩形状的底座（1）及对应匹配的上盖板（2），底座（1）上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴（11），且定位穴（11）上端设置有定位柱（12），定位穴（11）上端设置有底座避空槽（13），且底座避空槽（13）贯穿底座（1），底座（1）上端面边沿上装设有底座磁铁（14），底部磁铁（14）对应匹配的盖板磁铁（21）装设于上盖板（2）的下端面上，上盖板（2）上端设置有呈矩形状的且与定位穴（11）位置对应匹配的盖板避空位（22）。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：包括有呈矩形状的底座（1）及对应匹配的上盖板（2），底座（1）上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴（11），且定位穴（11）上端设置有定位柱（12），定位穴（11）上端设置有底座避空槽（13），且底座避空槽（13）贯穿底座（1），底座（1）上端面边沿上装设有底座磁铁（14），底部磁铁（14）对应匹配的盖板磁铁（21）装设于上盖板（2）的下端面上，上盖板（2）上端设置有呈矩形状的且与定位穴（11）位置对应匹配的盖板避空位（22）。


2.根据权利要求1所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：施正彪，郑国宝，
申请(专利权)人：精研东莞科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44