光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法技术

本申请涉及光学膜、用于制备光学膜的方法和用于制造有机发光电子装置的方法。所述光学膜包括：基础层，所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层；以及保护层，所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层，其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对；所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于10

Optical film, optical film manufacturing method and organic light emitting electronic device manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜、光学膜制造方法和有机发光电子器件制造方法
本申请要求于2017年10月23日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0137759号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。本公开内容涉及光学膜、用于制备光学膜的方法和用于制造使用所述光学膜的有机发光电子器件的方法。
技术介绍
有机发光器件是自发射型显示装置，此外，与液晶显示器(LCD)不同，有机发光器件因为不需要单独的光源而可以制造得轻而薄。此外，有机发光器件由于低电压驱动而在功耗方面是有利的，并且还具有优异的响应速率、视角和对比度，并且已经被研究作为下一代显示器。有机发光器件的问题在于，它非常易受杂质、氧和水分的影响，因此其特性容易因外部暴露或者水分或氧渗透而劣化，并且寿命缩短。为了解决这样的问题，需要用于防止氧、水分等被引入到有机发光器件中的封装层。封装层包括用于在制造之后保护封装层的保护膜，并且由于材料特性导致的高表面电阻引起的静电，当从封装层剥离保护膜时，一般的保护膜具有残留在封装层中的残留物，并且异物例如污垢或灰尘可能粘附在其上，从而导致本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜，包括：/n基础层，所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层；以及/n保护层，所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层，/n其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结，使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对；/n所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171023 KR 10-2017-01377591.一种光学膜，包括：
基础层，所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层；以及
保护层，所述保护层包括保护膜、各自设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层、以及设置在所述第三抗静电层的与面对所述保护膜的表面相反的表面上的离型层，
其中所述基础层和所述保护层通过粘合剂层粘结，使得所述第二抗静电层和所述离型层彼此面对；
所述粘合剂层的与所述离型层接触的表面的表面电阻大于或等于109Ω/sq且小于或等于5×1012Ω/sq；以及
所述粘合剂层在100kHz下的相对介电常数为3.5或更大。


2.根据权利要求1所述的光学膜，其中所述粘合剂层的厚度大于或等于10μm且小于或等于200μm。


3.根据权利要求1所述的光学膜，其中所述粘合剂层的金属离子含量为50ppm或更小。


4.根据权利要求1所述的光学膜，其中所述粘合剂层为非有机硅系粘合剂层。


5.根据权利要求1所述的光学膜，其中在180°的剥离角和0.3m/分钟的剥离速率下测量的所述粘合剂层对于玻璃的剥离强度大于或等于0.5gf/英寸且小于或等于15gf/英寸。


6.根据权利要求1所述的光学膜，其中所述粘合剂层对于玻璃的润湿时间为1秒至6秒。


7.一种光学膜，包括：
基础层，所述基础层包括基础膜以及各自设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层；以及
粘合剂层，所述粘合剂层设置在所述第二抗静电层的与面对所述基础膜的表面相反的表面上，
其中所述粘合剂层的表面电阻大于或等于10...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔祯珉，闵智眩，宋喜，权润京，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR