光微影图案化系统技术方案

技术编号：24453412 阅读：43 留言：0更新日期：2020-06-10 14:52

一种光微影图案化系统包括：一光罩，其具有图案化特征；一薄膜，其具有多个开口；一辐射源，其用以发射辐射以反射及/或投射该些图案化特征；及一或多个反射镜，其用以将所反射及/或投射的图案化特征引导至一晶圆上。该薄膜用以保护该光罩免受颗粒及浮动污染物的影响。该多个开口占该薄膜的侧表面面积的5％至99.9％。该薄膜可在该些图案化特征的一侧上附接至该光罩、置放在该辐射源与该晶圆之间的一光路旁侧，或置放在反射镜与该辐射源之间的一光路中。该薄膜中的该多个开口由多种条形材料形成，或形成为一蜂巢状结构或一网状结构。

Optical micrograph system

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【技术实现步骤摘要】
光微影图案化系统
本揭露是关于一种半导体制造的装置与系统，特别是关于一种半导体制造使用的光微影图案化系统、薄胶膜及成像系统。
技术介绍
对于诸如深紫外线(DeepUltra-Violet；DUV)光微影的现代光微影工具，薄膜用于保护光罩以免受落下的颗粒及漂浮的污染物影响。薄膜具有用于放射线透射的透明隔膜，且通常附接至框架，该框架定位成与光罩的图案侧相距特定距离。由于薄膜与作为成像表面的图案侧间隔开，因此薄膜的隔膜上的任何颗粒不会在焦平面上，且因此不会在晶圆上产生清晰的影像。对于在约13.5nm波长下操作的极紫外(ExtremeUltra-Violet；EUV)光微影，寻找可用作透明薄膜的合适材料具有挑战性。当前用于透明薄膜的材料在通过薄膜时会消耗EUV辐射约30％的能量。因此，迫切需要一种可用于EUV光微影中的改良薄膜。
技术实现思路
本揭露的实施例为光微影图案化系统。该系统包括：具有图案化特征的光罩；具有多个开口的薄膜，该薄膜用以保护光罩免受颗粒及漂浮污染物的影响；用以发射辐射以反射及/或投射图案化特征的辐射源；及一或多个反射镜，其用以将反射及/或投影的图案化特征引导至晶圆上。附图说明当结合附图阅读时，自以下详细描述将最佳地理解本揭露。须强调，根据行业中的标准实践，各种特征未按比例绘制，且仅用于说明目的。实际上，为了清楚起见，各种特征的尺寸可能任意增大或减小。图1示意性地说明根据本揭露的实施例的安置在光微影遮罩上的薄膜。图2A、图2B及图2C说明根据本揭露...

【技术保护点】
1.一种光微影图案化系统，其特征在于，包括：/n具有图案化特征的光罩；/n具有多个开口的薄膜，该薄膜用以保护该光罩防止微粒及漂浮的污染物影响；/n辐射源，其用以发射辐射以反射及/或投射图案化特征；及/n一或多个反射镜，其用以将所反射及/或投影的图案化特征引导至一晶圆。/n

【技术特征摘要】
20181130 US 62/774,137;20191126 US 16/697,1381.一种光微影图案化系统，其特征在于，包括：
...

【专利技术属性】
技术研发人员：张世明，陈秋翔，刘如淦，陈铭锋，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71

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