一种控深锣槽工艺制造技术

技术编号:24467906 阅读:137 留言:0更新日期:2020-06-10 19:21
本发明专利技术涉及一种控深锣槽工艺,其步骤为:S1、压合、外层钻孔后,机械锣槽,槽深小于实际槽深;S2、采用激光对槽进行切割,使其与实际要求深度一致;S3、进行去碳处理;S4、再进行沉铜、全板电镀、外层图形、图形电镀处理;S5、机械第二次锣槽,余留一层铜层;S6、利用激光对余留铜层切割,但不将余留铜层切除,沿槽棱边切割形成沟槽;S7、用具有针头的管先向沟槽处喷洒腐蚀剂,逐步向中心喷洒腐蚀剂,清洗并干燥;S8、利用弱激光束对腐蚀后的槽底部进行平整处理,然后再除胶处理;S9、然后再进行蚀刻、丝印阻焊、沉银、检测处理。本发明专利技术达到的有益效果是:不容易对下层层板表面产生损伤、槽质量好。

A technology of deep control gongs groove

【技术实现步骤摘要】
一种控深锣槽工艺
本专利技术涉及PCB板制备
,特别是一种控深锣槽工艺。
技术介绍
对于一些尺寸以及厚度较大的PCB板来说,锣槽时其精度要求不是特别高。但是,随着电子产品向薄、小、微的方向发展,对PCB的槽精度要求也原来越高。由于PCB板是由多层板材压合形成的,因此目前对于四壁有铜底面无铜的槽,普遍操作大致步骤为:压合-外层钻孔-初步锣槽-沉铜-电镀-第二次锣槽-蚀刻……初步锣槽是一次性锣槽深度到位,第二次锣槽主要是去除底部的铜。但是初步锣槽时,一步锣槽到位只能是理论上的,实时上却很容易伤及底层的层板。例如,共有5层的层板,锣槽深度为4层层板,即到第5层层板的表面为止,若采用一步锣槽到位很容易损伤第五层的表面;即便是一些锣槽精度高的设备,也只能是精度得到提高,很难保证不伤及第5层层板的表面。为此,本公司采用一种控深锣槽工艺,以消除上述缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种不容易对下层层板表面产生损伤、槽质量好的控深锣槽工艺。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现:一种控深锣槽工艺,其步骤为:S1、压合、外层钻孔后,采用控深锣槽机进行第一次锣槽,形成初槽,初槽的深度小于实际槽深;S2、采用激光对初槽沿槽底棱边进行切割,将树脂烧除,加工后的槽为成型槽,成型槽的深度与实际深度要求一致;S3、采用等离子除胶设备对步骤S2中的成型槽进行去碳处理;S4、再进行沉铜、全板电镀、外层图形、图形电镀处理;S5、步骤S4完成后,采用控深锣槽机进行第二次锣槽,锣槽时在槽底部余留一层铜层;S6、利用激光对步骤S5中的槽底棱边处进行切割,但是不将余留铜层切除,在余留铜层的上表面沿槽底棱边激光切一个沟槽;S7、药物处理,用具有针头的管先向沟槽处喷洒腐蚀剂,逐步向中心喷洒腐蚀剂,腐蚀余留铜层,俯视腐蚀完成后清洗并干燥;S8、利用弱激光束对腐蚀后的槽底部进行平整处理,然后再除胶处理;S9、然后再进行蚀刻、丝印阻焊、沉银、检测处理。进一步地,所述的步骤S1中,所述控深锣槽的锣头具有倒角,使得初槽的底部棱边处具有厚料。优先地,所述的步骤S1中,在初步锣槽时,采用具有出气头的出气管对准初槽孔,将初槽内的杂物吹走;所述的步骤S2中,在用激光切割初槽时,采用具有吸气头的吸气管对准槽,将槽内的杂物吸走,避免粘在切割的熔化区域,影响切割。优选地,所述的步骤S7中,腐蚀的时间为3~10min。进一步地,所述的步骤S1中,初槽的底面高于下一层层板。优选地,所述的步骤S5中,余留铜层的厚度为50~100um。优选地,所述的步骤S8中,弱激光束平整处理的时间小于5min。本专利技术具有以下优点:(1)在第一次锣槽时未锣至下一层层板表面,留有余料且余料在槽底棱边处具有厚料,再用激光切割余料至下一层层板表面,不会对下一层层板表面产生损伤;在沉铜后,先机械锣槽,且有余留铜层,不会损伤下一层层板表面;(2)在对余留铜层进行处理时,是先腐蚀后再用弱激光束进行平常处理,腐蚀后能去除部分铜且能使铜变得疏松,利于弱激光处理;而采用弱激光而非之前步骤中的普通激光进行平整处理,是因为铜的热导性好,一般的激光对铜进行处理时也会影响下一层表面,而在步骤S2中时由于激光切割时间短,所以不同担心该风险;(3)激光切割形成沟槽的方式,是为后续的腐蚀以及平整处理规划范围,避免操作失误出现扩大腐蚀或者平整范围的情况。具体实施方式下面对本专利技术做进一步的描述,但本专利技术的保护范围不局限于以下所述。本方案公开了一种控深锣槽工艺,其步骤为:S1、压合、外层钻孔后,采用控深锣槽机进行第一次锣槽,形成初槽,初槽的深度小于实际槽深;在初步锣槽时,由于采用机械的方式且是对未加工的板进行处理,因此含有较多锣去后的杂物,采用具有出气头的出气管对准初槽孔,将杂物吹走,清理干净;S2、采用激光对初槽沿槽底棱边进行切割,将树脂烧除,加工后的槽为成型槽,成型槽的深度与实际深度要求一致;由于此时切割的料少,料是被熔化或者烧蚀的,有烟气,采用具有吸气头的吸气管对准槽,将烟尘吸走,避免熔化后的区域粘上烟尘,当沉铜后,这些烟尘若脱落则会影响槽的质量;S3、采用等离子除胶设备对步骤S2中的成型槽进行去碳处理;S4、再进行沉铜、全板电镀、外层图形、图形电镀处理;S5、步骤S4完成后,采用控深锣槽机进行第二次锣槽,锣槽时在槽底部余留一层铜层,余留铜层的厚度为50~100um,这个厚度的铜层不会太薄,不会损伤下层层板,也不会太厚,利于后续的激光以及腐蚀处理;S6、利用激光对步骤S5中的槽底棱边处进行切割,但是不将余留铜层切除,在余留铜层的上表面沿槽底棱边激光切一个沟槽;S7、药物处理,用具有针头的管先向沟槽处喷洒腐蚀剂,逐步向中心喷洒腐蚀剂,腐蚀余留铜层,腐蚀的时间优先为3~10min,过渡腐蚀可能将槽壁上的铜腐蚀掉,俯视腐蚀完成后清洗并干燥;S8、利用弱激光束对腐蚀后的槽底部进行平整处理,然后再除胶处理;S9、然后再进行蚀刻、丝印阻焊、沉银、检测处理。本实施例中,步骤S1中,控深锣槽的锣头具有倒角,使得初槽的底部棱边处具有厚料。在进行步骤S2的激光处理时,切割棱边处时即便在高温下也不会轻易地向外熔化扩张,形成阔口,使槽底轮廓与槽壁的轮廓保持一致。本实施例中,步骤S1中,初槽的底面高于下一层层板,且槽实际深度的底面是下一层层板的表面。本实施例中,步骤S8中,弱激光束平整处理的时间小于5min,由于已经腐蚀处理了,余留铜层剩下的铜料已经不多了,用弱激光平整处理不会伤及下一层层板的表面。上述实施例仅表达了较为优选的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对专利技术专利范围的限制。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种控深锣槽工艺,其特征在于:其步骤为:/nS1、压合、外层钻孔后,采用控深锣槽机进行第一次锣槽,形成初槽,初槽的深度小于实际槽深;/nS2、采用激光对初槽沿槽底棱边进行切割,将树脂烧除,加工后的槽为成型槽,成型槽的深度与实际深度要求一致;/nS3、采用等离子除胶设备对步骤S2中的成型槽进行去碳处理;/nS4、再进行沉铜、全板电镀、外层图形、图形电镀处理;/nS5、步骤S4完成后,采用控深锣槽机进行第二次锣槽,锣槽时在槽底部余留一层铜层;/nS6、利用激光对步骤S5中的槽底棱边处进行切割,但是不将余留铜层切除,在余留铜层的上表面沿槽底棱边激光切一个沟槽;/nS7、药物处理,用具有针头的管先向沟槽处喷洒腐蚀剂,逐步向中心喷洒腐蚀剂,腐蚀余留铜层,俯视腐蚀完成后清洗并干燥;/nS8、利用弱激光束对腐蚀后的槽底部进行平整处理,然后再除胶处理;/nS9、然后再进行蚀刻、丝印阻焊、沉银、检测处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种控深锣槽工艺,其特征在于:其步骤为:
S1、压合、外层钻孔后,采用控深锣槽机进行第一次锣槽,形成初槽,初槽的深度小于实际槽深;
S2、采用激光对初槽沿槽底棱边进行切割,将树脂烧除,加工后的槽为成型槽,成型槽的深度与实际深度要求一致;
S3、采用等离子除胶设备对步骤S2中的成型槽进行去碳处理;
S4、再进行沉铜、全板电镀、外层图形、图形电镀处理;
S5、步骤S4完成后,采用控深锣槽机进行第二次锣槽,锣槽时在槽底部余留一层铜层;
S6、利用激光对步骤S5中的槽底棱边处进行切割,但是不将余留铜层切除,在余留铜层的上表面沿槽底棱边激光切一个沟槽;
S7、药物处理,用具有针头的管先向沟槽处喷洒腐蚀剂,逐步向中心喷洒腐蚀剂,腐蚀余留铜层,俯视腐蚀完成后清洗并干燥;
S8、利用弱激光束对腐蚀后的槽底部进行平整处理,然后再除胶处理;
S9、然后再进行蚀刻、丝印阻焊、沉银、检测处理。


2.根据权利要求1所述的一种控深锣槽...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈绍智罗献军张勇王韦罗家兵郑海军罗伟杰
申请(专利权)人:四川锐宏电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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