基质膜形成装置制造方法及图纸

在用于在质谱成像所使用的样品板形成基质物质的膜的基质膜形成装置中设置有：喷雾喷嘴(20)，其具备溶液管(21)和气体管(22)；气体输送部件(40、41、42、46)，其向气体管(22)的基端侧输送高压气体；以及加压溶液输送部件(40、41、42、48、30、31)，其对含有基质物质的溶液进行加压并将溶液向溶液管(21)的基端侧输送。由此，能够防止基质溶液滞留在溶液管(21)的顶端附近，从而防止由于在溶液管(21)内形成结晶块而导致喷雾喷嘴(20)的堵塞。

Matrix membrane forming apparatus

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基质膜形成装置
本专利技术涉及一种用于在样品板形成基质物质的膜的基质膜形成装置，所述样品板在使用基质辅助激光解吸电离法(MALDI＝MatrixAssistedLaserDesorption/Ionization)进行质谱成像时使用。
技术介绍
MALDI法是一种这样的方法：为了对难以吸收激光的试样、蛋白质等因激光而容易受到损伤的试样进行分析，而在作为测定对象的试样中预先混合易于吸收激光并且容易电离的基质物质，通过对其照射激光来使试样电离。一般来说，基质物质作为溶液被添加到样品中，该基质溶液摄入样品中所包含的测定对象物质。然后，通过干燥使溶液中的溶剂汽化，从而形成含有测定对象物质的晶粒。当向其照射激光时，能够利用测定对象物质、基质物质以及激光的相互作用来将测定对象物质电离。通过使用MALDI法，能够在使分子量较大的高分子化合物不怎么发生解离的情况下对其进行分析，而且灵敏度较高并且也适用于微量分析，因此在生命科学等领域被广泛利用。此外，近年来，使用MALDI质谱装置来使生物组织切片上的生物分子、代谢物等的二维分布状况直接可视化的质谱成像(MS成像)法一直受到关注。在质谱成像法中，能够在生物组织切片等试样上获得表示具有特定质荷比的离子的强度分布的二维图像。因此，例如期待通过对癌症等的病理组织中特异性物质的分布状况进行调查，来掌握疾病的扩散状况、确认用药等的治疗效果这些在医疗领域、药物开发领域、生命科学领域等中进行的各种应用。作为质谱成像法中的试样制备即用于向试样添加基质物质的一般性方法，存在向贴附有样品的板喷射基质溶液进行涂敷的方法(以下将其称为喷雾法)(例如参照专利文献1)。用于利用喷雾法进行试样制备的基质膜形成装置的概略结构在图3中示出。该基质膜形成装置包括容纳有供样品板P安装的试样台81的腔室80和用于向样品板P喷射基质物质的喷雾喷嘴70。喷雾喷嘴70包括供喷雾气体流通的气体管72和供基质溶液流通的溶液管71。这些管为在气体管72的内部插入溶液管71而成的双层管构造，溶液管71的顶端由气体管72的顶端包围。此外，在溶液管71的中心插入有针73，并且针73的顶端自溶液管71的顶端略微突出。溶液管71的内部被基质溶液充满，其基端侧插入到容纳有基质溶液的溶液容器75中。另外，气体管72的基端侧与储气瓶等气体源74连接。由于如上所述溶液管71的顶端由气体管72的顶端部包围，因此当自气体源74供给的高压喷雾气体从气体管72的顶端喷出时，溶液管71的顶端附近被减压(文丘里效应)，从而自该顶端引出基质溶液。自溶液管71的顶端引出的基质溶液被喷雾气体剪切而成为微小液滴，该微小液滴随着喷雾气体的流动而从喷嘴70喷出。此时，通过基质溶液沿着针73流动，提高喷雾气体对基质溶液的剪切效率，从而能够使所述微小液滴更加微细化。由此自喷雾喷嘴70喷射出的基质溶液附着于与喷雾喷嘴70相对配置的试样台81上的样品板P。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-114400号公报([0004])
技术实现思路
专利技术要解决的问题如上所述的基质膜形成装置的喷雾喷嘴70中的溶液管71的顶端部的内径为0.3mm左右，非常小，此外，由于通过喷雾气体的流动而促进基质溶液的干燥，因此在溶液管71的顶端部容易形成基质的结晶块。由于若形成结晶块则喷嘴70堵塞，因此需要用手适当地除去结晶块，或者将喷嘴70的顶端浸到装有溶剂的杯中等来使结晶块溶解。本专利技术是鉴于上述内容而完成的，其目的在于，在用于在质谱成像所使用的样品板形成基质物质的膜的基质膜形成装置中，抑制喷雾喷嘴的堵塞。用于解决问题的方案为了解决上述问题而完成的本专利技术的基质膜形成装置，其特征在于，该基质膜形成装置具有：a)喷雾喷嘴，其具备作为管状流路的溶液管和作为与所述溶液管并行的流路且顶端位于所述溶液管的顶端附近的气体管；b)气体输送部件，其向所述气体管的基端侧输送高压气体；以及c)加压溶液输送部件，其对含有基质辅助激光解吸电离法中使用的基质物质的溶液进行加压并将所述溶液向所述溶液管的基端侧输送。根据上述结构，通过将含有基质物质的溶液(基质溶液)向喷雾喷嘴的溶液管加压输送，能够抑制在喷雾喷嘴形成基质物质的结晶，从而防止喷嘴的堵塞。此外，在上述本专利技术中，气体管的顶端“位于溶液管的顶端附近”是指该气体管的顶端位于能够利用从所述气体管的顶端喷出的气体将从所述溶液管的顶端流出的溶液剪切而使其成为微小液滴的程度的距离。另外，所述“高压气体”是指绝对压力高于大气压的压力的气体。期望的是，上述本专利技术的基质膜形成装置还具有：d)控制部件，其对所述气体输送部件和所述加压溶液输送部件进行控制，以执行喷嘴清洗模式，在该喷嘴清洗模式中，在停止了利用所述气体输送部件向所述气体管的气体输送的状态下，利用所述加压溶液输送部件进行所述溶液的输送。这样，通过执行在停止了向喷雾喷嘴的气体供给的状态下向该喷雾喷嘴输送基质溶液的“喷嘴清洗模式”，能够使在溶液管的内部、顶端部形成的基质物质的结晶溶解在基质溶液中而去除。由此，能够防止由于结晶的附着而导致流路狭窄，从而实现稳定的喷雾。此外，作为所述加压溶液输送部件，例如也能够使用注射泵等，但是为了防止因泵的脉动而引起的导入量的变动，期望的是，加压溶液输送部件通过对基质溶液的液面加压来进行加压送液。即，期望的是，在上述本专利技术的基质膜形成装置中，所述加压溶液输送部件具有：密闭容器，其贮存有所述溶液；溶液配管，其一端与所述溶液管的基端侧连接，另一端配置在所述密闭容器内的下部；以及加压用气体导入部件，其向所述密闭容器内的上部空间导入气体。在此，“上部空间”是指所述密闭容器的内部中的比基质溶液的液面靠上方的空间。另外，在如上所述通过利用气体对基质溶液的液面加压来进行基质溶液的输送的情况下，期望构成为从同一气体源供给用于对液面加压的气体和向喷雾喷嘴供给的气体。即，期望的是，在本专利技术的基质膜形成装置中，所述气体输送部件具有：气体源，其用于供给非活性气体；以及气体流路，其将所述气体管的基端侧与所述气体源相连，所述加压用气体导入部件将自设于所述气体输送部件的所述气体源供给的非活性气体向所述密闭容器内的上部空间导入。另外，期望的是，在本专利技术的基质膜形成装置中，所述加压溶液输送部件具有：溶液容器，其容纳有所述溶液；以及阻力管，其插装在从该溶液容器到所述溶液管的基端侧的溶液流路上，且具有比所述溶液管中的流路阻力大的流路阻力。通过设置这样的阻力管，能够相对地减小喷雾喷嘴中的流路阻力的变动的影响，所述流路阻力的变动是由于因结晶的附着而导致的流路狭窄、针的安装情况的差异、或者由加工误差引起的各零部件的相对位置的变动等而引起的，因此能够始终以恒定量进行喷雾。专利技术的效果如上所述，根据本专利技术的基质膜形成装置，能够防止由于在喷雾喷嘴内形成基质溶液的结晶而导致本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基质膜形成装置，其特征在于，/n该基质膜形成装置具有：/na)喷雾喷嘴，其具备作为管状流路的溶液管和作为与所述溶液管并行的流路且顶端位于所述溶液管的顶端附近的气体管；/nb)气体输送部件，其向所述气体管的基端侧输送高压气体；以及/nc)加压溶液输送部件，其对含有基质辅助激光解吸电离法中使用的基质物质的溶液进行加压，并将所述溶液向所述溶液管的基端侧输送。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基质膜形成装置，其特征在于，
该基质膜形成装置具有：
a)喷雾喷嘴，其具备作为管状流路的溶液管和作为与所述溶液管并行的流路且顶端位于所述溶液管的顶端附近的气体管；
b)气体输送部件，其向所述气体管的基端侧输送高压气体；以及
c)加压溶液输送部件，其对含有基质辅助激光解吸电离法中使用的基质物质的溶液进行加压，并将所述溶液向所述溶液管的基端侧输送。


2.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，
该基质膜形成装置还具有：
d)控制部件，其对所述气体输送部件和所述加压溶液输送部件进行控制，以执行喷嘴清洗模式，在该喷嘴清洗模式中，在停止了利用所述气体输送部件向所述气体管的气体输送的状态下，利用所述加压溶液输送部件进行所述溶液的输送。


3.根据权利要求1所述的基质膜形成装置，其特征在于，
所述加压溶液输送部件...

【专利技术属性】
技术研发人员：寺岛健太，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP