【技术实现步骤摘要】
一种高分辨颗粒检测装置
本专利技术属于颗粒检测
，具体涉及一种高分辨颗粒检测装置。
技术介绍
在近场光刻
中，样片表面的清洁程度是影响光刻质量的重要因素之一，如何能有效的检测样片上的污染颗粒物一直都是近场光刻领域的研究热点。把洁净度检测作为清洗工艺的评判手段，可以让技术人员确定当前清洗工艺能否满足光刻要求，同时及时对清洗工艺进行改进，以提高样片的洁净度。基于暗场成像的光学检测方法，便于实现在线颗粒检测，同时暗场成像相较于明场成像抑制了背景光线的影响，具有更高的信噪比和图像对比度，因此更适合对颗粒物边界和轮廓进行观测。本专利技术是一种高分辨颗粒检测装置，基于暗场成像的原理，实现了对样片表面的颗粒污染情况进行高分辨力检测。
技术实现思路
本专利技术需要解决的技术问题是：提出一种高分辨颗粒检测装置，该装置基于暗场成像理论，在不接触测试样片的情况下，实现了对样片表面的颗粒污染情况进行高分辨力检测。本专利技术解决上述技术问题采用的技术方案是：一种高分辨颗粒检测装置，该装置包括用于...
【技术保护点】
1.一种高分辨颗粒检测装置，其特征在于：该装置包括：用于隔离人员和空气等扰动与污染的隔离罩(1)；用于支撑和定位连接各分系统的支架(2)；用于承载测试样片、调节样片与成像系统共轴、检测区域定位和大面积检测步进拼接的工件台系统(3)；用于物镜切换、自动聚焦、检测成像的成像系统(4)；用于颗粒检测照明的照明系统(5)；用于控制工件台系统精密定位、控制物镜切换与自动聚焦、图像采集与处理的控制系统(6)；其中：/n所述的工件台系统(3)包括六轴调节平台(3-1)、承片台(3-2)、测试样片(3-3)，其中，测试样片(3-3)放置在承片台(3-2)上，承片台(3-2)固定在六轴调节平...
【技术特征摘要】
1.一种高分辨颗粒检测装置，其特征在于：该装置包括：用于隔离人员和空气等扰动与污染的隔离罩(1)；用于支撑和定位连接各分系统的支架(2)；用于承载测试样片、调节样片与成像系统共轴、检测区域定位和大面积检测步进拼接的工件台系统(3)；用于物镜切换、自动聚焦、检测成像的成像系统(4)；用于颗粒检测照明的照明系统(5)；用于控制工件台系统精密定位、控制物镜切换与自动聚焦、图像采集与处理的控制系统(6)；其中：
所述的工件台系统(3)包括六轴调节平台(3-1)、承片台(3-2)、测试样片(3-3)，其中，测试样片(3-3)放置在承片台(3-2)上，承片台(3-2)固定在六轴调节平台(3-1)上。其中，六轴调节平台(3-1)需满足测试样片(3-3)的位置和姿态调节要求，从而满足检测成像要求和整片拼接检测要求，其中，承片台(3-2)需兼容不同测试样片(3-3)的安装；
所述的成像系统(4)包括成像镜架(4-1)、自动聚焦模块(4-2)、物镜切换模块(4-3)、成像物镜(4-4)、CCD(4-5)，其中CCD(4-5)安装在成像镜架(4-1)的上端，自动聚焦模块(4-2)安装在成像镜架(4-1)的下端，物镜切换模块(4...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，赵承伟，王长涛，刘利芹，罗云飞，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51
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