一种阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括衬底基板、设置于所述衬底基板上的阵列层、设置于所述阵列层上的发光器件层，以及，覆盖所述发光器件层的封装层；所述衬底基板包括位于主显示区的第一部分和位于功能附加区的第二部分，所述第二部分包括靠近所述阵列层的第一侧面，所述第一侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第一凸面。将衬底基板的第二部分以及位于功能附加区的无机膜层设置成类似于凸透镜的结构，从而对功能附加区处的光线进行聚集，提升进入到摄像头等感光元件的光通量。

An array substrate and its preparation method and display panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
全面屏，作为一种全新的显示屏，由于具有极高的屏占比，给人们带来全新的视觉体验和感官冲击，成为显示厂商竞相追求的目标。如图1所示，在全面屏中，摄像头等感光元件12一般采用屏下设计。然而，显示面板上摄像头等感光元件12对应的区域处存在多层透光性较差的膜层11(如栅极金属层以及阴极层等膜层)，从而导致进入到摄像头等感光元件12的光线的光通量较低，影响摄像品质。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板，以解决显示面板上摄像头等感光元件对应的区域处存在多层透光性较差的膜层，从而导致进入到摄像头等感光元件的光线的光通量较低的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：一种阵列基板，所述阵列基板具有主显示区和功能附加区，所述主显示区围绕所述功能附加区的至少一部分设置；所述阵列基板包括：衬底基板；设置于所述衬底基板上的阵列层；设置于所述阵列层上的发光器件层；以及，覆盖所述发光器件层的封装层；其中，所述衬底基板包括位于所述主显示区的第一部分和位于所述功能附加区的第二部分，所述第二部分包括靠近所述阵列层的第一侧面，所述第一侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第一凸面。进一步的，所述第二部分还包括与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第二侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第二凸面。进一步的，所述第二部分的厚度小于所述第一部分的厚度。进一步的，所述阵列层包括位于所述主显示区的第一分体和位于所述功能附加区的第二分体，所述第二分体由多层无机膜层形成。进一步的，每一层所述无机膜层远离所述衬底基板的一侧的侧面均包括向远离所述衬底基板的方向凸起的凸面。进一步的，所述第一分体包括：设置于所述衬底基板上的有源层；覆盖所述有源层的第一绝缘层；设置于所述第一绝缘层上的第一金属层；覆盖所述第一金属层的第二绝缘层；设置于所述第二绝缘层上的第二金属层；覆盖所述第二金属层的层间绝缘层；设置于所述层间绝缘层上的第三金属层；其中，所述阵列基板还包括设置于所述层间绝缘层上且覆盖所述第三金属层的平坦层，以及，设置于所述平坦层上的阳极层和像素定义层；所述功能附加区处设置有贯穿所述像素定义层和所述平坦层的通孔。进一步的，所述第二分体包括：与所述第一绝缘层同层设置的第一无机层；与所述第二绝缘层同层设置的第二无机层；以及，与所述层间绝缘层同层设置的第三无机层。进一步的，所述发光器件层位于所述主显示区，所述封装层填充所述通孔。本专利技术还提供一种阵列基板的制备方法，包括以下步骤：S10、在承载基板的第一侧上与功能附加区对应的位置处形成外凸的凸面结构；S20、在所述承载基板的第一侧上形成衬底基板；S30、在所述衬底基板上形成阵列层；S40、在所述阵列层上形成发光器件层；S50、形成覆盖所述发光器件层的封装层；S60、将所述承载基板与所述衬底基板分离；其中，所述衬底基板包括位于主显示区的第一部分和位于功能附加区的第二部分，所述第二部分包括靠近所述阵列层的第一侧面，所述第一侧面包括向所述阵列层凸起的第一凸面。进一步的，所述步骤S30包括：S31、在所述衬底基板上形成位于所述主显示区的有源层；S32、在所述衬底基板上形成位于所述主显示区的第一绝缘层以及位于所述功能附加区的第一无机层，所述第一绝缘层覆盖所述有源层；S33、形成位于所述第一绝缘层上的第一金属层；S34、形成位于所述第一绝缘层上且覆盖所述第一金属层的第二绝缘层，并形成位于所述第一无机层上的第二无机层；S35、形成位于所述第二绝缘层上的第二金属层；S36、形成位于所述第二绝缘层上且覆盖所述第二金属层的层间绝缘层，并形成位于所述第二无机层上的第三无机层；S37、形成位于所述层间绝缘层上的第三金属层；S38、形成覆盖所述第三金属层的平坦层，并去除所述平坦层位于所述功能附加区的部分，以形成贯穿平坦层的第一通孔；S39、在所述平坦层上形成阳极层和像素定义层，并去除所述像素定义层位于所述功能附加区的部分，以形成贯穿像素定义层的第二通孔。本专利技术还提供一种显示面板，所述显示面板包括上述的阵列基板。本专利技术的有益效果为：仅保留阵列层上位于功能附加区的无机膜层，从而提升功能附加区处的透光率，无需对功能附加区处的无机膜层进行开孔，可以大大减少工艺流程，也可以防止开孔产生的碳粉造成主显示区显示不良，同时将衬底基板的第二部分以及位于功能附加区的无机膜层设置成类似于凸透镜的结构，从而对功能附加区处的光线进行聚集，提升进入到摄像头等感光元件的光通量。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术
技术介绍
中阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术一实施方式中阵列基板的结构示意图；图3为本专利技术另一实施方式中阵列基板的结构示意图；图4为本专利技术一实施方式中阵列基板的制备步骤示意图；图5至图14为一实施方式中阵列基板的制备流程示意图。附图标记：11、膜层；12、感光元件；20、主显示区；30、功能附加区；40、衬底基板；41、第一部分；42、第二部分；421、第一侧面；422、第二侧面；50、阵列层；511、有源层；512、第一绝缘层；513、第一金属层；514、第二绝缘层；515、第二金属层；516、层间绝缘层；517、第三金属层；518、平坦层；519、阳极层；51a、像素定义层；521、第一无机层；522、第二无机层；523、第三无机层；53、水氧阻隔层；54、缓冲层；60、发光器件层；61、发光层；62、阴极层；70、封装层；80、承载基板；91、第一通孔；92、第二通孔。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的显示面板中，显示面板上摄像头等感光元件对应的区域处存在多层透光性较差的膜层，从而导致进入到摄像头等感光元件的光线的光通量较低的技术问题。本专利技术可以解决上述问题。一种阵列基板，如图2所示，所述阵列基板具有主显示区20和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板具有主显示区和功能附加区，所述主显示区围绕所述功能附加区的至少一部分设置；所述阵列基板包括：/n衬底基板；/n设置于所述衬底基板上的阵列层；/n设置于所述阵列层上的发光器件层；以及，/n覆盖所述发光器件层的封装层；/n其中，所述衬底基板包括位于所述主显示区的第一部分和位于所述功能附加区的第二部分，所述第二部分包括靠近所述阵列层的第一侧面，所述第一侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第一凸面。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板具有主显示区和功能附加区，所述主显示区围绕所述功能附加区的至少一部分设置；所述阵列基板包括：
衬底基板；
设置于所述衬底基板上的阵列层；
设置于所述阵列层上的发光器件层；以及，
覆盖所述发光器件层的封装层；
其中，所述衬底基板包括位于所述主显示区的第一部分和位于所述功能附加区的第二部分，所述第二部分包括靠近所述阵列层的第一侧面，所述第一侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第一凸面。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二部分还包括与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第二侧面包括向靠近所述阵列层的方向凸起的第二凸面。


3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二部分的厚度小于所述第一部分的厚度。


4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列层包括位于所述主显示区的第一分体和位于所述功能附加区的第二分体，所述第二分体由多层无机膜层形成。


5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，每一层所述无机膜层远离所述衬底基板的一侧的侧面均包括向远离所述衬底基板的方向凸起的凸面。


6.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一分体包括：
设置于所述衬底基板上的有源层；
覆盖所述有源层的第一绝缘层；
设置于所述第一绝缘层上的第一金属层；
覆盖所述第一金属层的第二绝缘层；
设置于所述第二绝缘层上的第二金属层；
覆盖所述第二金属层的层间绝缘层；
设置于所述层间绝缘层上的第三金属层；
其中，所述阵列基板还包括设置于所述层间绝缘层上且覆盖所述第三金属层的平坦层，以及，设置于所述平坦层上的阳极层和像素定义层；所述功能附加区处设置有贯穿所述像素定义层和所述平坦层的通孔。


7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第二分体包括：
与所述第一绝缘层同层设置的第一无机层；
与所述第二绝缘层同层设...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑颖，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42