【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板
本说明书一个或多个实施例涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板。
技术介绍
随着显示器技术发展和更新换代,有机电致发光显示器件(OrganicElectroluminanceDisplay,简称为OLED)由于具有自发光、高亮度、高对比度、低工作电压、可制作柔性显示器等特点,已经逐渐成为显示领域的主流产品。为实现影像采集功能,参考图1,OLED显示面板需要在有效显示区(ActiveArea,简称为AA区)开设一开孔区以设置影像采集组件。然而,通过相关技术制作出的显示面板,普遍在AA区靠近开孔区的位置处存在较多暗点(也称为坏点)的情况,严重影响正常显示。
技术实现思路
有鉴于此,本说明书一个或多个实施例的目的在于提出一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板。基于上述目的,本说明书一个或多个实施例提供了一种阵列基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成隔离柱;设置阳极材料,并对所述阳极材料进行构图工艺,形成 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:/n在衬底基板上形成隔离柱;/n设置阳极材料,并对所述阳极材料进行构图工艺,形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层;/n通过构图工艺,去除所述保护层以露出所述隔离柱。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成隔离柱;
设置阳极材料,并对所述阳极材料进行构图工艺,形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层;
通过构图工艺,去除所述保护层以露出所述隔离柱。
2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,在形成隔离柱之前,还包括:
在衬底基板上,从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向,依次形成聚酰亚胺层、隔离缓冲层、遮光层和层间介质层。
3.根据权利要求2所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述形成隔离柱,包括:
在所述层间介质层上,形成源漏极层和所述隔离柱。
4.根据权利要求3所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述形成源漏极层和所述隔离柱之后,还包括:在所述源漏极层上形成平坦层;
所述设置阳极材料,包括:
通过溅射成膜工艺,在所述平坦层和所述隔离柱上覆盖所述阳极材料。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述隔离柱包括:从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方...
【专利技术属性】
技术研发人员:贾立,高涛,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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