一种阵列式指示光栅结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种阵列式指示光栅结构，包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃，所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线，指示光栅刻线阵列式横向排列，相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为19.5μm，指示光栅刻线为矩形且栅宽为9.75μm，指示光栅刻线上方设有零位基准电压光栅窗口而下方设有零位光栅窗口，指示光栅刻线阵列式横向排列，制造简单方便便于大批量生产，而栅距为19.5μm、栅宽为9.75μm的指示光栅与栅距为20μm、栅宽为10μm的主光栅相配合能够形成相位标准，提高位移信号准确度。

An array structure of indicating grating

【技术实现步骤摘要】
一种阵列式指示光栅结构
本技术涉及光栅设备领域，具体涉及一种阵列式指示光栅结构。
技术介绍
光栅是高精度位移测量元件，它与数字信号处理仪表配套，组成位移测量系统，光源发出平行光照射到主光栅、指示光栅、接收器上，由于主光栅、指示光栅的栅距不一样，当光源、指示光栅、接收器与移动物一起移动而主光栅不动时，平行光穿过主光栅、指示光栅到达接收器上会形成明暗相间的莫尔条纹从而产生正弦波信号感知移动物移动位移。现有指示光栅结构复杂，制造难度高、精度低，不能与主光栅形成稳定准确的信号，影响位移检测。
技术实现思路
针对现有技术的缺陷，本技术提供了一种阵列式指示光栅结构，具体技术方案如下：一种阵列式指示光栅结构，包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃，所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线，指示光栅刻线阵列式横向排列，相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为19.5μm，指示光栅刻线为矩形且栅宽为9.75μm，指示光栅与栅距为20μm、栅宽为10μm的主光栅相配合。作为本技术的一种优选方案，指示光栅刻线上方设有零位基准电压光栅窗口而下方设有零位光栅窗口。本技术的有益效果：指示光栅刻线阵列式横向排列，制造简单方便便于大批量生产，而栅距为19.5μm、栅宽为9.75μm的指示光栅与栅距为20μm、栅宽为10μm的主光栅相配合能够形成相位标准，提高位移信号准确度。附图说明图1是光栅检测位移的原理图；图2是本技术阵列式指示光栅结构的结构示意图；图3是图2中A处的放大视图；图4是本技术主光栅、指示光栅配合产生莫尔条纹的示意图。具体实施方式下面结合附图，对本技术的具体实施方式做进一步说明：在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以视具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。如图1～3所示，一种阵列式指示光栅结构，包括基板1和安装在基板1中的圆形光学玻璃2，所述圆形光学玻璃2中部设有多个指示光栅刻线3，指示光栅刻线3阵列式横向排列，相邻两个指示光栅刻线3之间的栅距为19.5μm，指示光栅刻线是不透光的，指示光栅刻线3为矩形且栅宽为9.75μm，指示光栅与栅距为20μm、栅宽为10μm的主光栅相配合。具体的，指示光栅刻线3上方设有零位基准电压光栅窗口4而下方设有零位光栅窗口5，零位基准电压光栅窗口4、零位光栅窗口5中也设有光栅刻线。以上内容是结合具体的优选实施方式对本技术所作的进一步详细说明，不能认定本技术的具体实施只局限于这些说明，对于本技术所属
的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列式指示光栅结构，包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃，其特征在于：所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线，指示光栅刻线阵列式横向排列，相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为19.5μm，指示光栅刻线为矩形且栅宽为9.75μm，指示光栅与栅距为20μm、栅宽为10μm的主光栅相配合。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列式指示光栅结构，包括基板和安装在基板中的圆形光学玻璃，其特征在于：所述圆形光学玻璃中部设有多个指示光栅刻线，指示光栅刻线阵列式横向排列，相邻两个指示光栅刻线之间的栅距为19.5μm，指示光栅刻线为矩形且栅宽...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：广东光栅数显技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44