【技术实现步骤摘要】
一种反MMI型波导马赫-曾德干涉器的制备方法
本专利技术属于光波导器件领域，特别涉及到一种反MMI型波导马赫-曾德干涉器的制备方法。
技术介绍
波导马赫-曾德（Mach-Zehnder）干涉器是一种基础的波导干涉器结构，也是集成光学芯片构建的基础元件之一，在信号处理、光通讯、光学传感等领域具有重要的应用价值。目前，基于硅基波导及其他高折射率对比波导，如LNOI波导（绝缘体上的铌酸锂波导）的马赫-曾德干涉器制备较为成熟。但对于各类低折射率对比的波导（即通常所谓“弱”波导），如离子注入晶体波导、飞秒激光写入玻璃波导、聚合物波导等，马赫-曾德干涉器的制备仍然面临诸多困难。这限制了各类低折射率对比波导的进一步集成化和功能化。具体来说，困难主要来自于两个方面：其一，由于低折射率对比波导的芯区和衬底折射率差较小，波导弯曲损耗显著，因此通常需要较长的工作距离才能把波导分为两路，从而形成干涉器结构。例如，离子注入晶体波导的折射率变化幅度通常为10-4至10-3量级，需要数毫米甚至数厘米的弯曲半径才能够有效降低弯曲损耗。其二，由于同样...
【技术保护点】
1.一种反MMI型波导马赫-曾德干涉器的制备方法，其特征在于，包括步骤如下：/n在条形光波导结构的基础上制备两条沟槽；所述两条沟槽内侧壁所围成的区域与原条形波导区域重合，即将原波导重构为脊型波导；所述脊型波导的宽度与原条形波导宽度相等或小于原条形波导。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种反MMI型波导马赫-曾德干涉器的制备方法，其特征在于，包括步骤如下：
在条形光波导结构的基础上制备两条沟槽；所述两条沟槽内侧壁所围成的区域与原条形波导区域重合，即将原波导重构为脊型波导；所述脊型波导的宽度与原条形波导宽度相等或小于原条形波导。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述两条沟槽之间填充有低折射率介质，所述低折射率介质为折射率低于原条形波导衬底材料的介质。
技术研发人员：姚一村，陈南光，张丽强，田振，王宗良，纪红柱，任世杰，
申请(专利权)人：聊城大学，
类型：发明
国别省市：山东;37
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