一种CO2点阵激光杀菌实验方法技术

本发明专利技术公开一种CO2点阵激光杀菌实验方法，对第一菌种和第二菌种无菌操作接种于固体培养基中培养；从固体培养基中提取每一菌种的单个菌落接种于5ml液体培养基中并置于37℃的恒温摇床培养；取2.5ml培养液加入10ml液体培养基置于37℃恒温摇床培养；通过与麦氏比浊管比浊，将液体培养基菌液制备成三种浓度的菌液；取每一菌种每一浓度的菌液涂布于培养皿；利用CO2点阵激光对涂布细菌的培养皿中心进行照射，每一种菌三种浓度对应的培养皿分别采用照射能量强度为3J、8J、12J的CO2点阵激光照射1ms；将每一菌种每一浓度的菌液照射后的培养皿置于37℃的细菌培养箱中培养；于照射后连续观察被激光照射后的培养皿上有无菌落生长，如有菌落生长则计数细菌以CFU表示。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种CO2点阵激光杀菌实验方法，其特征在于，包括以下步骤：对第一菌种和第二菌种分别进行无菌操作，接种于固体培养基中，并置于37℃的细菌培养箱中培养24h；从所述固体培养基中提取第一菌种的单个菌落接种于5ml的第一液体培养基中，从所述固体培养基中提取第二菌种的单个菌落接种于5ml的第二液体培养基中，并分别置于37℃、转速为210r/min的恒温摇床培养18h；从所述第一液体培养基取2.5ml培养液加入10ml的第三液体培养基中，从所述第二液体培养基取2.5ml培养液加入10ml的第四液体培养基中，并分别置于37℃、转速为210r/min的恒温摇床培养18h；根据比浊法，通过与麦氏比浊管比浊，将所述第三液体培养基和所述第四液体培养基的菌液分别制备成三种浓度的菌液；通过移液枪分别取每一菌种每一浓度的菌液0.5ml均匀涂布于培养皿，其中每一菌种每一浓度的菌液分别各涂4个培养皿，每一菌种每一浓度的菌液对应的4个培养皿中的3个作为平衡样本，分别对应一种照射能量强度的激光，其余1个作为对照样本，并分别自然风干；利用CO2点阵激光对涂布细菌的培养皿中心进行照射，其中每一种菌三种浓度对应的3个培养皿分别采用照射能量强度为3J、8J、12J的CO2点阵激光单独照射1ms，其中CO2点阵激光的点阵密度2mm，照射面积为2cm×2cm；将每一菌种每一浓度的菌液对应的照射后的3个培养皿及作为对照的培养皿置于37℃的细菌培养箱中培养24h；于照射后第1天至第7天连续观察放置于37℃的细菌培养箱中的、被激光照射后的3个培养皿及作为对照的培养皿上有无菌落生长，如有菌落生长，则计数细菌以菌落形成单位CFU表示。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王宏伟，陈颖白，
申请(专利权)人：中国医学科学院北京协和医院，
类型：发明
国别省市：北京;11