热转印片、脱模层用涂布液以及热转印片的制造方法技术

提供一种能够稳定地形成性能差异的偏差小的脱模层的脱模层用涂布液；另外，提供使用了该脱模层用涂布液的热转印片的制造方法；另外，提供具有稳定的脱模性的热转印片。一种热转印片，其具有基材(1)、设置于基材(1)上的脱模层(2)、和设置于上述脱模层(2)上的转印层(10)，其中，上述转印层(10)设置成能够从上述脱模层(2)剥离，上述脱模层(2)含有倍半硅氧烷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热转印片、脱模层用涂布液以及热转印片的制造方法
本专利技术涉及热转印片、脱模层用涂布液以及热转印片的制造方法。
技术介绍
以被转印体的表面的保护、例如形成于热转印图像接收板的图像或形成于卡基材上的图像的保护为目的，使用具备包含保护层(有时也称为剥离层)的单层结构、或层积结构的转印层的热转印片(有时也称为保护层转印片)，在被转印体上进行转印层的转印。转印有转印层的被转印体被用于以身份证、驾驶执照、会员证等等ID卡为代表的多种用途。另外，还已知设有包含接受层的单层结构、或层积结构的转印层的热转印片(有时也称为中间转印介质)等。转印层在被转印体上的转印通过下述方式进行：使被转印体与具备转印层的热转印片重合，对热转印片施加能量，将转印层转印到被转印体上后，将该转印层从热转印片的基材侧剥离，由此来进行。对于这样的热转印片，要求转印层的耐久性良好；并且，在将转印到被转印体上的转印层从热转印片的基材侧剥离时的剥离性(有时也称为脱模性)良好。对转印层的耐久性进行了各种研究，例如，在专利文献1中提出了一种热转印片，其中，在基材上依次设置剥离层、应力松弛层作为转印层，并由电离辐射固化型树脂构成剥离层。根据专利文献1中提出的热转印片，通过利用电离辐射固化型树脂提高剥离层的硬度，能够对转印层赋予高耐久性。但是，转印层的剥离性与转印层的耐久性处于此消彼长的关系，在为了提高转印层的耐久性而提高了转印层的硬度的情况下，具有转印层的剥离性降低的倾向。特别是，在对转印层赋予了耐久性的情况下，转印层的剥离前头部的剥离性降低，原本应被转印到被转印体侧并从热转印片的基材侧剥离的转印层容易发生下述转印层的前头部的未转印(以下称为前头未转印)，即未从基材侧剥离而残存在热转印片侧。另外，在着眼于转印层的剥离性而降低了转印层的硬度的情况下，转印层的耐久性具有降低的倾向。需要说明的是，在转印层的剥离性降低的情况下，容易发生转印层的未转印、或拖尾等。另外，作为能够改善转印层的剥离性的热转印片，提出了在基材与转印层之间设置脱模层、并将脱模层与转印层的界面作为转印界面的热转印片等。需要说明的是，此处所说的脱模层是在对转印层进行转印时残留在基材侧的层。这种脱模层的形成如下进行：将具有脱模性的成分溶解或分散于适当的溶剂中而制备涂布液，将该涂布液涂布到基材上并进行干燥，由此进行这种脱模层的形成。顺便提及，用于对脱模层赋予脱模性的成分存在下述问题：在涂布含有该成分的涂布液并进行干燥而形成脱模层时，容易受到外部环境的影响，对最终形成的脱模层所赋予的脱模性的性能容易产生偏差。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平7-186514号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是鉴于这种情况而进行的，其主要课题在于提供一种热转印片，该热转印片能够抑制将转印层转印到被转印体上时的前头未转印的发生，并且能够对通过将转印层转印到被转印体上而得到的印相物赋予耐久性。另外，本专利技术的主要课题在于提供一种能够稳定地形成性能差异的偏差小的脱模层的脱模层用涂布液；另外，提供使用了该脱模层用涂布液的热转印片的制造方法；另外，提供具有稳定的脱模性的热转印片。用于解决课题的手段用于解决上述课题的本专利技术的实施方式的热转印片具有基材、设置于基材上的脱模层、和设置于脱模层上的转印层，转印层设置成能够从脱模层剥离，脱模层含有倍半硅氧烷。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片为具有基材、设置于基材上的脱模层、和设置于脱模层上的转印层的热转印片，转印层设置成能够从脱模层剥离，脱模层含有倍半硅氧烷，在剥离温度20℃以上40℃以下、剥离角度90°的条件下，将转印层剥离时的初始断裂剥离力为5mN/m以下，在剥离温度20℃以上70℃以下、剥离角度60°以上的条件下，将转印层剥离时的初始断裂剥离力为1.97mN/m以下，利用依据JIS-K-5600-5-5的方法测定转印层的位于基材侧的面时的划痕硬度(使用尖端半径为0.1mm蓝宝石针)为200g以上。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片具有基材、设置于基材上的脱模层、和设置于脱模层上的转印层，转印层设置成能够从脱模层剥离，脱模层含有具有环氧基的倍半硅氧烷与具有羧基的树脂的反应物。另外，上述热转印片中，具有羧基的树脂的酸值可以为10mgKOH/g以上。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的脱模层用涂布液为用于形成热转印片的脱模层的脱模层用涂布液，其含有倍半硅氧烷。另外，上述脱模层用涂布液中，脱模层用涂布液进一步含有具有羧基的树脂，倍半硅氧烷可以为具有环氧基的倍半硅氧烷。另外，上述脱模层用涂布液中，具有羧基的树脂的酸值可以为10mgKOH/g以上。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片的制造方法包括：在基材上形成脱模层的工序；和在脱模层上形成转印层的工序，形成脱模层的工序是涂布上述脱模层用涂布液并进行干燥的工序。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片为具有基材和设置于基材上的转印层的热转印片，其中，在剥离温度20℃以上40℃以下、剥离角度90°的条件下，将转印层剥离时的初始断裂剥离力为5mN/m以下，利用依据JIS-K-5600-5-5的方法测定转印层的位于基材侧的面时的划痕硬度(使用尖端半径为0.1mm蓝宝石针)为200g以上。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片为具有基材和设置于基材上的转印层的热转印片，其中，转印层呈仅由保护层构成的单层结构、或包含保护层的层积结构，保护层含有活性光线固化性树脂的固化物，在剥离温度20℃以上40℃以下、剥离角度90°的条件下，将转印层剥离时的初始断裂剥离力为5mN/m以下。另外，上述的热转印片中，与转印层直接接触的脱模层位于基材与转印层之间，脱模层的位于转印层侧的表面的表面粗糙度(SRa)可以为0.05μm以上0.08μm以下。另外，上述的热转印片中，与转印层直接接触的脱模层位于基材与转印层之间，脱模层相对于该脱模层的总质量以0.5质量％以上1.5质量％以下含有填料，填料的体积平均粒径可以为2μm以上5μm以下。另外，上述的热转印片中，利用依据JIS-Z-8741的方法测定转印到被转印体上后的转印层的表面时的光泽度(测定角度20°)可以为55％以上。另外，用于解决课题的本专利技术的实施方式的热转印片为具有基材和设置于基材上的转印层的热转印片，其中，转印层呈包含保护层的单层结构、或层积结构，保护层含有活性光线固化性树脂的固化物，在剥离温度20℃以上70℃以下、剥离角度60°以上的条件下，将转印层剥离时的初始断裂剥离力为1.97mN/m以下。上述的热转印片中，利用依据JIS-K-5600-5-5的方法测定转印层的位于基材侧的面时的划痕硬度(使用尖端半径为0.1mm蓝宝石针)可以为200g以上。上述的热转印片中，保护层可以进一步含有体积平均粒径为0.1μm以上2μm以下的第1填料和体积平均粒径为40nm以下的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种热转印片，其为具有基材、设置于所述基材上的脱模层、和设置于所述脱模层上的转印层的热转印片，/n所述转印层设置成能够从所述脱模层剥离，/n所述脱模层含有倍半硅氧烷。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180131 JP 2018-015583;20180131 JP 2018-015584;201.一种热转印片，其为具有基材、设置于所述基材上的脱模层、和设置于所述脱模层上的转印层的热转印片，
所述转印层设置成能够从所述脱模层剥离，
所述脱模层含有倍半硅氧烷。


2.一种热转印片，其为具有基材、设置于所述基材上的脱模层、和设置于所述脱模层上的转印层的热转印片，
所述转印层设置成能够从所述脱模层剥离，
所述脱模层含有倍半硅氧烷，
在剥离温度20℃以上40℃以下、剥离角度90°的条件下，将所述转印层剥离时的初始断裂剥离力为5mN/m以下，
在剥离温度20℃以上70℃以下、剥离角度60°以上的条件下，将所述转印层剥离时的初始断裂剥离力为1.97mN/m以下，
利用依据JIS-K-5600-5-5的方法测定所述转印层的位于所述基材侧的面时的划痕硬度为200g以上，其中，使用尖端半径为0.1mm蓝宝石针。


3.一种热转印片，其为具有基材、设置于所述基材上的脱模层、和设置于所述脱模层上的转印层的热转印片，
所述转印层设置成能够从所述脱模层剥离，
所述脱模层含有：具有环氧基的倍半硅氧烷与具有羧基的树脂的反应物。


4.如权利要求3所述的热转印片，其中，所述具有羧基的树脂的酸值为10mgKOH/g以上。


5.一种脱模层用涂布液，其为用于形成热转印片的脱模层的脱模层用涂布液，
其含有倍半硅氧烷。


6.如权利要求5所述的脱模层用涂布液，其中，所述脱模层用涂布液进一步含有具有羧基的树脂，所述倍半硅氧烷是具有环氧基的倍半硅氧烷。


7.如权利要求6所述的脱模层用涂布液，其中，所述具有羧基的树脂的酸值为10mgKOH/g以上。


8.一种热转印片的制造方法，该热转印片的制造方法包括：在基材上形成脱模层的工序；和在所述脱模层上形成转印层的工序，
所述形成脱模层的工序是在所述基材上涂布权利要求5～7中任一项所述的脱模层用涂布液并进行干燥的工序。


9.一种热转印片，其为具有基材和设置于所述基材上的转印层...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田和哉，芋田智彦，今仓禄浩，庄子宁将，福井大介，服部良司，黑田浩一郎，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP