【技术实现步骤摘要】
一种激光扫描装置及反射镜的制作方法
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种激光扫描装置及反射镜的制作方法。
技术介绍
目前的激光扫描装置中并没有对激光器做一个反馈控制，激光多为开环控制，而激光器的输出功率会随着温度以及工作时间的变化而发生变化，输出功率的改变会直接影响激光扫描装置的性能。当激光器输出的性能发生变化会直接影激光扫描的扫描精度。然而，激光扫描装置的内部构造本身很密集，直接在激光扫描装置中增加额外的检测激光光强度的部件，会使激光扫描装置的体积增大，降低了激光扫描装置的的泛用性，因此，有必要研制一种新的激光扫描装置结构。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的不足，本专利技术的一方面提供了一种激光扫描装置，包括激光器、反射镜和控制器，其中，所述反射镜能够反射所述激光器所发生的激光的同时，还能够检测该激光的光强度并将所检测的光强度信息传递给所述控制器，所述控制器根据该光强度信息调节所述激光器的输出。优选地，所述反射镜包括基板、光感半导体层和反射层，其中，所述光感半导体层设于所述基板表面上，或者...
【技术保护点】
1.一种激光扫描装置，其特征在于，包括激光器、反射镜和控制器，其中，所述反射镜能够反射所述激光器所发生的激光的同时，还能够检测该激光的光强度并将所检测的光强度信息传递给所述控制器，所述控制器根据该光强度信息调节所述激光器的输出。/n
【技术特征摘要】
1.一种激光扫描装置，其特征在于，包括激光器、反射镜和控制器，其中，所述反射镜能够反射所述激光器所发生的激光的同时，还能够检测该激光的光强度并将所检测的光强度信息传递给所述控制器，所述控制器根据该光强度信息调节所述激光器的输出。
2.根据权利要求1所述的激光扫描装置，其特征在于，所述反射镜包括基板、光感半导体层和反射层，其中，所述光感半导体层设于所述基板表面上，或者嵌设于所述基板中，所述反射层设于所述光感半导体层上，所述光感半导体层用于接收所述激光器所发生的激光并根据该激光的光强度产生不同的电流信号，所述控制器用于接收所述光感半导体层所产生的电流信号并根据该电流信号调节所述激光器的输出。
3.根据权利要求2所述的激光扫描装置，其特征在于，所述反射层的面积大于或等于所述光感半导体层的面积，所述反射层具有至少一通孔，所述光感半导体层通过所述通孔来接收所述激光器所发生的激光。
4.根据权利要求2所述的激光扫描装置，其特征在于，所述反射层的面积小于所述光感半导体层的面积，所述反射层在所述基板上形成的投影区域位于所述光感半导体层在所述基板上形成的投影区域内。
5.根据权利要求2所述的激光扫描装置，其特征在于，所述光感半导体层与所述反射层之间还包括透明绝缘层，所述反射层为金属材...
【专利技术属性】
技术研发人员：余晖俊，沈文江，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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