一种图像处理方法技术

本申请提供了一种图像处理方法，涉及图像处理技术领域，能够改善显示图像显示亮度的均一性。该图像处理方法，包括：获取显示图像的mura区域，以及位于mura区域两侧的第一区域和第二区域；mura区域包括N×M个mura子单元。获取初始矩阵A

An image processing method

【技术实现步骤摘要】
一种图像处理方法
本专利技术涉及图像处理
，尤其涉及一种图像处理方法。
技术介绍
现有的显示装置在显示图像时，由于各个亚像素间的亮度不一、以及各个亚像素内的薄膜晶体管与发光器件的制作工艺的不一，需要采取补偿措施，常见的补偿措施有外部补偿，该外部补偿通过感应线测量获得亚像素内驱动晶体管的补偿数据电压，以该补偿数据电压补偿驱动晶体管的阈值电压对发光亮度的影响，从而改善显示装置的显示效果。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种图像处理方法，用于解决显示装置显示图像时显示亮度不均匀的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种图像处理方法，用于处理显示图像；所述方法包括：获取所述显示图像的至少一个mura区域，以及位于所述mura区域两侧的第一区域和第二区域；所述mura区域包括N×M个mura子单元；其中，N≥1，M≥1；N、M为整数。获取初始矩阵A0；所述初始矩阵A0包括所述mura区域中各个所述mura子单元中驱动晶体管的补偿数据电压，所述驱动晶体管的补偿数据电压用于补偿所述驱动晶体管的阈值电压。获取所述第一区域的第一补偿值；所述第一补偿值为所述第一区域中驱动晶体管补偿数据电压的平均值。获取所述第二区域的第二补偿值；所述第二补偿值为所述第二区域中驱动晶体管补偿数据电压的平均值。根据所述第一补偿值、所述第二补偿值以及所述mura子单元的位置，生成第一矩阵A1；其中，所述第一矩阵A1的第一行中的M个数据均为所述第一补偿值；所述第一矩阵A1的第N行中的M个数据均为所述第二补偿值。根据所述第一矩阵A1和所述初始矩阵A0获取第二矩阵A2；A2＝A0-A1。根据所述第二矩阵A2以及所述第二矩阵A2的标准差，对所述第二矩阵A2进行修正，以得到第三矩阵A3。根据所述第三矩阵A3和所述第一矩阵A1，得到修正矩阵B0，B0＝A1+A3；将修正矩阵B0中的每个数据写入至与该每个数据相匹配的mura子单元中的驱动晶体管中。可选的，所述第一补偿值等于所述第二补偿值，所述第一矩阵A1中的所有数据均相等。可选的，所述第一补偿值与所述第二补偿值不同，在所述第一矩阵A1中，沿数据的行方向，每行数据相等；沿数据的列方向，每列数据呈等差数列分布。可选的，根据所述第二矩阵A2以及所述第二矩阵A2的标准差，对所述第二矩阵A2进行修正，以得到第三矩阵A3包括：若所述第二矩阵A2的标准差大于等于设定值，则对第二矩阵A2中的数据进行归零化修正，以得到所述第三矩阵A3，所述第三矩阵A3＝A2×0。可选的，根据所述第二矩阵A2以及所述第二矩阵A2的标准差，对所述第二矩阵A2进行修正，以得到第三矩阵A3包括：若所述第二矩阵A2的标准差小于设定值，则对第二矩阵A2中的数据进行小波函数修正，以得到所述第三矩阵A3，所述第三矩阵，其中为小波函数，小波函数包括变量x和多个区间。根据所述第二矩阵A2中的任一数据b与所述第一补偿值、所述第二补偿值的平均值之间的比值获得变量x。根据变量x所在的区间，对数据b进行修正；其中对数据b进行修正包括：将数据b保留、将数据b修正为-b；将所述数据b修正为0。可选的，所述mura子单元中驱动晶体管的补偿数据电压等于所述mura子单元中所有所述驱动晶体管的补偿数据电压的平均值。可选的，所述第一区域包括多个第一子单元；所述第一子单元包括多个亚像素。获取所述第一区域的第一补偿值包括：计算每个所述第一子单元中，各个亚像素的驱动晶体管的补偿数据电压的平均值，以获得第一数据。计算所述第一区域中，各个所述第一子单元的第一数据的平均值，以获得所述第一补偿值。可选的，所述第二区域包括多个第二子单元；所述第二子单元包括多个亚像素。获取所述第二区域的第二补偿值包括：计算每个所述第二子单元中，各个亚像素的驱动晶体管的补偿数据电压的平均值，以获得第二数据。计算所述第二区域中，各个所述第二子单元的第二数据的平均值，以获得所述第二补偿值。可选的，在所述第一区域包括多个第一子单元，所述第二区域包括第二子单元的情况下：所述mura子单元、所述第一子单元和所述第二子单元的数量相等。可选的，所述mura子单元的面积、所述第一子单元的面积和所述第二子单元的面积相等。本申请提供了一种图像处理方法，通过获取mura区域中的各个mura子单元中驱动晶体管的补偿数据电压得到初始矩阵A0，再通过第一矩阵A1对该初始矩阵A0进行处理，将导致初始矩阵A0数据异常的数据全部集中在第二矩阵A2中，再对第二矩阵A2中的数据进行修正，得到第三矩阵A3，最后根据第三矩阵A3和第一矩阵A1获得修正矩阵B0，将修正矩阵B0中的数据作为mura区域中的各个mura子单元中驱动晶体管的补偿数据电压，以改善每个mura子单元的显示亮度，降低mura区域和正常亮度显示区域(第一区域和第二区域)之间的亮度差异，改善了显示图像显示亮度的均一性，消除了mura现象，从而提高了显示装置的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为相关技术中一种显示装置显示的单色画面中mura区域和正常显示区域的分布示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种图像处理方法的流程示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种单色画面中第一子单元、第二子单元和mura子单元的分布示意图；图4a为本专利技术实施例提供的另一种单色画面中第一子单元、第二子单元和mura子单元的分布示意图；图4b为本专利技术实施例提供的另一种单色画面中第一子单元、第二子单元和mura子单元的分布示意图；图5为本专利技术实施例提供的另一种图像处理方法的流程示意图。附图标记：1-单色画面；10-mura区域；100-mura子单元；11-第一区域；110-第一子单元；12-第二区域；120-第二子单元。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本申请提供一种显示装置，该显示装置例如为LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)、OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管显示器)。该显示装置包括显示面板，显示面板例如包括多个呈阵列分布的亚像素。在每个亚像素中，均设置有像素驱动电路，像素驱动电路用于控制亚像素发光。像素驱动电路包括多个薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图像处理方法，其特征在于，用于处理显示图像；所述方法包括：/n获取所述显示图像的至少一个mura区域，以及位于所述mura区域两侧的第一区域和第二区域；所述mura区域包括N×M个mura子单元；其中，N≥1，M≥1；N、M为整数；/n获取初始矩阵A

【技术特征摘要】
1.一种图像处理方法，其特征在于，用于处理显示图像；所述方法包括：
获取所述显示图像的至少一个mura区域，以及位于所述mura区域两侧的第一区域和第二区域；所述mura区域包括N×M个mura子单元；其中，N≥1，M≥1；N、M为整数；
获取初始矩阵A0；所述初始矩阵A0包括所述mura区域中各个所述mura子单元中驱动晶体管的补偿数据电压，所述驱动晶体管的补偿数据电压用于补偿所述驱动晶体管的阈值电压；
获取所述第一区域的第一补偿值；所述第一补偿值为所述第一区域中驱动晶体管补偿数据电压的平均值；
获取所述第二区域的第二补偿值；所述第二补偿值为所述第二区域中驱动晶体管补偿数据电压的平均值；
根据所述第一补偿值、所述第二补偿值以及所述mura子单元的位置，生成第一矩阵A1；其中，所述第一矩阵A1的第一行中的M个数据均为所述第一补偿值；所述第一矩阵A1的第N行中的M个数据均为所述第二补偿值；
根据所述第一矩阵A1和所述初始矩阵A0获取第二矩阵A2；A2＝A0-A1；
根据所述第二矩阵A2以及所述第二矩阵A2的标准差，对所述第二矩阵A2进行修正，以得到第三矩阵A3；
根据所述第三矩阵A3和所述第一矩阵A1，得到修正矩阵B0，B0＝A1+A3；将修正矩阵B0中的每个数据写入至与该每个数据相匹配的mura子单元中的驱动晶体管中。


2.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述第一补偿值等于所述第二补偿值，所述第一矩阵A1中的所有数据均相等。


3.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述第一补偿值与所述第二补偿值不同，在所述第一矩阵A1中，沿数据的行方向，每行数据相等；沿数据的列方向，每列数据呈等差数列分布。


4.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，根据所述第二矩阵A2以及所述第二矩阵A2的标准差，对所述第二矩阵A2进行修正，以得到第三矩阵A3包括：若所述第二矩阵A2的标准差大于等于设定值，则对第二矩阵A2中的数据进行归零化修正，以得到所述第三矩阵A3，所述第三矩阵A3＝A2×0。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈伟，徐海侠，韩东旭，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34